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公开(公告)号:CN102597194A
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN201080041843.6
申请日:2010-09-03
IPC: C10M163/00 , C10M101/02 , C10M129/54 , C10M133/16 , C10M133/56 , C10M135/04 , C10M135/06 , C10M135/10 , C10M135/20 , C10M137/10 , C10M159/22 , C10M159/24 , C10N10/04 , C10N30/06 , C10N40/02 , C10N40/25
CPC classification number: C10M163/00 , C10M2203/1006 , C10M2207/026 , C10M2207/027 , C10M2207/028 , C10M2207/144 , C10M2207/262 , C10M2209/084 , C10M2215/064 , C10M2215/086 , C10M2215/223 , C10M2215/28 , C10M2219/022 , C10M2219/024 , C10M2219/044 , C10M2219/046 , C10M2219/08 , C10M2219/086 , C10M2223/045 , C10M2223/047 , C10N2220/022 , C10N2230/06 , C10N2230/54 , C10N2240/10 , C10N2260/14 , C10N2210/02
Abstract: 本发明提供用于低摩擦滑动材料的润滑油组合物,其是一种即使含有作为抗磨剂的ZnDTP的同时,作为低摩擦滑动材料用润滑油使用的时候也显示低摩擦系数的润滑油组合物,即,在润滑油基础油中混合(A)含有特定的碱土金属的清洁剂,(B)特定的不含硼的琥珀酰亚胺系无灰分散剂,(C)二烷基二硫代磷酸锌和(D)特定的硫系化合物而成的特定的润滑油组合物。
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公开(公告)号:CN110612361A
公开(公告)日:2019-12-24
申请号:CN201880030988.2
申请日:2018-05-09
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 提供一种硬质碳膜的制造技术,所述硬质碳膜于在含有MoDTC的油中滑动时,除了发挥优异的耐磨耗性以外,也可一边抑制研磨处理等所致的成本增高或工夫的产生一边使滑动面平滑化而发挥充分的低摩擦性。一种硬质碳膜,其为形成滑动构件的滑动面的硬质碳膜,含有与碳原子键结的封端用原子,具有一部分自表面突出的多个隆起状形态部,并且多个隆起状形态部的周围分别由封端用原子封端。一种硬质碳膜的制造方法,其为使用将石墨作为蒸发源的电弧蒸镀法在滑动构件的滑动面成膜硬质碳膜的硬质碳膜的制造方法,导入含有与碳原子键结的封端用原子的气体,并且一边利用封端用原子与碳原子键结使多个隆起状形态部周围进行封端,一边使多个隆起状形态部在硬质碳膜的表面成长。
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公开(公告)号:CN102597191A
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN201080041842.1
申请日:2010-09-13
IPC: C10M137/10 , C10M135/20 , C10M137/06 , C10N10/04 , C10N30/06
CPC classification number: C10M141/10 , C10M2201/041 , C10M2201/06 , C10M2203/1006 , C10M2207/026 , C10M2207/262 , C10M2209/084 , C10M2215/064 , C10M2215/223 , C10M2215/28 , C10M2219/044 , C10M2219/046 , C10M2219/082 , C10M2223/042 , C10M2223/045 , C10N2230/06 , C10N2240/10 , C10N2250/14 , C10N2250/141 , C10N2280/00 , Y10T428/265 , Y10T428/30 , C10N2210/02
Abstract: 本发明提供混合从特定的含磷-锌化合物和特定含硫化合物中选出的添加剂而成的,作为低摩擦滑动材料用的润滑油使用的时候显示极低摩擦系数的润滑油组合物,通过使用该润滑油组合物,与在滑动面上具有特定的低摩擦滑动材料膜的滑动构件相组合,提供形成有含氢5~50atom%的DLC膜的低摩擦性优秀的滑动机构,或含钨(W)或钼(Mo)1~30atom%的低摩擦性优秀的滑动机构。
