光器件及曝光装置
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101299088B

    公开(公告)日:2010-11-10

    申请号:CN200810094943.X

    申请日:2008-04-30

    Abstract: 一种能抑制光输出的降低的光器件及曝光装置。本发明的光器件包含出射短波长(例如160~500nm)的激光的激光光源、透镜、透明部件及光纤而构成。还有,按透明部件和光纤的抵接面上的光密度为140[W/mm2]以下的方式构成光器件。这样就能抑制熔化所造成的光输出的降低。

    光器件及曝光装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101299088A

    公开(公告)日:2008-11-05

    申请号:CN200810094943.X

    申请日:2008-04-30

    Abstract: 一种能抑制光输出的降低的光器件及曝光装置。本发明的光器件包含出射短波长(例如160~500nm)的激光的激光光源、透镜、透明部件及光纤而构成。还有,按透明部件和光纤的抵接面上的光密度为140[W/mm2]以下的方式构成光器件。这样就能抑制熔化所造成的光输出的降低。

    光学设备
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101059588A

    公开(公告)日:2007-10-24

    申请号:CN200710101011.9

    申请日:2007-04-23

    Abstract: 本发明提供一种光学设备,其抑制异物的附着,进而防止在高功率密度范围内的光纤的热粘结,使光源的可靠性提高。光纤(1)具备光源LD;聚光透镜(3),其将从光源LD发出的光束B聚光;电介体块(4),其设置在通过聚光透镜(3)后的光束B的光程上;光纤(30),其以使通过电介体块(4)的光束(B)由入射端面(30A)的芯(5)入射的方式设置。通过将光纤(30)的入射端面(30a)经由具有包围所述光纤(30)入射端面(30a)的芯(5)的孔的层(8)按压在电介体块(4)的射出端面(4b),形成包围芯(5)的入射端面(5a)的密闭空间(SA)。

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