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公开(公告)号：CN111788328B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201980016129.2
申请日：2019-03-06
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种耐破坏性、耐剥离性优异，即使用于滑动时反复产生大的接触应力的用途的情况下，也可发挥优异的密合性，并具有充分的耐久性的被膜及其形成方法。一种复合被膜，包覆在基材上，在下层形成有氢含量不足5at％、膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A，在上层形成有氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，硬质碳膜A与硬质碳膜B直接层叠。
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公开(公告)号：CN110770362B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201880040572.9
申请日：2018-06-15
Abstract: 本发明的课题是提供具有示出一定且稳定的抗削性和耐磨损性、并且耐剥离性(密合性)优异的包覆膜的滑动构件、及该包覆膜。其解决方法是滑动构件(10)，其在基材(11)的滑动面(16)具有由硬质碳层形成的包覆膜(1)，上述包覆膜(1)如下所述地构成：通过明视野TEM图像观察包覆膜(1)的剖面时，包含相对地由黑色表示的黑色硬质碳层(B)和相对地由白色表示的白色硬质碳层(W)的重复单元在厚度方向上层叠，且具有1μm～50μm的范围内的厚度，包覆膜(1)具有设置于基材侧的倾斜区域(2)和设置于滑动构件(10)的表面侧的均质区域(3)，在上述倾斜区域(2)，重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上逐渐变大，在上述均质区域(3)，重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上相同或大致相同，从而解决了上述问题。
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公开(公告)号：CN106661715B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201580040273.1
申请日：2015-07-16
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种碳薄膜、制造其的等离子体装置及制造方法，可抑制阴极物质破裂。等离子体装置包括真空容器、电弧式蒸发源、阴极构件、永久磁铁、电源、触发电极及挡板。电弧式蒸发源在真空容器的侧壁上与基板相对向而固定。阴极构件包含具有突起部的玻璃状碳，安装于电弧式蒸发源上。突起部具有大于0.785mm2的剖面积。永久磁铁对阴极构件施加磁场。电源对电弧式蒸发源施加负的电压。触发电极与阴极构件的突起部接触或背离。对电弧式蒸发源施加负的电压，使触发电极与阴极构件的突起部接触而产生电弧放电，打开挡板而在基板上形成碳薄膜。
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公开(公告)号：CN106795619B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201480082002.8
申请日：2014-09-17
Abstract: 本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存而且也改善耐碎片性(耐缺损性)或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜，被覆在基材的表面上，并且形成有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时在相对于基材垂直的方向上相连呈柱状的硬质碳层，硬质碳层是使用PVD法而形成，在利用拉曼分光法对硬质碳层进行测定时，拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1～6。本发明的被覆膜的制造方法及装置使用电弧式PVD法，以将基材温度维持于250℃～400℃的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度和/或炉内压力，并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
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公开(公告)号：CN108368602A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680073541.4
申请日：2016-12-16
Abstract: 提供一种技术，其为PVD法，却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜，并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存，并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，且在利用明视场TEM图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，并且白色的硬质单素层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。一种被覆膜的制造方法，其为使用PVD法在基材的表面上将被覆膜成膜的被覆膜的制造方法，且以基材在超过50℃且200℃以下的低温区域与超过200℃且300℃以下的高温区域之间交替重复进行升温与降温的方式控制对基材的成膜条件，并且使基材自转和/或公转。
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