电镀仿真模型构建及仿真方法、装置、处理器及存储介质

    公开(公告)号:CN118504367B

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202410980769.8

    申请日:2024-07-22

    Abstract: 本申请实施例提供一种电镀仿真模型构建及仿真方法、装置、处理器及存储介质,涉及虚拟仿真技术领域,电镀仿真模型构建方法包括:对目标电镀设备的电镀腔体进行几何建模,得到几何模型;确定几何模型的仿真参数信息;确定几何模型的目标物理场及目标物理场的初边值条件,并基于目标物理场进行多物理场耦合,构建出电镀仿真模型;其中,目标物理场包括三次电流分布物理场、层流物理场和电极壳物理场。本申请通过更全面地考虑各种因素对镀层形成过程的影响,提高了仿真结果的准确性和可靠性,从而便于相关人员基于仿真结果提高产品质量和生产效率。

    半透明材料激光烧蚀模拟方法及相关设备

    公开(公告)号:CN118296853B

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202410681168.7

    申请日:2024-05-29

    Abstract: 本申请属于激光烧蚀的技术领域,公开了一种半透明材料激光烧蚀模拟方法及相关设备,该方法包括:获取内部设置有杂质模型的半透明相变材料模型,设置半透明相变材料模型的第一材料参数和杂质模型的第二材料参数,根据激光衰减特征以及半透明相变材料和杂质材料的传热特征和受热膨胀特征,设置耦合比尔‑朗伯定律的固体传热物理场和设有热膨胀节点的固体力学物理场,基于上述数据,对内部设置有杂质模型的半透明相变材料模型进行激光烧蚀模拟,得到激光烧蚀模拟分析结果,通过耦合比尔‑朗伯定律的固体传热物理场和设有热膨胀节点的固体力学物理场,对激光烧蚀过程进行模拟,提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。

    半透明材料激光烧蚀模拟方法及相关设备

    公开(公告)号:CN118296853A

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202410681168.7

    申请日:2024-05-29

    Abstract: 本申请属于激光烧蚀的技术领域,公开了一种半透明材料激光烧蚀模拟方法及相关设备,该方法包括:获取内部设置有杂质模型的半透明相变材料模型,设置半透明相变材料模型的第一材料参数和杂质模型的第二材料参数,根据激光衰减特征以及半透明相变材料和杂质材料的传热特征和受热膨胀特征,设置耦合比尔‑朗伯定律的固体传热物理场和设有热膨胀节点的固体力学物理场,基于上述数据,对内部设置有杂质模型的半透明相变材料模型进行激光烧蚀模拟,得到激光烧蚀模拟分析结果,通过耦合比尔‑朗伯定律的固体传热物理场和设有热膨胀节点的固体力学物理场,对激光烧蚀过程进行模拟,提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。

    变形几何激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN118070563B

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202410464299.X

    申请日:2024-04-17

    Abstract: 本申请属于激光烧蚀的技术领域,公开了一种变形几何激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取表面设置有镀层模型的相变材料模型,设置镀层模型的第一材料参数和相变材料模型的第二材料参数,根据激光烧蚀过程的传热特征和几何结构变形特征,设置固体传热物理场和基于阶跃函数改进的变形几何场,基于第一材料参数、第二材料参数、固体传热物理场和基于阶跃函数改进的变形几何场,对表面设置有镀层模型的相变材料模型进行激光烧蚀模拟,得到激光烧蚀模拟分析结果,通过固体传热物理场和基于阶跃函数改进的变形几何场,对激光烧蚀过程进行模拟,提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。

    薄膜沉积模拟方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN114662424B

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210548370.3

    申请日:2022-05-20

    Abstract: 本发明涉及数据模拟分析技术领域,具体公开了一种薄膜沉积模拟方法、装置、电子设备及存储介质,其中,方法包括以下步骤:设定代表薄膜凝固情况的第一相场参量及代表输入蒸汽局部密度的第二相场参量;根据第一相场参量和第二相场参量建立用于模拟物理气相沉积的弹道沉积相场模型;根据第一相场参量耦合弹道沉积相场模型和固态薄膜的杨氏模量,以使弹道沉积相场模型与力学平衡方程耦合而建立薄膜沉积模型;根据薄膜沉积模型进行薄膜沉积模拟;该方法实现薄膜沉积过程的预测模拟,且能根据模拟结果反映薄膜沉积形态和应力分布特点。

    薄膜沉积模拟方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN114662424A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210548370.3

