阻气性膜
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108503870B

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN201810245065.0

    申请日:2013-12-25

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有高度的阻气性,并且耐弯曲性优异的阻气性膜。本发明的阻气膜,其特征在于,是在高分子基材的至少一侧,从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜,无机层[A]包含锌化合物和硅氧化物,硅化合物层[B]包含硅氧氮化物,并且无机层[A]与硅化合物层[B]接触。

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