一种具有长时间耐高温水蒸汽氧化的防护涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN112853287A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202011618645.3

    申请日:2020-12-31

    Abstract: 本发明涉及核电防护涂层领域,公开了一种具有长时间耐高温水蒸汽氧化的防护涂层及其制备方法,该防护涂层包括陶瓷层和合金层,所述的合金层组成表示为CraMe100‑a,Me为Al、Ni中的一种,84.6≤a≤100;陶瓷层组成表示为(CrxAlySi100‑x‑y)zT100‑z,T选自C、N中的一种,其中40.7≤x≤61.2,29.8≤y≤45.3,78.5≤z≤89.5;其中a、x、y、z都为原子比。该防护涂层通过物理气相磁控溅射法制备,在高温水蒸气(1200℃)氧化过程中可形成连续、致密且无开裂、拱起等缺陷的Cr2O3防护层,进而显著提高耐高温水蒸气氧化时间(8~12h),可用于核电中锆合金包壳管的防护。

    一种SiC陶瓷的防护涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN112125705A

    公开(公告)日:2020-12-25

    申请号:CN202010947693.0

    申请日:2020-09-10

    Abstract: 本发明涉及高温腐蚀防护涂层领域,公开了一种SiC陶瓷的防护涂层及其制备方法,该防护涂层组成表示为MexO1‑x,其中x为原子百分比,0.6≤x≤1;Me选自Cr、CrAl、CrNi中任一种,所述CrAl为Cr为主元,与Al的固溶体结构,所述CrNi为Cr为主元,与Ni的固溶体结构,所述防护涂层采用磁控溅射法制备,利用射频辅助直流的电源来驱动Me靶,通过调节反应气体O2的有无及O2比例和其他工艺参数,在SiC陶瓷表面沉积得到不同结构的防护涂层。该防护涂层,可显著降低SiC陶瓷的腐蚀失重,失重率减少88%~97%。

    一种具有抗菌和耐腐蚀性能的硬质陶瓷涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN109112481B

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201811148672.1

    申请日:2018-09-29

    Abstract: 本发明公开了一种具有抗菌和耐腐蚀性能的硬质陶瓷涂层,涂层的组成为ZrxCuyAlzN100‑x‑y‑z,x=39.1~45.1,y=17.5~18.8,z=4.8~7.2,x,y,z为原子比,其中,Cu为非晶结构且以Cu+形式存在,涂层由ZrN晶相和非晶相两相复合而成。本发明还公开了上述硬质陶瓷涂层的制备方法,采用物理气相磁控溅射法制备,具体包括:基体清洗、连接电源、涂层沉积,得到的涂层硬度高,结合力好,易释放出杀菌物质,耐腐蚀性强,能够为物件提供有效的抗菌和耐腐蚀防护。

    一种预定硬度的Fe-Cu-C合金材料的制备方法

    公开(公告)号:CN109657382A

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201811598373.8

    申请日:2018-12-26

    Abstract: 本发明涉及一种预定硬度的Fe-Cu-C合金材料的制备方法,属于材料研究方法及技术领域。该方法综合利用Calphad相图计算、第一性原理计算和多元扩散偶实验,通过建立Fe-Cu-C体系的“原子排布-合金成分-合成温度-相结构-弹性模量-合金硬度”大数据库,可以快速获得目标硬度的Fe-Cu-C合金的合金成分、合成温度及相组成信息,直接用于指导高硬度的Fe-Cu-C合金的制备。与传统材料设计方法相比,该方法的针对性和目的性更强,在建立起Fe-Cu-C合金的硬度大数据库之后,可以反复利用该数据库指导不同目标硬度的Fe-Cu-C合金的制备,极大的节省了人力物力成本。

