图像曝光设备
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101189554A

    公开(公告)日:2008-05-28

    申请号:CN200680019400.0

    申请日:2006-05-31

    Abstract: 一种图像曝光设备,包括:空间光调制元件(50),由用于独立地调制照射到其上的光的多个像素部构成;光源(66),用于将光束B照射到空间光调制元件上;和光学系统(51),用于聚焦由每个像素部承载的图像;以及微透镜阵列(55),在所述微透镜阵列(55)中,以阵列形式设置由像素部调制的光束独立地进入的多个微透镜(55a)。微透镜阵列(55)被设置在像素部通过聚焦光学系统(51)聚焦的聚焦位置附近。微透镜阵列(55)的每个微透镜(55a),在垂直于光轴的平面内的两个方向上具有不同的光焦度,以便修正由于像素部的各向异性的畸变造成的像差。

    图像记录设备和图像记录方法

    公开(公告)号:CN101115625A

    公开(公告)日:2008-01-30

    申请号:CN200680004065.7

    申请日:2006-02-02

    Inventor: 角克人

    CPC classification number: B41J2/465 B41J25/001 G03F7/70291

    Abstract: 按照图像图案(80),调节图像记录单元点(41)之间的阵列间距(ps)、条带倾斜角(θS),以及沿y方向形成的图像记录点之间的图像记录间距(py),或者沿与y方向实际为垂直的方向形成的相邻图像记录点沿y方向的图像记录位置之间的相差(ΔΔy),使锯齿的锯齿间距(pji)或锯齿幅值(aji)为预定值,或更小,以得到良好的图像。

    描绘装置及描绘方法
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1716101A

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200510078585.X

    申请日:2005-06-17

    CPC classification number: G03B27/54 G03F7/70275 G03F7/70291

    Abstract: 组装到曝光装置(描绘装置)的各曝光头(30)中的矩形二维像素阵列,相对于扫描方向构成给定的设定倾斜角度,相对感光材料(12)的曝光面设置。通过狭缝和光检测器的组合测定构成邻接的两个曝光头间的头间连接区域的曝光面上的光点的位置。根据所测定光点的位置,选择像素阵列上的使用像素,以实现将头间连接区域中曝光冗长和不足抑制至最小限度的,接近理想的N重曝光。从而,可以在用多个描绘头在描绘面上形成所期望的二维图案的描绘装置及描绘方法中,减轻由描绘头间相对位置和相对安装角度的误差,以及图案变形等影响引起的分辨性能和浓度的不均。

    光量调节方法及装置
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1595286A

    公开(公告)日:2005-03-16

    申请号:CN200410076850.6

    申请日:2004-09-08

    CPC classification number: G06K15/1214

    Abstract: 一种光量调节方法及装置,由受光部(20)接受具有使感光材料(1)的曝光水平达到预先决定的、所规定的一定曝光水平的光量与波长的关系的光,在输出波长存储部(40)中储存这时的、从受光部(20)输出的输出值与所述光的波长的关系。另外,将从激光照射部(10A、10B)…射出的激光的波长和所述各激光照射部(10A、10B)…之间的对应关系储存在光源波长存储部(45)中。光量调节部(30),参照所述输出波长存储部(40)以及光源波长存储部(45),对各激光的光量进行调节,使得由受光部(20)分别接受从各激光照射部(10A、10B)…射出的各激光并使从受光部(20)输出各输出值满足所述输出值与波长的关系。

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