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公开(公告)号:CN106233435A
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201580020523.5
申请日:2015-05-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/02 , H01L21/683 , H05B3/02
CPC classification number: H01L21/67103 , H01L21/67069 , H01L21/67248 , H01L21/6831 , H05B1/0233 , H05B3/283
Abstract: 本发明提供一种加热器供电机构,用多个加热器将载置基板的载置台分为多个区域,能够对每个区域进行温度控制,该加热器供电机构包括:与上述多个加热器连接的多个加热器用端子;与上述多个加热器用端子连接的多个加热器配线;和使上述多个加热器配线偏移的偏移构造,上述多个加热器用端子配置在保持上述载置台的保持板上的外周部。
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公开(公告)号:CN118098923A
公开(公告)日:2024-05-28
申请号:CN202410317883.2
申请日:2019-10-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 喜多川大
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供能够减少加工量的静电卡盘的再生方法。一种静电卡盘的再生方法,该静电卡盘的再生方法包括以下工序:提供具有凹部和自所述凹部的底面突出的凸部的所述静电卡盘;形成第1掩模,该第1掩模覆盖除所述凸部以外的所述凹部;借助所述第1掩模对所述静电卡盘的表面进行削除;去除所述第1掩模;在所述底面的与所述凸部的位置不同的位置形成第2掩模;借助所述第2掩模对所述静电卡盘的表面进行削除;以及去除所述第2掩模。
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公开(公告)号:CN111048387B
公开(公告)日:2024-04-05
申请号:CN201910956853.5
申请日:2019-10-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 喜多川大
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供能够减少加工量的静电卡盘的再生方法和静电卡盘。一种静电卡盘的再生方法,该静电卡盘的再生方法包括以下工序:提供具有凹部和自所述凹部的底面突出的凸部的所述静电卡盘;形成第1掩模,该第1掩模覆盖除所述凸部以外的所述凹部;借助所述第1掩模对所述静电卡盘的表面进行削除;去除所述第1掩模;在所述底面的与所述凸部的位置不同的位置形成第2掩模;借助所述第2掩模对所述静电卡盘的表面进行削除;以及去除所述第2掩模。
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公开(公告)号:CN116110818A
公开(公告)日:2023-05-12
申请号:CN202211332445.0
申请日:2022-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 喜多川大
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于削减基片处理系统的设置面积。本发明的基片处理系统具有一个或多个处理模块以及真空输送模块,至少一个处理模块与真空输送模块以在俯视时处理模块的至少一部分与真空输送模块的至少一部分重叠的方式配置。
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公开(公告)号:CN106463446B
公开(公告)日:2019-08-13
申请号:CN201580024261.X
申请日:2015-06-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种载置台及等离子体处理装置。本发明的一实施方式的载置台具备支承部件及基座。支承部件具有:载置区域,具有加热器;及外周区域,围绕载置区域。基座具有:第1区域,在其上支承载置区域;及第2区域,围绕第1区域。第2区域中设有贯穿孔。电连接于加热器的配线穿过第2区域的贯穿孔。
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公开(公告)号:CN106165070A
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201580019476.2
申请日:2015-04-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 喜多川大
IPC: H01L21/3065 , H01L21/02 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种加热器供电机构,其用多个加热器将载置基板的载置台分区化,并且能够在每个分区进行温度控制,该加热器供电机构包括:多组加热器用端子,将一组加热器用端子作为一区段,以区段单位与上述多个加热器的任一者连接;加热器配线;和配线结构,使用上述加热器配线将上述多组加热器用端子间的至少任一者以区段单位连接的。
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