一种对聚合物表面进行疏水改性的方法

    公开(公告)号:CN103709429B

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201310698565.7

    申请日:2013-12-18

    Abstract: 本发明公开了一种对聚合物表面进行疏水改性的方法,所述方法是首先对经表面清洁处理后的聚合物表面进行紫外光氧化处理,然后采用浸泡法或气相沉积法在经紫外光氧化处理后的聚合物表面进行疏水物质的修饰。本发明方法具有工艺简单、无需特殊设备、无需真空或特殊气氛条件、不必额外使用模板,易于规模化实施等优点;尤其是,经本发明方法改性处理的聚合物表面具有超疏水性,且其在经受350℃的高温处理后仍然可以保持超疏水特性,可适用于在高温等恶劣环境中的使用要求。

    一种抗原子氧水滑石涂层及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN116731541A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202210207848.6

    申请日:2022-03-03

    Abstract: 本发明公开了一种抗原子氧水滑石涂层及其制备方法与应用。所述抗原子氧水滑石涂层包括:形成在聚合物基体表面的由水滑石纳米片或类水滑石纳米片中至少一种和硅烷偶联剂交联形成的多孔涂层。与目前常规致密的抗原子氧涂层不同,本发明所涉及的涂层由防护单元水滑石或类水滑石纳米片与氨烃基硅烷偶联剂共同构成,具有纳米片取向高度一致的叠层排列形成的非致密微纳结构,可以防止内应力作用而开裂;同时交联剂氨烃基硅烷偶联剂能增强涂层与基体间的界面附着力,防止剥脱现象的发生。该涂层主体为无机水滑石或类水滑石纳米片层,原料价格低廉、工艺简捷、操作方便,且抗原子氧/防剥落开裂性能优异,可广泛应用于航天领域。

    一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115521640A

    公开(公告)日:2022-12-27

    申请号:CN202210207875.3

    申请日:2022-03-03

    Abstract: 本发明公开了一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法。所述抗原子氧微纳多孔涂层包括:形成在聚合物基体表面的由纳米氧化物颗粒和硅烷偶联剂粘结形成的多孔微纳结构涂层;所述硅烷偶联剂为具有氨基的硅烷偶联剂;所述聚合物基体为具有羧基的改性聚合物基体。本发明所涉及的涂层由无机氧化物纳米颗粒组成的骨架构成,为具有纳米孔隙的微纳结构,其柔韧性得到显著提高,防开裂性能优异,并且具备优异的抗原子氧侵蚀性能;同时,该涂层具有纳米骨架组成可替换的特点,可满足防原子氧涂层的增透、防静电等功能需求,而且其原料及制备价格低廉,易于实施操作,可广泛应用于航天领域中受原子氧侵蚀影响的低轨航天器。

    一种柔性基板原子氧防护层的生产线

    公开(公告)号:CN109244159A

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201710561510.X

    申请日:2017-07-11

    Abstract: 本发明提供了一种柔性基板原子氧防护层的生产线,具备:用于固定安装柔性基板的固定安装预备系统;用于清洗并烘干的清洗烘干处理系统;用于进行活化预处理的活化处理系统;用于进行硅烷化处理的硅烷化处理系统;用于稳定化处理的稳定化处理系统;用于检测的自主检测系统;用于对废液进行回收处理的废液回收系统;用于在各系统间传动柔性基板的传动系统;和用于控制动作的控制系统;各系统间采用线性排列。根据本发明,能以自动化的方式流水线作业,生产出的柔性基板原子氧防护层产品具有产品大面积均匀性好、批次稳定性好、成品率高,防原子氧效果显著等优点,适合于柔性基板原子氧防护层的生产使用。

    一种对聚合物表面进行疏水改性的方法

    公开(公告)号:CN103709429A

    公开(公告)日:2014-04-09

    申请号:CN201310698565.7

    申请日:2013-12-18

    Abstract: 本发明公开了一种对聚合物表面进行疏水改性的方法,所述方法是首先对经表面清洁处理后的聚合物表面进行紫外光氧化处理,然后采用浸泡法或气相沉积法在经紫外光氧化处理后的聚合物表面进行疏水物质的修饰。本发明方法具有工艺简单、无需特殊设备、无需真空或特殊气氛条件、不必额外使用模板,易于规模化实施等优点;尤其是,经本发明方法改性处理的聚合物表面具有超疏水性,且其在经受350℃的高温处理后仍然可以保持超疏水特性,可适用于在高温等恶劣环境中的使用要求。

    一种薄膜硅烷化表面改性系统
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116622111A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310598021.7

    申请日:2023-05-25

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜硅烷化表面改性系统,包括薄膜固定装置、薄膜硅烷化处理装置和薄膜热处理装置,其中薄膜固定装置包括固定框,固定框的内框上设置有若干夹持组件,夹持组件用于将待处理薄膜固定并延展于固定框上,薄膜硅烷化处理装置包括第一壳体,第一壳体开设有第一容纳腔,第一容纳腔内设置有反应容器,反应容器内开设有反应槽,反应槽内充满硅烷试剂,反应容器上对应反应槽的两侧还设置有第一加热装置,反应槽与固定框相匹配,使待处理薄膜可通过固定框在反应容器内展开并进行硅烷化处理,薄膜热处理装置,用于加热烘干处理已硅烷化处理的待处理薄膜,解决了现有技术中薄膜硅烷化表面改性系统无法处理大尺寸的薄膜的问题。

    一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115521640B

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202210207875.3

    申请日:2022-03-03

    Abstract: 本发明公开了一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法。所述抗原子氧微纳多孔涂层包括:形成在聚合物基体表面的由纳米氧化物颗粒和硅烷偶联剂粘结形成的多孔微纳结构涂层;所述硅烷偶联剂为具有氨基的硅烷偶联剂;所述聚合物基体为具有羧基的改性聚合物基体。本发明所涉及的涂层由无机氧化物纳米颗粒组成的骨架构成,为具有纳米孔隙的微纳结构,其柔韧性得到显著提高,防开裂性能优异,并且具备优异的抗原子氧侵蚀性能;同时,该涂层具有纳米骨架组成可替换的特点,可满足防原子氧涂层的增透、防静电等功能需求,而且其原料及制备价格低廉,易于实施操作,可广泛应用于航天领域中受原子氧侵蚀影响的低轨航天器。

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