公开(公告)号：CN110178206A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201780081811.0

申请日：2017-12-29

申请人： 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司

发明人： 维贾伊·苏尔拉 ,  拉胡尔·古普塔 ,  孙卉 ,  文卡特斯瓦拉·R·帕伦姆 ,  南森·斯塔福德 ,  法布里齐奥·马切吉亚尼 ,  文森特·M·欧马杰 ,  詹姆斯·罗耶

IPC分类号： H01L21/311 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/308 ,  H01L27/11582

摘要： 披露了一种用于蚀刻含硅膜的方法。该方法包括以下步骤：将含碘蚀刻化合物的蒸气引入基板上含有含硅膜的反应腔室中，其中该含碘蚀刻化合物具有式CaHxFyIz，其中a＝1-3，x＝0-6，y＝1-7，z＝1-2，当a＝1时x+y+z＝4，当a＝2时x+y+z＝4或6，并且当a＝3时x+y+z＝6或8；将惰性气体引入该反应腔室中；以及活化等离子体以产生能够从该基板蚀刻该含硅膜的经活化的含碘蚀刻化合物。

公开(公告)号：CN107924842A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680048436.5

申请日：2016-08-30

申请人： 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司

发明人： 维贾伊·苏尔拉 ,  拉胡尔·古普塔 ,  文卡特斯瓦拉·R·帕伦姆

IPC分类号： H01L21/311 ,  C07C251/08 ,  C07C251/26 ,  C07C255/10

CPC分类号： H01L21/31116 ,  C07C251/08 ,  C07C251/26 ,  C07C255/10 ,  H01L21/31144

摘要： 披露了一种用于蚀刻含硅膜的方法。该方法包括以下步骤：将含氮蚀刻化合物的蒸气引入基板上含有含硅膜的反应腔室中，其中该含氮蚀刻化合物是含有至少一个C≡N或C＝N官能团的有机氟化合物；将惰性气体引入该反应腔室中；并且活化等离子体以产生能够从该基板蚀刻该含硅膜的经活化的含氮蚀刻化合物。