公开(公告)号：CN113764249A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202110585481.7

申请日：2021-05-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 郑和俊 ,  铃木雅弘 ,  保坂勇贵 ,  大秦充敬

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，能够在控制基板边缘处的倾斜的同时抑制基板的中央和中间区域的工艺变化。等离子体处理装置具有：等离子体处理容器；基板支承部，其配置于等离子体处理容器内，包括静电吸盘；第一环，其以包围静电吸盘上的基板的方式配置于静电吸盘上，包括内侧环状部分、中间环状部分以及外侧环状部分，内侧环状部分的上表面比中间环状部分的上表面高，外侧环状部分的上表面比内侧环状部分的上表面高；第二环，其配置于第一环的中间环状部分的上表面；以及致动器，其构成为使第二环沿纵向移动以将第二环的上表面维持为第一高度，第一高度比第一环的内侧环状部分的上表面的高度大且比第一环的外侧环状部分的上表面的高度小。

公开(公告)号：CN102683148A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210039725.2

申请日：2012-02-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 保坂勇贵 ,  古谷直一 ,  大秦充敬

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32577 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32623

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置与以往相比能够更细致地控制等离子体。该等离子体处理装置包括：第一接地构件，其由导电性材料形成，整体形状形成为环状，以至少一部分暴露于处理空间的方式配置在处理腔室内，用于形成接地电位；第二接地构件，其与第一接地构件相对地设置在形成于处理腔室下部的排气空间内，由导电性材料形成，整体形状形成为环状，至少一部分暴露于排气空间，用于形成接地电位；接地棒，其在第一接地构件与第二接地构件之间上下运动，与第一接地构件及第二接地构件中的任一个接触，能够调整第一接地构件及第二接地构件的接地状态。