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公开(公告)号：CN104625765B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410739115.2
申请日：2014-12-08
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B23Q1/38
Abstract: 本发明提供了一种高精度微小型空气静压转台。本发明解决了目前常用的高精度微小型空气静压转台组成零件较多，不易实现特别高的精度要求和动平衡，并且整体系统的体积较大，特别是高度尺寸较大的问题；解决了由通常所采用的降低转台整体高度的方式所造成的低稳定性以及低承受倾覆力矩的能力的问题；解决了转台加工生产过程中需加工多个轴套与轴的工作面所造成生产成本问题。它包括：转台机座、锥形气浮轴套、主轴系统和转台电机。本发明在转台生产过程中所需加工的轴套与轴工作面仅为相应的两个锥面，相比于以往的高精度空气静压转台有所减少，降低了生产成本。具有装配简单、精度保持性好等优点，可用于多种加工形式的精密和超精密加工设备上。
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公开(公告)号：CN105347298A
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201510877418.5
申请日：2014-08-07
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种采用AFM探针纳米刻划加工复杂三维微纳米结构的方法，属于微纳米结构加工领域。为了解决复杂三维微纳米结构加工问题，所述装置包括AFM、X方向精密工作台、Y方向精密工作台，X方向精密工作台底座固连在Y方向精密工作台的滑块上，X方向定位工作台的滑块进行X方向运动，Y方向精密工作台底座固连在AFM样品台上，Y方向定位工作台的滑块进行Y方向运动。本发明提出的三种方法分别通过对同一套商用AFM以及高精度定位平台系统的不用控制和参数设置，实现采用AFM探针纳米刻划技术加工复杂三维微纳米结构的加工。本发明能够在较低成本下解决复杂三维微纳米结构的加工问题，且方法简单，装置及加工实现成本相对较低。
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公开(公告)号：CN102583229B
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201210066835.8
申请日：2012-03-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 面向微结构制造具有力反馈控制的微探针刻划加工方法。本发明属于微纳结构加工技术领域。本发明可以实现低成本、高精度、微米尺度沟槽等复杂微结构的加工。方法是：先将工件放置于X-Y向精密工作台上，根据所设定的力初值，简称设定值，使微探针刀具自动逼近工件表面并维持一个恒定的力F，该恒定的力F的初值为5-20mN，当微探针刀具与工件表面接触后，开始刻划加工，启动力闭环控制模块，Z向微动工作台上下移动，实现垂直力的实时闭环控制，X-Y向精密工作台带动工件做精密移动，实现微沟槽结构的加工；微沟槽结构加工好后，力闭环控制结束，微探针刀具由Z向粗动工作台带动向上移动脱离工件表面，加工结束。本发明用于加工工件的微沟槽结构。
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公开(公告)号：CN100561179C
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200610151235.6
申请日：2006-12-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01N3/40
Abstract: 基于AFM的纳米机械性能检测装置，它涉及的是纳米机械性能检测的技术领域。它是为解决现有测量方法存在其检测设备价格昂贵，现有的AFM系统不能够直接提供反映表面机械性能的压痕过程曲线及不能测量按一定速率加载的刻划过程的摩擦力信号的问题。主控计算机(1)通过串行通信电路(2)、第一单片机(4)、光电隔离电流环串行接口通道(8)、第三单片机(11)、三路D/A转换电路(12)及第二单片机(9)、两路A/D转换电路(10)分别连接二维工作台控制器(13)、二维工作台(14)与AFM系统(15)。它还具有制造成本价格便宜，能够直接提供反映表面机械性能的压痕过程曲线及能按一定速率加载的刻划过程的摩擦力信号。点阵压痕的最大范围为100μm×100μm，刻划长度为100nm～100μm。
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公开(公告)号：CN101003356A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200710071628.0
申请日：2007-01-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B82B3/00
Abstract: 基于原子力显微镜恒高模式的纳米微小结构加工方法，本发明涉及纳米量级微小结构的加工方法。它克服了现有的AFM的纳米微小结构加工方法加工深度不可人为设定以及所能精确加工的尺寸范围非常有限的缺陷。本发明系统增加了三维微动工作台控制电路和三维微动工作台，本方法的主单片机通过三维微动工作台控制电路驱动三维微动工作台完成高度方向上的运动，使探针的针尖刺入被加工工件表面；探针所受反作用力在悬臂上产生的变形量被光杠杆测角装置检测到并传送给主单片机，三维微动工作台持续进行高度方向上的进给，直到用户的加工深度设定值等于三维微动工作台高度方向上的进给量减去悬臂上产生的变形量，直到刻划工作结束。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110316695B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201910368975.2
