一种连续太赫兹目标散射测量控制系统

    公开(公告)号:CN105676214B

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201610104496.6

    申请日:2016-02-25

    Abstract: 一种连续太赫兹目标散射测量控制系统,属于太赫兹探测技术领域。为了解决现的测量系统在测量过程中需要手动不断地调整位移台来对信号进行采集,存在浪费时间、操作失误率较高的问题。所述控制系统包括位移台控制模块、采样控制模块和数据存储模块,位移台控制模块包括手动调节子模块和自动测量子模块;手动调节子模块,用于用户通过手动调节利用位移台来控制待测物和校准物的位置;自动测量子模块,用于输入自动测量时需要位移参数和开启自动测量;采样控制模块,用于采集待测物、校准物在太赫兹频段下照射的散射回波信号,以及用于设置采集参数。实现在研究太赫兹目标散射特性时分别准确测量校准物和不同角度的待测物的散射回波信号峰峰值。

    一种连续太赫兹目标散射测量控制系统

    公开(公告)号:CN105676214A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201610104496.6

    申请日:2016-02-25

    CPC classification number: G01S13/02 G01S7/02

    Abstract: 一种连续太赫兹目标散射测量控制系统,属于太赫兹探测技术领域。为了解决现的测量系统在测量过程中需要手动不断地调整位移台来对信号进行采集,存在浪费时间、操作失误率较高的问题。所述控制系统包括位移台控制模块、采样控制模块和数据存储模块,位移台控制模块包括手动调节子模块和自动测量子模块;手动调节子模块,用于用户通过手动调节利用位移台来控制待测物和校准物的位置;自动测量子模块,用于输入自动测量时需要位移参数和开启自动测量;采样控制模块,用于采集待测物、校准物在太赫兹频段下照射的散射回波信号,以及用于设置采集参数。实现在研究太赫兹目标散射特性时分别准确测量校准物和不同角度的待测物的散射回波信号峰峰值。

    摆动式热管吸附式制冷发生器

    公开(公告)号:CN101865571B

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN201010212311.6

    申请日:2010-06-29

    CPC classification number: Y02A30/278 Y02B30/64

    Abstract: 摆动式热管吸附式制冷发生器,它涉及一种制冷发生器。本发明解决了现有的吸附床的传质、传热效率不高,进而影响制冷效率的问题。技术要点:所述多个热管均位于容器的下半部分,且热管的光管段于第一腔室内,翅片段位于第二腔室内;发生器主体的壳体的外侧壁安装在摆动装置上且所述摆动装置可使发生器主体摆动;容器的底端面的边缘上开有工质入口和工质出口;在容器的外侧壁上开有制冷剂出入口。本发明通过设置摆动装置使发生器主体上下摆动,实现了同一发生器主体可进行吸附剂解吸、吸附剂吸附两个过程交替进行,在每个过程中,所有的换热单元均工作,这样不会增加本发明的金属热容,提高了制冷效率。

    摆动式热管吸附式制冷发生器

    公开(公告)号:CN101865571A

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN201010212311.6

    申请日:2010-06-29

    CPC classification number: Y02A30/278 Y02B30/64

    Abstract: 摆动式热管吸附式制冷发生器,它涉及一种制冷发生器。本发明解决了现有的吸附床的传质、传热效率不高,进而影响制冷效率的问题。技术要点:所述多个热管均位于容器的下半部分,且热管的光管段于第一腔室内,翅片段位于第二腔室内;发生器主体的壳体的外侧壁安装在摆动装置上且所述摆动装置可使发生器主体摆动;容器的底端面的边缘上开有工质入口和工质出口;在容器的外侧壁上开有制冷剂出入口。本发明通过设置摆动装置使发生器主体上下摆动,实现了同一发生器主体可进行吸附剂解吸、吸附剂吸附两个过程交替进行,在每个过程中,所有的换热单元均工作,这样不会增加本发明的金属热容,提高了制冷效率。

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