    申请日:2022-05-20

    Abstract: 本发明涉及数据模拟分析技术领域,具体公开了一种薄膜沉积模拟方法、装置、电子设备及存储介质,其中,方法包括以下步骤:设定代表薄膜凝固情况的第一相场参量及代表输入蒸汽局部密度的第二相场参量;根据第一相场参量和第二相场参量建立用于模拟物理气相沉积的弹道沉积相场模型;根据第一相场参量耦合弹道沉积相场模型和固态薄膜的杨氏模量,以使弹道沉积相场模型与力学平衡方程耦合而建立薄膜沉积模型;根据薄膜沉积模型进行薄膜沉积模拟;该方法实现薄膜沉积过程的预测模拟,且能根据模拟结果反映薄膜沉积形态和应力分布特点。

    用于电容薄膜规的压力测量系统、方法及电容薄膜规

    公开(公告)号:CN114323355B

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN202210251300.1

    申请日:2022-03-15

    Abstract: 本申请涉及电容薄膜规技术领域,具体提供了用于电容薄膜规的压力测量系统、方法及电容薄膜规,其包括:膜片;陶瓷基体,设置在膜片一侧;固定电极组,设置在陶瓷基体靠近膜片的端面上,用于根据其与膜片的距离生成测量电容信息;多个形变检测电极,设置在陶瓷基体上,且圆周阵列在固定电极组外侧,分别用于根据其与膜片的距离生成对应的检测电容信息;控制器,与固定电极组和形变检测电极电性连接,用于获取检测电容信息,还用于根据检测电容信息检测膜片形变是否均匀,还用于在膜片形变均匀时,获取测量电容信息并根据测量电容信息计算压力值;有效地提高了用于电容薄膜规的压力测量系统测量压力的稳定性、准确性和可靠性。

    一种具有非晶氧化钒薄膜的高温超导体及其制备方法和高温超导线圈

    公开(公告)号:CN113774348A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202111107898.9

    申请日:2021-09-22

    Abstract: 本申请涉及超导材料领域,公开了一种具有非晶氧化钒薄膜的高温超导体及其制备方法和高温超导线圈,包括以下步骤:以高温超导体为基底,将高温超导体放入高能脉冲磁控溅射设备的腔体内,以金属钒为靶材;腔体抽真空,不加热基底;通入氩气,调整气压,设置高能脉冲电源功率、脉冲频率、脉宽;通入氧气,在高温超导体表面沉积薄膜;通入氮气卸去真空,得到所述具有非晶氧化钒薄膜的高温超导体。本申请的所述具有非晶氧化钒薄膜的高温超导体的制备方法,利用高能脉冲磁控溅射技术具有高离化率的特点,实现了在室温不加热的条件下在高温超导体表面沉积具有电阻可调性能的非晶氧化钒薄膜,所述非晶氧化钒薄膜用于高温超导材料的失超保护。

    电镀仿真模型构建及仿真方法、装置、处理器及存储介质

    公开(公告)号:CN118504367A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202410980769.8

    申请日:2024-07-22

    Abstract: 本申请实施例提供一种电镀仿真模型构建及仿真方法、装置、处理器及存储介质,涉及虚拟仿真技术领域,电镀仿真模型构建方法包括:对目标电镀设备的电镀腔体进行几何建模,得到几何模型;确定几何模型的仿真参数信息;确定几何模型的目标物理场及目标物理场的初边值条件,并基于目标物理场进行多物理场耦合,构建出电镀仿真模型;其中,目标物理场包括三次电流分布物理场、层流物理场和电极壳物理场。本申请通过更全面地考虑各种因素对镀层形成过程的影响,提高了仿真结果的准确性和可靠性,从而便于相关人员基于仿真结果提高产品质量和生产效率。

    相变材料激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN118095141B

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202410464351.1

    申请日:2024-04-17

    Abstract: 本申请属于激光烧蚀的技术领域,公开了一种相变材料激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取表面设置有镀层模型的相变材料模型,设置镀层模型的第一材料参数和相变材料模型的第二材料参数,根据激光烧蚀过程的传热特征、相变特征、液体和气体的流动特征以及物质蒸发特征,设置流体传热物理场、层流物理场和基于气液界面流动而改进的水平集物理场,通过等效热容法,对表面设置有镀层模型的相变材料模型进行激光烧蚀模拟,得到激光烧蚀模拟分析结果,通过流体传热物理场、层流物理场和基于气液界面流动而改进的水平集物理场,对激光烧蚀过程进行模拟,提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。

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