聚合物薄膜及层叠体
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115725162A

    公开(公告)日:2023-03-03

    申请号:CN202211022578.8

    申请日:2022-08-24

    Inventor: 山田晃

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种介电损耗角正切低,与铜箔的线膨胀系数之差小的聚合物薄膜及层叠体。本发明的聚合物薄膜包含液晶聚合物,其中,在沿聚合物薄膜的厚度方向剖切的剖面中,聚合物薄膜的厚度一半的距离的硬度A与聚合物薄膜的厚度1/10的距离的硬度B满足式(1A)的关系,当将聚合物薄膜的厚度1/10、4/10、6/10的距离分别设为位置T1、位置T2、位置T3,将从一侧表面至位置T1设为第1表层区域、将从位置T2至位置T3设为中央区域时,第1表层区域中的空隙面积比例X与中央区域中的空隙面积比例Y满足式(2A)的关系。式(1A)(硬度A+硬度B)/2≥0.10GPa式(2A)空隙面积比例Y‑空隙面积比例X≥0.10%。

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