-
公开(公告)号:CN104023971B
公开(公告)日:2016-03-16
申请号:CN201280053719.0
申请日:2012-10-12
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: C23C14/48 , C01B21/0823 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2367/02 , C08J2483/16 , C23C14/0676 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供具有优异的阻气性的阻气膜及这种阻气膜的制造方法。即,在基材上形成阻气层而成的阻气膜及这种阻气膜的制造方法,阻气层至少含有氧原子、硅原子、氮原子,将阻气层的与基材相接的面作为基材侧、将其相反面作为表面侧时,从表面侧朝向基材侧包含利用XPS测定而测得的氮量、硅量以及氧量成为以下关系的区域:按氧量>硅量>氮量的顺序形成的第1区域、按硅量>氧量>氮量的顺序形成的第2区域、按氧量>硅量>氮量的顺序形成的第3区域。
-
公开(公告)号:CN104115238A
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:CN201280069597.4
申请日:2012-12-26
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: H05K1/0353 , C08J5/18 , C08J7/045 , C08J2379/08 , C08J2433/06 , C08J2475/04 , C08J2483/16 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H01B3/30 , H01B3/306 , H05K1/0274 , H05K1/092
Abstract: 本发明提供一种塑料基板,包括聚酰亚胺薄膜基材、于其一面上所形成的硬涂层、以及于其另一面上所形成的透明电极层,该基板的光透过率优异,并具有高硬度特性、ITO工序性及柔韧性,适用于触控面板时能够同时执行窗膜和电极薄膜的功能,能够减少包括塑料基板的层叠的薄膜数,能够提供更加薄膜化的触控面板。
-
公开(公告)号:CN103201109B
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:CN201180055899.1
申请日:2011-09-16
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: B32B27/00
CPC classification number: C09D5/00 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2369/00 , C08J2381/06 , C08J2483/16 , C23C14/48 , G02F1/133305 , H01L51/448 , H01L51/5253 , H01L2251/5338 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10T428/31667
Abstract: 本发明为一种阻气膜、其制造方法、包含该阻气膜的电子装置用构件、以及具备该电子装置用构件的电子装置,所述阻气膜为具备基材层和位于该基材层的至少单面的阻气层的阻气膜,前述基材层包含玻璃化转变温度(Tg)超过130℃的树脂,前述阻气层由至少包含O原子和Si原子的材料构成,其表层部中,相对于O原子、N原子以及Si原子的总存在量,O原子的存在比率为60~75%、N原子的存在比率为0~10%、Si原子的存在比率为25~35%,且该表层部的膜密度为2.4~4.0g/cm3。根据本发明,提供阻气性、透明性、耐弯折性以及耐热性均优异的阻气膜、其制造方法、包含该阻气膜的电子装置用构件、以及具备该电子装置用构件的电子装置。
-
公开(公告)号:CN102834466B
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:CN201180017433.2
申请日:2011-03-28
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: C08L83/16 , C08K3/34 , C09D183/16 , C08J7/00 , C23C14/48 , G02F1/1333
CPC classification number: C09D1/00 , C08G77/62 , C08J7/04 , C08J2367/02 , C08J2483/16 , C08K3/346 , C08K2201/008 , C09D183/16 , C23C14/48 , G02F1/133305
Abstract: 本发明是成型体、其制造方法、包含该成型体的电子设备用构件以及具备该电子设备用构件的电子设备,所述成型体的特征在于,包含含有聚硅氮烷化合物和粘土矿物的层,且在40℃、相对湿度90%气氛下的水蒸气透过率为6.0g/m2/天以下。根据本发明,可以提供阻气性、透明性和耐弯折性优异的成型体、其制造方法、包含该成型体的电子设备用构件、和具有该电子设备用构件的电子设备。
-
公开(公告)号:CN104115238B
公开(公告)日:2017-08-22
申请号:CN201280069597.4
申请日:2012-12-26
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: H05K1/0353 , C08J5/18 , C08J7/045 , C08J2379/08 , C08J2433/06 , C08J2475/04 , C08J2483/16 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H01B3/30 , H01B3/306 , H05K1/0274 , H05K1/092
Abstract: 本发明提供一种塑料基板,包括聚酰亚胺薄膜基材、于其一面上所形成的硬涂层、以及于其另一面上所形成的透明电极层,该基板的光透过率优异,并具有高硬度特性、ITO工序性及柔韧性,适用于触控面板时能够同时执行窗膜和电极薄膜的功能,能够减少包括塑料基板的层叠的薄膜数,能够提供更加薄膜化的触控面板。
-
公开(公告)号:CN105885689A
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201610309371.7
申请日:2016-05-10
Applicant: 李植来
Inventor: 李植来
IPC: C09D183/16 , C09D7/12 , C08J7/04
