公开(公告)号：CN102858915A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201180018325.7

申请日：2011-03-28

Applicant: 鹤见曹达株式会社 ,  东亚合成株式会社

Inventor： 西村康雄 ,  井原孝 ,  田口裕务

IPC: C09K13/00 ,  H01B13/00

CPC classification number: C09D11/03 ,  C08G73/0266 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/3221 ,  C08G2261/3223 ,  C08G2261/72 ,  C08K3/36 ,  C08K2003/2227 ,  C09D179/02 ,  H01L51/0019

Abstract: 本发明的目的在于提供对导电性高分子具有优异的蚀刻能力、所得到的图案的精度高的导电性高分子蚀刻用墨液、以及使用前述导电性高分子蚀刻用墨液的导电性高分子的图案化方法。本发明的导电性高分子蚀刻用墨液，其特征在于，其包含导电性高分子用蚀刻剂、增稠剂、及水系介质。另外，本发明的导电性高分子的图案化方法是使用前述导电性高分子蚀刻用墨液的图案化方法。

公开(公告)号：CN101669072A

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：CN200880013980.1

申请日：2008-06-27

Applicant: 东亚合成株式会社

Inventor： 田口裕务 ,  住田正直

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: G03F7/425

Abstract: 本发明提供：在使用温度下为液体、较难使铜等金属腐蚀、并且容易过滤而易于再次利用的抗蚀剂剥离剂组合物。本发明的抗蚀剂剥离剂组合物的特征在于，含有具有3～6元环的环状酯(碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯等)、具有低级烷基的酮类(丙酮、甲基乙基酮等)、及特定的亚烷基二醇单烷基醚类(乙二醇单乙基醚、二乙二醇单丁基醚等)中的一种、与特定的环状酰胺类(N-甲基-2-吡咯烷酮等)或特定的直链状酰胺类(N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二乙基乙酰胺等)的混合物。