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公开(公告)号:CN1894629A
公开(公告)日:2007-01-10
申请号:CN200480037241.8
申请日:2004-12-14
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/0007 , G03F7/325
Abstract: 一种光敏组合物去除剂,用于除去未固化光敏组合物,该去除剂含有1到80质量%的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。
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公开(公告)号:CN1498132A
公开(公告)日:2004-05-19
申请号:CN02806838.6
申请日:2002-03-22
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B01J37/0201 , B01J21/08 , B01J23/70 , B01J23/75 , B01J23/755 , B01J25/00 , B01J25/02 , C07C29/132 , C07C31/205
Abstract: 本发明涉及一种催化剂,包含选自周期表第V族元素、第VI族元素、第VII族元素、第VIII族元素、第IX族元素、第X族元素和第XI族元素的至少一种元素,用于使通式(1)所示环氧醇在选自醚、酯、芳烃化合物、脂环烃化合物和脂族烃化合物的至少一种溶剂存在下进行氢解反应。利用该催化剂可有效地生产高纯度的两端羟基封端的二醇。
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