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公开(公告)号:CN106062441B
公开(公告)日:2018-08-28
申请号:CN201480074734.2
申请日:2014-02-13
Applicant: 本田技研工业株式会社
CPC classification number: F16J9/26 , C23C14/0036 , C23C14/025 , C23C14/0605 , C23C16/0272 , C23C16/0281 , C23C16/26 , C23C16/50
Abstract: 提供一种活塞环及其制造方法,所述活塞环即便在使用铝合金制套筒的情况下,也能够充分发挥所需的低摩擦性、耐磨损性和低对偶攻击性。一种活塞环,其是在成为与铝合金制套筒的滑动面的最表层形成有硬质碳膜的活塞环,硬质碳膜在X射线衍射图谱中具有石墨结晶峰。使用化学气相生长法形成有硬质碳膜的活塞环。硬质碳膜的含氢量为20原子%以上且小于30原子%,拉曼光谱中的D带的峰面积ID与G带的峰面积IG之比ID/IG为0.5以上且2.0以下的活塞环。
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公开(公告)号:CN105229317B
公开(公告)日:2018-06-08
申请号:CN201480021180.X
申请日:2014-03-03
Applicant: 本田技研工业株式会社
CPC classification number: F16C11/0604 , C23C14/0605 , C23C14/34 , C23C16/26 , C23C16/50 , F16C11/0685 , F16C2206/04 , F16C2223/42 , F16C2240/64
Abstract: 本发明提供能够以短时间、不导致成本上升且容易地形成具有期望的表面粗糙度和膜硬度的DLC膜,廉价且大量提供具备稳定的滑动特性的球节的技术。一种球节的制造方法,是具备具有球面部的球头螺栓、和活动自由地保持球面部的保持部的球节的制造方法,其具备:基底中间层形成工序,使用溅射法在球面部的表面形成具有微小的表面凹凸结构的基底中间层;和非晶质硬质碳膜形成工序,使用PIG等离子体成膜法在基底中间层之上形成表面的均方根粗糙度为6.5~35nm的非晶质硬质碳膜。
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公开(公告)号:CN106062441A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201480074734.2
申请日:2014-02-13
Applicant: 本田技研工业株式会社
CPC classification number: F16J9/26 , C23C14/0036 , C23C14/025 , C23C14/0605 , C23C16/0272 , C23C16/0281 , C23C16/26 , C23C16/50
Abstract: 提供一种活塞环及其制造方法,所述活塞环即便在使用铝合金制套筒的情况下,也能够充分发挥所需的低摩擦性、耐磨损性和低对偶攻击性。一种活塞环,其是在成为与铝合金制套筒的滑动面的最表层形成有硬质碳膜的活塞环,硬质碳膜在X射线衍射图谱中具有石墨结晶峰。使用化学气相生长法形成有硬质碳膜的活塞环。硬质碳膜的含氢量为20原子%以上且小于30原子%,拉曼光谱中的D带的峰面积ID与G带的峰面积IG之比ID/IG为0.5以上且2.0以下的活塞环。
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公开(公告)号:CN105229317A
公开(公告)日:2016-01-06
申请号:CN201480021180.X
申请日:2014-03-03
Applicant: 本田技研工业株式会社
CPC classification number: F16C11/0604 , C23C14/0605 , C23C14/34 , C23C16/26 , C23C16/50 , F16C11/0685 , F16C2206/04 , F16C2223/42 , F16C2240/64
Abstract: 本发明提供能够以短时间、不导致成本上升且容易地形成具有期望的表面粗糙度和膜硬度的DLC膜,廉价且大量提供具备稳定的滑动特性的球节的技术。一种球节的制造方法,是具备具有球面部的球头螺栓、和活动自由地保持球面部的保持部的球节的制造方法,其具备:基底中间层形成工序,使用溅射法在球面部的表面形成具有微小的表面凹凸结构的基底中间层;和非晶质硬质碳膜形成工序,使用PIG等离子体成膜法在基底中间层之上形成表面的均方根粗糙度为6.5~35nm的非晶质硬质碳膜。
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