CPC classification number: C09D183/16 , C08J7/047 , C08J2367/00 , C08J2483/16 , C08K2201/011 , C08L2201/10 , C08L2205/02 , C08L2205/03 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D7/65 , C08L83/04 , C08K13/02 , C08K2003/2244 , C08K3/36 , C08K2003/2272 , C08K2003/2275
Abstract: 本发明公开了一种无机闪光片及其制备方法,旨在提供一种在800摄氏度不熔融,透明度高,密度可调节的无机闪光片;其技术方案是由下述重量份的组分制成:有机低聚物4?6份,四乙氧基硅烷11?17份,聚碳硅烷16?24份,纳米氧化物填料8?12份,二氧化硅0.8?1.2份,四氢呋喃16?24份,二甲苯21?31份,六偏磷酸钠0.12?0.18份,聚硅氧烷消泡剂0.09?0.13份,1,2?苯并异噻唑?3?酮0.64?0.96份,酞青蓝0.01份,正丁醇1.6?2.4份,乙二醇乙醚0.8?1.2份及三丙二醇丁醚0.02份。
-
公开(公告)号:CN104023971A
公开(公告)日:2014-09-03
申请号:CN201280053719.0
申请日:2012-10-12
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: C23C14/48 , C01B21/0823 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2367/02 , C08J2483/16 , C23C14/0676 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供具有优异的阻气性的阻气膜及这种阻气膜的制造方法。即,在基材上形成阻气层而成的阻气膜及这种阻气膜的制造方法,阻气层至少含有氧原子、硅原子、氮原子,将阻气层的与基材相接的面作为基材侧、将其相反面作为表面侧时,从表面侧朝向基材侧包含利用XPS测定而测得的氮量、硅量以及氧量成为以下关系的区域:按氧量>硅量>氮量的顺序形成的第1区域、按硅量>氧量>氮量的顺序形成的第2区域、按氧量>硅量>氮量的顺序形成的第3区域。
-
公开(公告)号:CN103998230A
公开(公告)日:2014-08-20
申请号:CN201280061539.7
申请日:2012-12-10
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor: 西尾昌二
CPC classification number: H05K5/065 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B27/283 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/306 , B32B2307/412 , B32B2307/584 , B32B2307/72 , B32B2307/7242 , B32B2457/20 , C08J7/042 , C08J7/045 , C08J7/06 , C08J2367/02 , C08J2369/00 , C08J2381/06 , C08J2465/00 , C08J2483/06 , C08J2483/08 , C08J2483/16 , Y10T428/24992
Abstract: 一种气体阻隔膜(10),其具备实施真空紫外光照射处理并层叠于基材(1)上的气体阻隔层(2)和保护层(3),其中,形成为满足如下的规定:气体阻隔层(2)在其至少一部分中具有SiOxNy的组成,满足0.1≤x/(x+y)≤0.9的条件,同时保护层(3)的膜密度相对于气体阻隔层(2)的膜密度之比为0.2以上且0.75以下。
-
公开(公告)号:CN102356122B
公开(公告)日:2014-04-02
申请号:CN201080012283.1
申请日:2010-03-16
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: C08J7/123 , C08J7/047 , C08J2367/03 , C08J2483/00 , C08J2483/16 , Y10T428/24942 , Y10T428/31667
Abstract: 本发明是成形体,其是具有由至少含有氧原子和硅原子的材料构成的阻气层的成形体,其特征在于,相对于上述阻气层的表层部中的氧原子、氮原子和硅原子的存在总量,氧原子的存在比例为60~75%,氮原子的存在比例为0~10%,硅原子的存在比例为25~35%,且上述阻气层的表层部的膜密度为2.4~4.0g/cm3;上述成形体的制造方法,其具有在表面部具有含有聚硅氮烷化合物的层的成形物的、上述含有聚硅氮烷化合物的层的表面部注入离子的工序;包含上述成形体的电子设备用构件;具有上述电子设备用构件的电子设备。根据本发明,可以提供具有优异的阻气性能、耐弯折性优异且透明性良好的成形体、其制造方法,包含该成形体的电子设备用构件和具有该电子设备用构件的电子设备。
-
公开(公告)号:CN103201109A
公开(公告)日:2013-07-10
申请号:CN201180055899.1
申请日:2011-09-16
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: B32B27/00
CPC classification number: C09D5/00 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2369/00 , C08J2381/06 , C08J2483/16 , C23C14/48 , G02F1/133305 , H01L51/448 , H01L51/5253 , H01L2251/5338 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10T428/31667
Abstract: 本发明为一种阻气膜、其制造方法、包含该阻气膜的电子装置用构件、以及具备该电子装置用构件的电子装置,所述阻气膜为具备基材层和位于该基材层的至少单面的阻气层的阻气膜,前述基材层包含玻璃化转变温度(Tg)超过130℃的树脂,前述阻气层由至少包含O原子和Si原子的材料构成,其表层部中,相对于O原子、N原子以及Si原子的总存在量,O原子的存在比率为60~75%、N原子的存在比率为0~10%、Si原子的存在比率为25~35%,且该表层部的膜密度为2.4~4.0g/cm3。根据本发明,提供阻气性、透明性、耐弯折性以及耐热性均优异的阻气膜、其制造方法、包含该阻气膜的电子装置用构件、以及具备该电子装置用构件的电子装置。
-
-
-
-
-
-
-
-
-