光刻机工件台的一体式平衡质量装置

    公开(公告)号:CN104991425A

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201510465244.1

    申请日:2015-07-31

    Abstract: 光刻机工件台的一体式平衡质量装置,属于半导体制造装备技术领域,本发明为解决现有光刻机平衡技术采用两个平衡质量块存在同步设计难度大的问题。本发明包括基础框架、平衡质量块、垂向气浮垫、Y向直线电机导轨部分、X向运动机构、平衡质量块直线电机部分六个部分。平衡质量块底面四个角上分别固定一个垂向气浮垫,用以通过气浮隔离底部的基础框架从而实现系统的隔振与低摩擦运动。平衡质量块上平面上安装两条Y向直线电机的导轨,作为Y向直线电机的定子部分,X向导轨部分安装在Y向直线电机导轨上,平衡质量块电机驱动平衡质量块运动,从而对由于X向导轨反作用力造成的平衡质量块的偏移进行补偿,使平衡质量块重新回到平衡位置。

    基于CompactParticleSwarmOptimization算法的光刻机掩模台微动台的机械参数软测量方法

    公开(公告)号:CN104977816A

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201510474805.4

    申请日:2015-08-05

    Abstract: 基于Compact Particle Swarm Optimization算法的光刻机掩模台微动台的机械参数软测量方法,属于半导体制造装备技术领域及机械参数测量领域。为了解决现有工件台微动部分机械参数估计算法精度差的问题。所述方法包括如下步骤:步骤一:根据掩模台微动台的机械机构及其理论设计,建立微动台的理想运动学模型,确定待测机械参数,建立掩模台微动台含差模型;步骤二:给定位置输入,驱动微动台运动产生位移,将实际输出位移与通过建立的掩模台微动台含差模型计算出的输出位移值做差,作为寻优的目标函数;步骤三:根据目标函数,利用Compact Particle Swarm Optimization优化学习算法确定待辨识的机械参数。它用于微动台的机械参数求取。

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