    一种MAX相陶瓷涂层及其制备方法和制备装置

    公开(公告)号:CN106567049B

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201610882869.2

    申请日:2016-10-10

    Abstract: 本发明公开了一种MAX相陶瓷涂层,此涂层组成为V2AlxC2‑x,x=0.7~1.5,涂层为柱状晶生长结构,每一个柱状晶由一层Al原子层和两层V原子层交替排列形成,且C原子层位于两层V原子层之间,涂层密度为4.5~5.2g/cm3。本发明还公开了所述MAX相陶瓷涂层的制备方法,采用双靶磁控溅射法并辅助射频叠加中频的电源施加方式,在制备温度为550~650℃的情况下,在非晶基体上非外延生长出所述MAX相陶瓷涂层。该制备条件下获得的V2AlxC2‑x涂层纯度达到了99.9%,涂层硬度在13~16GPa。此方法一步合成,成本较低,可控制性强,有利于MAX相涂层低温制备和多领域应用。

    一种具有自修复能力的耐腐蚀涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN106048529B

    公开(公告)日:2018-10-02

    申请号:CN201610551827.0

    申请日:2016-07-11

    Abstract: 本发明公开了一种具有自修复能力的耐腐蚀涂层,所述涂层由晶态Al和非晶态Al2O3两相复合而成,其成分表示为Al1‑xOx,x=0.25~0.62,其中x为原子比率,所述涂层密度为3.0~3.4g/cm3。还公开了一种具有自修复能力的耐腐蚀涂层的制备方法,包括:(1)基体清洗;(2)涂层沉积:将清洗后的基体装入真空室中,当腔室真空度为1×10‑5~5×10‑5Pa时,通入氩气和氧气,氩气和氧气的流量比为2:1,控制溅射气压为0.25~0.4Pa,调整靶材的溅射功率密度为7.0~9.5W/cm2,接着逐渐通入氧气,当靶电压达到最低值时,开启样品挡板,对基体的表面进行沉积,得到具有自修复能力的耐腐蚀涂层。本发明制备的涂层利用Al的腐蚀产物来充当修复元,修复涂层后期受力过程中产生的贯穿性孔隙,提高涂层的耐腐行为。

    利用磁控溅射法制备电阻率分布均匀的AZO薄膜的方法

    公开(公告)号:CN105063560B

    公开(公告)日:2017-11-24

    申请号:CN201510424508.9

    申请日:2015-07-17

    Inventor: 黄峰 孟凡平 李朋

    Abstract: 本发明公开了一种利用磁控溅射法制备电阻率分布均匀的AZO薄膜的方法,采用射频电源辅助直流电源的方式沉积AZO薄膜,设置射频电源功率PRF为50~400W,直流电源功率PDC为10~150W,并调节射频电源功率的比值fRF为0.38~0.98,以控制靶电压为60~150V,AZO薄膜的沉积速率不低于35nm/min,在常温下制备得到电阻率分布均匀的AZO薄膜。本制备方法,采用射频辅助直流的电源设备,通过调节射频电源与直流电源的功率,使得在靶电压小于150V的情况下,仍以较高的沉积速率(~40nm/min)沉积得到AZO薄膜;制备得到的AZO薄膜的电阻率较低,且分布均匀。

    一种硬度宽变的耐磨涂层及其制备方法及应用

    公开(公告)号:CN106381471A

    公开(公告)日:2017-02-08

    申请号:CN201610830915.4

    申请日:2016-09-19

    Abstract: 本发明公开了一种硬度宽变的耐磨涂层及其制备方法,所述的耐磨涂层的组成为CrxSiyN1-x-y,其中x=0.45~0.55,y=0.03~0.15,x,y为原子比率;所述的耐磨涂层呈长短不一的柱状晶生长结构,每个柱状晶的宽度为40~150nm,柱状晶的长宽比为15~55,沿涂层生长方向,在所述柱状晶长度的30~75%处出现了分离存在孔隙,孔隙宽度为2~10nm。所述的耐磨涂层的硬度可在较大范围内变动,而所述的耐磨涂层的耐磨性几乎不受影响。所述的耐磨涂层可应用于摩擦传动部件。由于所述的耐磨涂层硬度在较大范围内可调,可使主副摩擦部件保持同样的硬度,这样不会由于硬度的差异,使得较低硬度的部件易被磨损,进而改善主副摩擦部件之间的融合性。

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