公开(公告)号：CN1857920A

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200610078521.4

申请日：2006-05-08

Applicant: 奥克泰克有限公司 ,  大日本网目版制造株式会社 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 奥村胜弥 ,  矢部学 ,  小八木康幸 ,  原田宗生 ,  清元智文

IPC: B41J2/16 ,  H01L21/768 ,  B41J2/14 ,  B41J2/175

CPC classification number: B41J2/1609 ,  B05C5/007 ,  B05C5/0212 ,  B05C5/027 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1631 ,  H01J9/242

Abstract: 本发明提供了一种高精度且低成本的布图图案形成装置。该装置以(100)晶向的单晶硅为母材，通过光刻工序形成具有斜面部和布图材料导引槽的梳齿部。以与形成导引槽相同的工序形成该梳齿部的各个梳齿共用的储存布图材料的储液部。在形成斜面部时，可以通过进行湿式各向异性蚀刻，利用基于晶向的蚀刻速度之差来相对于晶向(100)高精度且容易地形成具有(111)晶向的斜面部，此外还可以通过各向异性干蚀刻来形成槽部，从而以高精度形成直到斜面部的、具有垂直侧壁的布图材料导引槽。

公开(公告)号：CN1652028A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN200510004307.X

申请日：2005-01-14

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 水端稔 ,  小八木康幸 ,  井上正雄

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种图形描绘装置(1)，包括：保持基板(9)的平台单元(3)；在X方向上移动平台单元(3)的平台移动机构(2)；水银灯(512)；具有光闸开口的光闸；具有多个掩模组开口的掩模组；在X方向上移动光闸的X方向移动机构，扫描通过了光闸开口和掩模组开口的光被引导到的光照射区域而描绘图形。在图形描绘装置(1)中，在图形的描绘开始点附近和描绘结束点附近，按照与平台单元(3)的移动速度相等的移动速度，在X方向上移动光闸，改变光照射区域的长度，调整图形的端部的累积光量，使之与图形上的其他部位的累积光量相等。