静电卡盘的再生方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118098923A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410317883.2

    申请日:2019-10-10

    Inventor: 喜多川大

    Abstract: 本发明提供能够减少加工量的静电卡盘的再生方法。一种静电卡盘的再生方法,该静电卡盘的再生方法包括以下工序:提供具有凹部和自所述凹部的底面突出的凸部的所述静电卡盘;形成第1掩模,该第1掩模覆盖除所述凸部以外的所述凹部;借助所述第1掩模对所述静电卡盘的表面进行削除;去除所述第1掩模;在所述底面的与所述凸部的位置不同的位置形成第2掩模;借助所述第2掩模对所述静电卡盘的表面进行削除;以及去除所述第2掩模。

    静电卡盘的再生方法和静电卡盘

    公开(公告)号:CN111048387B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN201910956853.5

    申请日:2019-10-10

    Inventor: 喜多川大

    Abstract: 本发明提供能够减少加工量的静电卡盘的再生方法和静电卡盘。一种静电卡盘的再生方法,该静电卡盘的再生方法包括以下工序:提供具有凹部和自所述凹部的底面突出的凸部的所述静电卡盘;形成第1掩模,该第1掩模覆盖除所述凸部以外的所述凹部;借助所述第1掩模对所述静电卡盘的表面进行削除;去除所述第1掩模;在所述底面的与所述凸部的位置不同的位置形成第2掩模;借助所述第2掩模对所述静电卡盘的表面进行削除;以及去除所述第2掩模。

    基片处理系统
    14.
    发明公开
    基片处理系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN116110818A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202211332445.0

    申请日:2022-10-28

    Inventor: 喜多川大

    Abstract: 本发明的目的在于削减基片处理系统的设置面积。本发明的基片处理系统具有一个或多个处理模块以及真空输送模块,至少一个处理模块与真空输送模块以在俯视时处理模块的至少一部分与真空输送模块的至少一部分重叠的方式配置。

    加热器供电机构和载置台的温度控制方法

    公开(公告)号:CN106165070A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201580019476.2

    申请日:2015-04-30

    Inventor: 喜多川大

    Abstract: 本发明提供一种加热器供电机构,其用多个加热器将载置基板的载置台分区化,并且能够在每个分区进行温度控制,该加热器供电机构包括:多组加热器用端子,将一组加热器用端子作为一区段,以区段单位与上述多个加热器的任一者连接;加热器配线;和配线结构,使用上述加热器配线将上述多组加热器用端子间的至少任一者以区段单位连接的。

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