公开(公告)号：CN103080809A

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201180042667.2

申请日：2011-09-06

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 川上智朗 ,  辻俊彦

IPC: G02B21/06 ,  H04N5/238

CPC classification number: H04N5/2256 ,  G02B27/0994

Abstract: 本公开涉及一种成像设备（1），其包括：照明光学系统（100），包括光源（110）并且被配置为将来自光源的光引导到目标（B）；成像光学系统，被配置为捕获目标的图像；以及多个图像传感器（430），布置在成像光学系统的图像平面上。照明光学系统包括多个积分器(121,122)。从所述多个积分器中的一个积分器射出的光束照射所述多个图像传感器中的至少一个图像传感器，并且从其它积分器射出的光照射所述多个图像传感器中的除通过从所述多个积分器中的所述一个积分器射出的光照射的图像传感器以外的至少一个图像传感器。

公开(公告)号：CN100375238C

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN03809090.2

申请日：2003-04-11

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 樋浦充 ,  辻俊彦

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/02

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70941 ,  H05G2/001

Abstract: 一种曝光设备，将激励激光照射到靶上，并由所产生的等离子体产生用于生成远紫外区或者X射线区的照射光的光源，该曝光设备包括：照射光学系统，使用所述照射光照射形成要转移的图案的反射初缩掩模版，该照射光学系统包括最接近所述光源的第一反射镜；椭球面反射镜，用于在所述照射光学系统中的所述第一反射镜之前会聚所述照射光；以及投影光学系统，将在所述反射初缩掩模版上反射的图案缩小并投影到要被曝光的对象上，其中，在所述激励激光的光轴方向超过由激励激光产生等离子体的位置的地方的光不干扰包括所述照射和投影光学系统和所述椭球面反射镜的所述曝光设备中的部件。

公开(公告)号：CN1808282A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：CN200610006404.7

申请日：2006-01-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 杉田充朗 ,  近江和明 ,  米原隆夫 ,  辻俊彦 ,  寺师孝昭 ,  香田彻 ,  筒井慎二

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70275

Abstract: 本发明公开了在物体上形成图案的曝光设备，其包括其中排列了每个至少包括一个光源的多个基本曝光单元和在物体上形成光源图像的光学元件的曝光头结构、检测物体表面位置的传感器，以及基于传感器的检测结果通过曝光头结构控制曝光的控制器。当选择性地操作满足预定条件的多个基本曝光单元之一时，所述控制器在物体上形成图案。