-
公开(公告)号:CN104471685B
公开(公告)日:2018-02-13
申请号:CN201380037623.X
申请日:2013-07-03
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/005 , B24B37/30 , B24B49/105
Abstract: 一种化学机械研磨装置包含承载头、原处监控系统与控制器,该承载头包含扣环,该扣环具有塑胶部分,该塑胶部分具备与研磨垫接触的底部表面,该原处监控系统包含传感器,该传感器根据该塑胶部分的厚度产生信号,该控制器经配置以从该原处监控系统接收该信号,并响应于该信号调整至少一研磨参数,以补偿因为该扣环塑胶部分厚度的改变所形成的非均匀性。
-
公开(公告)号:CN104471685A
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN201380037623.X
申请日:2013-07-03
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/005 , B24B37/30 , B24B49/105
Abstract: 一种化学机械研磨装置包含承载头、原处监控系统与控制器,该承载头包含扣环,该扣环具有塑胶部分,该塑胶部分具备与研磨垫接触的底部表面,该原处监控系统包含传感器,该传感器根据该塑胶部分的厚度产生信号,该控制器经配置以从该原处监控系统接收该信号,并响应于该信号调整至少一研磨参数,以补偿因为该扣环塑胶部分厚度的改变所形成的非均匀性。
-