申请日：2019-05-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种微纳双模检测加工模块，所述模块包括Z向压电位移台、支架、电容式位移传感器、电容固定座、调节座、锁紧支座、上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针，其中：所述电容式位移传感器固定在电容固定座；所述电容固定座固定在调节座上方；所述上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针依次固定在调节座下方；所述探针通过固定螺母和测试螺钉固定在柔性铰链上；所述调节座固定在锁紧支座；所述锁紧支座固定在支架上；所述支架固定在Z向压电位移台上。该模块具有在线检测、伺服加工功能，相比较与商业化AFM，具有更大的加工尺寸及材料适用范围。
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公开(公告)号：CN110699653B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201911046675.9
申请日：2019-10-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法，属于金属薄膜制备领域。装置是：X‑Y向位移平台与密封腔盖下表面固接，密封腔盖与升降机构的升降杆固接，升降机构与密封腔外侧壁固接，圆柱形磁控溅射靶上端与X‑Y向位移平台下表面固接，下端设置在转台内，转台设置在密封腔内。方法是：步骤一：运动轨迹规划；步骤二：参数和轨迹微调；步骤三：在转台上可拆卸固定待镀零件，闭合密封腔盖，圆柱靶到达指定位置，抽真空并通入工作气体；步骤四：检测反射率，不合格回到步骤二，调整磁控溅射制备参数，再检测均匀性，不合格回到步骤一调整运动轨迹；若合格，使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。
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公开(公告)号：CN108051265B
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201711233122.5
申请日：2017-11-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开一种基于链传动的生物组织脱水装置及其脱水方法，包括机架和位于机架内的试剂缸；机架下设置水平支撑轮，其上缠绕水平链条，水平链条上连接水平驱动轮；水平链条上固定水平直线轴承，水平直线轴承穿设于水平下导轨上，水平下导轨固定于机架上；水平直线轴承连接升降模块，升降模块上安装吊篮，吊篮用来盛装生物组织样本。本发明提供的基于链传动的生物组织脱水方法，吊篮在试剂缸中停留时间与酒精浓度成反比，吊篮停留时间与酒精浓度的乘积为固定常值，吊篮能根据试剂缸中酒精浓度的变化调整停留时间，本发明提供的基于链传动的生物组织脱水装置及其脱水方法，提高了生物组织脱水工艺效率，生物组织脱水效率高且传动精度高。
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公开(公告)号：CN110747433A
公开(公告)日：2020-02-04
申请号：CN201911046706.0
申请日：2019-10-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶，本发明属于金属薄膜领域。水咀座后端与支撑管一端可拆卸连接，多个永磁铁套装在支撑管上且与支撑管间隙配合，每个隔离圈均由两个半圆环体组成，每两个半圆环体扣合设置在支撑管上，每两个半圆环体设置在支撑管外壁上并扣合且互相连接，多个隔离圈和多个永磁铁依次交替设置，异形靶材中部设有空腔，异形靶材的外形为柱状，异形靶材套装在多个隔离圈及多个永磁铁外侧，水咀座后端与异形靶材前端可拆卸连接，异形靶材后端与端盖可拆卸连接。本发明的异形靶的多个溅射面与多个反射镜对应一一对应，镀制的薄膜均匀性可以保证，异形靶与多面共体反射镜之间无需运动，缩小了薄膜沉积设备内腔的体积。
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公开(公告)号：CN110699653A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201911046675.9
申请日：2019-10-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法，属于金属薄膜制备领域。装置是：X-Y向位移平台与密封腔盖下表面固接，密封腔盖与升降机构的升降杆固接，升降机构与密封腔外侧壁固接，圆柱形磁控溅射靶上端与X-Y向位移平台下表面固接，下端设置在转台内，转台设置在密封腔内。方法是：步骤一：运动轨迹规划；步骤二：参数和轨迹微调；步骤三：在转台上可拆卸固定待镀零件，闭合密封腔盖，圆柱靶到达指定位置，抽真空并通入工作气体；步骤四：检测反射率，不合格回到步骤二，调整磁控溅射制备参数，再检测均匀性，不合格回到步骤一调整运动轨迹；若合格，使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。
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