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公开(公告)号：CN115343912A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202211088336.9
申请日：2017-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本申请涉及感光性组合物及其应用。本发明提供可形成气体产生量少的固化膜的感光性树脂组合物、使用上述感光性树脂组合物形成的固化膜及用于将有机EL元件中的发光层划区的隔堤、具有上述隔堤的用于有机EL元件的基板及有机EL元件、使用上述感光性树脂组合物的固化膜及用于将有机EL元件中的发光层划区的隔堤的制造方法、和使用具有上述隔堤的用于有机EL元件的基板的有机EL元件的制造方法。
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公开(公告)号：CN112147841A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010577783.5
申请日：2020-06-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/027 , G02F1/1335
Abstract: 本发明的课题在于提供含有遮光剂的感光性组合物、该感光性组合物的固化物、由该固化物形成的黑色矩阵或黑色堤、具备该黑色矩阵或该黑色堤的滤色器、具备该滤色器的图像显示装置、和使用前述感光性组合物的经图案化的固化膜的制造方法，所述感光性组合物能够形成表面的反射率低、与基板密合的细线图案。本发明的解决手段是在包含碱溶性树脂(A)、光聚合性单体(B)、光聚合引发剂(C)及遮光剂(D)的感光性组合物中，作为遮光剂(D)，组合使用炭黑(D1)和内酰胺系颜料(D2)，所述炭黑(D1)被实施了选自基于有机物的被覆处理及导入酸性基团的处理中的表面处理。
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公开(公告)号：CN105467756B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201510618503.X
申请日：2015-09-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供适合用于形成黑色矩阵层的感光性树脂组合物，形成的感光性树脂层的电阻值高，形成图案时的光刻特性也优异。所述感光性树脂组合物含有具有Cardo骨架的树脂(A)、光聚合引发剂(B)、硅烷偶联剂(C)及着色剂(D)，所述感光性树脂组合物的特征在于，所述着色剂(D)包含经环氧树脂被覆处理的炭黑。
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公开(公告)号：CN109557765A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201811121141.3
申请日：2018-09-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供：能提供具有高遮光性的固化膜、并且通过低温下的烘烤而稳定地进行固化的感光性树脂组合物、使该感光性树脂组合物固化而形成的固化膜、具备该固化膜的显示装置、和使用前述的感光性树脂组合物的图案形成方法。另外，针对具备发光元件的基板，提供不会对发光元件造成热损伤的遮光膜形成工艺。使用下述的感光性树脂组合物，其包含(A)粘结剂树脂、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)着色剂、和(E)热固性化合物，其中，作为(D)着色剂，将(D1)炭黑及/或无机黑色颜料、与(D2)有机颜料组合，并且T2/T1为0.80以上。
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公开(公告)号：CN103365079B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201310092395.8
申请日：2013-03-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法以及不产生针孔等的、高品质的黑矩阵。本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法，其特征在于，使感光性基材成分(A)溶解于有机溶剂成分(S)中，用孔径为1μm以下的PTFE膜对所得的基材溶液进行过滤后，使颜料成分(G)分散于该基材溶液中。其中，上述感光性基材成分(A)含有碱可溶性树脂(A1)、光聚合性化合物(A2)、或光聚合引发剂(A3)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107540617A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710787383.5
申请日：2015-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07D233/60
Abstract: 本申请涉及咪唑化合物、金属表面处理液、金属的表面处理方法、及层合体的制造方法。本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。
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公开(公告)号：CN106687447A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201580046344.9
申请日：2015-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。
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公开(公告)号：CN104749884A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201410818315.7
申请日：2014-12-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够形成对基板的密合性和耐水性优异的图案的感光性树脂组合物、使用该感光性树脂组合物的图案形成方法、使用在该感光性树脂组合物中包含遮光剂作为着色剂的感光性树脂组合物而形成的黑矩阵、和具备该黑矩阵的显示装置。在包含(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合性单体、及(C)光聚合引发剂的感光性树脂组合物中配合特定的结构的(D)硅烷偶联剂。
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公开(公告)号：CN106019841B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201610193289.2
申请日：2016-03-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种利用低曝光量可形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物、使用了该负型感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该负型感光性树脂组合物形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具有该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。本发明的解决手段为含有下述式(1)表示的化合物的负型感光性树脂组合物。式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。
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公开(公告)号：CN104423157B
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201410455905.8
申请日：2014-09-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供能够形成耐光性及耐溶剂性优异的固化物的固化性组合物、使该固化性组合物固化而形成的固化物、发光元件用反射板、固化膜及干膜、以及具备该固化膜或该干膜的印制电路布线基板或柔性布线基板。用于解决上述课题的手段为在包含(A)固化性化合物和(B)白色着色剂的固化性组合物中配合特定结构的N‑取代咪唑衍生物，其中，所述(A)固化性化合物为环氧化合物和/或光聚合性单体等，所述(B)白色着色剂为氧化钛等。
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