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公开(公告)号:CN110854038B
公开(公告)日:2024-06-07
申请号:CN201910773774.0
申请日:2019-08-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和该装置中的外部空气漏入部位确定方法,有利于外部空气漏入部位的确定。基板处理装置具有:采样配管,其在装载区域内从针对具有外部空气漏入的可能性的多个外部空气可能漏入部位设定的多个采样端口延伸设置;氧浓度计,其与采样配管连通;多联式的自动开闭阀,其位于与各个采样端口对应的位置;吹扫机构,其向装载区域内吹扫非活性气体;以及控制器,其中,控制器针对全部的采样端口执行将多个自动开闭阀中的一个打开且将其它多个自动开闭阀关闭的切换控制,从氧浓度计接收与在各切换控制后打开的自动开闭阀对应的采样端口的氧浓度测量信号,并将浓度测量值和浓度阈值进行比较。
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公开(公告)号:CN108335998B
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN201810050019.5
申请日:2018-01-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 能使装到基板保持器具的基板效率良好冷却的基板处理装置和基板的冷却方法。基板处理装置有:处理容器,其底面开口;基板保持器具,其水平保持多张基板并有预定间隔且能在铅垂方向上装载;升降机构,其使基板保持器具升降,能从开口使基板保持器具自处理容器卸载;多个进气管道,其与在卸载后状态下基板保持器具周围相对配置,以预定的多个高度区域分割基板保持器具的高度范围;至少1个排气部件,其与多个进气管道中至少两个共通连通;多个阀,其能单独开闭排气部件和多个进气管道的连通;控制部件,在使基板保持器具下降而从处理容器卸载时,使与多个进气管道相对应的多个阀与基板保持器具的下降联动而以从上到下的顺序从闭依次变成开。
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公开(公告)号:CN108231625B
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN201711384007.8
申请日:2017-12-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。本发明提供不吹送冷却气体就能够缩短晶圆的冷却时间的基板处理装置和基板的冷却方法。具有:处理容器;基板保持器具,其保持多个基板,被装载于所述处理容器和从所述处理容器卸载;以及吸气管道,其具备吸气口,该吸气管道与处于从所述处理容器卸载后的卸载位置处的所述基板保持器具的周围相向地配置,其中,所述吸气管道具有构成所述吸气管道的主体的固定管道部和容纳于所述固定管道部并构成所述吸气口的可动管道部。
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公开(公告)号:CN107689336B
公开(公告)日:2022-05-27
申请号:CN201710651619.2
申请日:2017-08-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够防止副生成物的附着本身的盖体和使用了该盖体的基板处理装置。该盖体具有:金属板;石英板,其设置于该金属板上;螺纹孔,其贯穿所述石英板,该螺纹孔设置到所述金属板的预定深度;螺钉,其插入该螺纹孔,该螺钉用于将所述石英板固定于所述金属板;以及吹扫气体供给孔,其在俯视时设置于比该螺钉靠内侧的位置,该吹扫气体供给孔能够从所述金属板的内部朝向所述石英板的底面供给吹扫气体,以便能够向所述石英板与所述金属板之间的间隙供给吹扫气体。
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公开(公告)号:CN304835491S
公开(公告)日:2018-09-28
申请号:CN201830160024.2
申请日:2018-04-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称:气体注入用垫子。
2.本外观设计产品的用途:本产品是一种垫子,在半导体制造过程中,向在工厂内搬运晶片的盒状搬运单元内填充例如氮气时,其用于防止该气体泄漏。
3.本外观设计产品的设计要点:在于形状的设计。
4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:主视图。
5.省略视图:后视图、左视图和右视图与主视图相同,因此省略后视图、左视图和右视图。
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