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公开(公告)号：CN116622018A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310757124.3
申请日：2019-03-01
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 难波义典 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 吉田裕俊 , 佐藤洋之 , 加藤丈人 , 伊藤剑吾 , 石原寿美 , 东昌弘 , 米田聪 , 青山博一 , 助川胜通 , 岸川洋介 , 平良隆博 , 奥井千亚纪 , 山中拓
IPC: C08F214/26 , C08F214/18 , C08F214/28 , C08F214/22 , C08F2/44 , C08F2/24 , B29C55/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法，其包括下述工序：在包含聚合单元(1)的聚合物(1)的存在下，在水性介质中进行含氟单体的聚合，由此得到含氟聚合物，上述聚合单元(1)基于下述通式(1)所示的单体。CX2＝CY(‑CZ2‑O‑Rf‑A)(1)。
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公开(公告)号：CN111836835A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201980015419.5
申请日：2019-03-01
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 难波义典 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 吉田裕俊 , 佐藤洋之 , 加藤丈人 , 伊藤剑吾 , 石原寿美 , 东昌弘 , 米田聪 , 青山博一 , 助川胜通 , 岸川洋介 , 平良隆博 , 奥井千亚纪 , 山中拓
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法，其包括下述工序：在包含聚合单元(1)的聚合物(1)的存在下，在水性介质中进行含氟单体的聚合，由此得到含氟聚合物，上述聚合单元(1)基于下述通式(1)所示的单体。CX2＝CY(‑CZ2‑O‑Rf‑A)(1)(式中，X相同或不同，为‑H或‑F，Y为‑H、‑F、烷基或含氟烷基，Z相同或不同，为‑H、‑F、烷基或氟代烷基。Rf是碳原子数为1～40的含氟亚烷基或碳原子数为2～100的具有醚键的含子基氟的、‑亚N吡R烷啶74基鎓、具。或A有者为或具‑不C有O具或O有M不取、具‑代S有O基取3M的代或咪基‑唑O的S鎓磷O3、鎓M具，(有RM7或为为不‑HH具或、有金有属取机原代基团。其中，X、Y和Z中的至少一者包含氟原子。))。
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公开(公告)号：CN106459546A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580029234.1
申请日：2015-06-04
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种包含分子量高且极微小的聚四氟乙烯的颗粒、并且分散稳定性优异的聚四氟乙烯水性分散液。一种聚四氟乙烯水性分散液，其为包含聚四氟乙烯颗粒的水性分散液，该聚四氟乙烯颗粒包含四氟乙烯单元、或者四氟乙烯单元和基于能够与上述四氟乙烯共聚的改性单体的改性单体单元，该聚四氟乙烯水性分散液的特征在于，聚四氟乙烯颗粒的体积平均粒径为0.1nm以上且小于20nm，在380℃、负荷5kg的条件下测定的熔体流动速率为0g/10分钟以上且小于80g/10分钟，熔点为324℃～360℃，热分解起始温度为400℃以上。
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公开(公告)号：CN105884946A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610380074.1
申请日：2012-08-27
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F114/26 , C08F214/26 , C08F2/24
CPC classification number: C08L27/18 , C08F2/22 , C08F2/24 , C08F2/26 , C08F2/30 , C08F114/26 , C08F214/26 , C08F214/262
Abstract: 本发明的目的在于提供一种聚四氟乙烯水性分散液的制造方法。本发明具体涉及一种制造方法，其是用于制造含有非熔融加工性聚四氟乙烯颗粒的水性分散液的制造方法，其特征在于，该制造方法包括在全氟己酸或其盐的存在下使四氟乙烯在水性介质中聚合的工序。
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公开(公告)号：CN1942493B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200580010875.9
申请日：2005-04-04
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F214/26 , C08F2/00 , C08F2/38
CPC classification number: C08F214/26 , C08F14/26 , C08F214/262 , C08F259/08 , H05K1/024 , H05K1/0373 , H05K2201/015 , H05K2201/0212 , Y10T428/3154 , C08F2/00
Abstract: 本发明提供改性聚四氟乙烯粉末以及四氟乙烯聚合物的制造方法。所述聚四氟乙烯粉末兼具成型加工性和微波波段中的电气特性。该改性聚四氟乙烯粉末的特征在于：(1)其在12GHz的介电损耗正切小于等于2.0×10-4，且(2)其在压缩比率为1600时的圆柱挤出压力小于等于45MPa。
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公开(公告)号：CN111836835B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201980015419.5
申请日：2019-03-01
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 难波义典 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 吉田裕俊 , 佐藤洋之 , 加藤丈人 , 伊藤剑吾 , 石原寿美 , 东昌弘 , 米田聪 , 青山博一 , 助川胜通 , 岸川洋介 , 平良隆博 , 奥井千亚纪 , 山中拓
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法，其包括下述工序：在包含聚合单元(1)的聚合物(1)的存在下，在水性介质中进行含氟单体的聚合，由此得到含氟聚合物，上述聚合单元(1)基于下述通式(1)所示的单体。CX2＝CY(‑CZ2‑O‑Rf‑A)(1)(式中，X相同或不同，为‑H或‑F，Y为‑H、‑F、烷基或含氟烷基，Z相同或不同，为‑H、‑F、烷基或氟代烷基。Rf是碳原子数为1～40的含氟亚烷基或碳原子数为2～100的具有醚键的含氟亚烷基。A为‑COOM、‑SO3M或‑OSO3M(M为‑H、金属原子、‑NR74、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓或者具有或不具有取代基的磷鎓，R7为H或有机基团。其中，X、Y和Z中的至少一者包含氟原子))。
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公开(公告)号：CN113728015A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202080030440.5
申请日：2020-04-27
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F6/16 , C08K5/095 , C08K5/098 , C08L27/12 , B01J20/26 , B01J20/28 , B01J41/05 , B01J41/14 , B01J47/018
Abstract: 一种精制氟聚合物水性分散液的制造方法，其特征在于，其包括使利用烃系表面活性剂得到的氟聚合物水性分散液与阴离子交换树脂A或合成吸附剂接触的工序A，上述阴离子交换树脂A具有下述通式(A1)：‑N+R1R2R3X‑(式中，R1、R2和R3相同或不同地为氢原子或有机基团，R1、R2和R3中的至少1个是碳原子数为3以上的有机基团。X为抗衡离子。)所表示的离子交换基、或下述通式(A2)：‑NR4R5(式中，R4和R5相同或不同地为氢原子或有机基团，R4和R5中的至少1个是碳原子数为2以上的有机基团。)所表示的离子交换基。
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公开(公告)号：CN113710620A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202080030023.0
申请日：2020-04-27
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有聚合物(I)的水中除去所述聚合物(I)的除去工序，所述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)。CX1X3＝CX2R(‑CZ1Z2‑A0)m(I)(式中，X1和X3各自独立地为F、Cl、H或CF3；X2为H、F、烷基或含氟烷基；A0为阴离子性基团；R为连接基团；Z1和Z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数)。
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公开(公告)号：CN113423557A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202080012741.5
申请日：2020-02-07
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其特征在于，其断裂强度为10.0N以上，包含聚四氟乙烯，实质上不包含下述通式(3)所示的化合物。通式(3)：(H‑(CF2)8‑SO3)qM2(式中，M2为H、金属原子、NR54(R5可以相同也可以不同，为H或碳原子数1～10的有机基团)、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓或者具有或不具有取代基的磷鎓。q为1或2。)。
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