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公开(公告)号：CN102463502A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110328597.9
申请日：2011-10-26
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 羽根田和幸
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B7/228 , B24B9/065 , B24B37/02 , B24B37/08
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，该制造方法可在抛光工序中不使用氧化铈或者降低其使用量，并且在得到充分的耐冲击强度的同时能够以高的生产率制造这样的磁记录介质用玻璃基板。该制造方法顺序地包括：对于具有中心孔的圆盘状的玻璃基板的内外周端面至少实施磨削加工的工序、实施蚀刻加工的工序和实施抛光加工的工序。
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公开(公告)号：CN101266803B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200810082889.7
申请日：2008-03-11
CPC classification number: B08B1/04 , H01L21/67046
Abstract: 一种圆盘状基板的制造方法、清洗装置，使得能够实现更加稳定的擦洗，制造出颗粒少的良好圆盘状基板。该圆盘状基板的清洗装置在供给清洗液的同时对圆盘状基板(10)的表面进行擦洗，该清洗装置包括：圆筒形的第一多孔质辊子(110a)，其可以与圆盘状基板(10)的第一面接触；圆筒形的第二多孔质辊子(110b)，其可以与圆盘状基板(10)的第二面接触；以及轴间距离变更机构，其使第一多孔质辊子(110a)和第二多孔质辊子(110b)在改变它们的轴间距离的方向即x方向上移动，该轴间距离变更机构使第一多孔质辊子(110a)和第二多孔质辊子(110b)停止在预先设定的轴间位置上，并与圆盘状基板(10)接触。
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公开(公告)号：CN101143422B
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN200710149285.5
申请日：2007-09-11
IPC: B24B5/48
Abstract: 本发明提供一种圆盘状基板的内周研磨方法，其通过简便的方法没有差别且精度良好地研磨圆盘状基板的中心的开孔。该圆盘状基板的内周研磨方法对在中心具有开孔的圆盘状基板的内周进行研磨，在圆盘状基板的开孔中插入刷子，将该刷子的一端和另一端固定于安装在彼此远离的位置上的一对旋转轴，牵引刷子的一端和/或另一端，对刷子的芯施加轴芯方向的牵引力，使该刷子旋转来进行研磨。
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公开(公告)号：CN101269471A
公开(公告)日：2008-09-24
申请号：CN200810085456.7
申请日：2008-03-17
CPC classification number: B24B7/228 , B24B37/042 , B24B55/06
Abstract: 一种圆盘状基板的制造方法，利用该圆盘状基板的制造方法能够以低廉的设备费用来实现良好的除尘环境，并在该良好的除尘环境中制造出高精度的圆盘状基板。在利用磨削装置(110)和研磨装置(111)对圆盘状基板进行磨削和研磨的工序中，从顶棚(120)向地板面产生气流，在设置有该磨削装置(110)和研磨装置(111)的同一平面中，在地板面上设置由开设有贯通孔(131)的板形成的多孔地板(130)，使水流入该多孔地板(130)的下部，从而借助于来自顶棚(120)的气流将由磨削装置(110)和研磨装置(111)产生的粉尘导入水中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101143422A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710149285.5
申请日：2007-09-11
IPC: B24B5/48
Abstract: 本发明提供一种圆盘状基板的内周研磨方法和内周被研磨的圆盘状基板，其通过简便的方法没有差别且精度良好地研磨圆盘状基板的中心的开孔。该圆盘状基板的内周研磨方法对在中心具有开孔的圆盘状基板的内周进行研磨，在圆盘状基板的开孔中插入刷子，将该刷子的一端和另一端固定于安装在彼此远离的位置上的一对旋转轴，牵引刷子的一端和/或另一端，对刷子的芯施加轴芯方向的牵引力，使该刷子旋转来进行研磨。
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公开(公告)号：CN101010401A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580028933.0
申请日：2005-08-29
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B24B37/04 , C03C17/36 , C03C17/3634 , C03C17/3639 , C03C19/00 , C03C2218/152 , C03C2218/154 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供了一种就待抛光表面的缺陷和光滑度而言具有优异效果的低成本抛光浆料。该抛光浆料包含氧化硅磨料和氧化铈磨料，其中基于全部抛光浆料，氧化硅磨料含量低于3质量％，氧化铈磨料含量低于1质量％。此外，本发明提供了一种用于信息记录介质的结晶玻璃基材的制造方法，其中该方法使用本发明的浆料。此外，本发明提供了一种信息记录介质的制造方法，包括在通过本方法制得的用于信息记录介质的结晶玻璃基材上形成记录层。
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公开(公告)号：CN101010168A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580029021.5
申请日：2005-08-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B24B37/042 , C03C19/00 , G11B5/8404
Abstract: 为了减小磁盘上的磁头漂浮高度，本发明提供一种磁盘基底的制造方法，能够有效地抛光玻璃基底，直到该玻璃基底的平坦度(TIR值)为5微米或更小。本发明涉及一种通过使用研磨盘片研磨的方法来抛光玻璃基底的磁盘基底制造方法，其特征在于，盘片精度被设定到180微米或更小，并且抛光一直进行到所述玻璃基底的平坦度(TIR值)变为5微米或更小为止。通过在这种磁盘基底上形成磁记录层来获得磁盘。
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公开(公告)号：CN102554763A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110320444.X
申请日：2011-10-20
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 羽根田和幸
CPC classification number: B24B37/042 , B24B9/08 , B24B37/08 , B24B37/245 , B24B37/26 , G11B5/82 , G11B5/8404
Abstract: 本发明目的在于提供可以以高生产性制造表面平滑性高、表面起伏小的磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质用玻璃基板制造方法。在第1次、第2次和第3次精研加工中分别使用金刚石垫20A、20B、20C。金刚石垫20A的金刚石磨粒的平均粒径为4～12μm、金刚石磨粒的含量为5～70体积％，金刚石垫20B的金刚石磨粒的平均粒径为1μm～5μm、金刚石磨粒的含量为5～80体积％，金刚石垫20C的金刚石磨粒的平均粒径为0.2μm以上且小于2μm、金刚石磨粒的含量为5～80体积％，在第1次磨光加工中，在作为研磨剂不使用氧化铈而使用氧化硅实施磨光加工的工序之前设置实施蚀刻处理的工序。
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公开(公告)号：CN101010401B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200580028933.0
申请日：2005-08-29
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/73
CPC classification number: B24B37/04 , C03C17/36 , C03C17/3634 , C03C17/3639 , C03C19/00 , C03C2218/152 , C03C2218/154 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供了一种就待抛光表面的缺陷和光滑度而言具有优异效果的低成本抛光浆料。该抛光浆料包含氧化硅磨料和氧化铈磨料，其中基于全部抛光浆料，氧化硅磨料含量低于3质量％，氧化铈磨料含量低于1质量％。此外，本发明提供了一种用于信息记录介质的结晶玻璃基材的制造方法，其中该方法使用本发明的浆料。此外，本发明提供了一种信息记录介质的制造方法，包括在通过本方法制得的用于信息记录介质的结晶玻璃基材上形成记录层。
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