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公开(公告)号:CN117029725A
公开(公告)日:2023-11-10
申请号:CN202310518456.6
申请日:2023-05-09
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/25
Abstract: 本发明公开了一种相位测量轮廓术多频外差相位展开的相位跳变误差消除方法,基于多频外差原理,通过后一像素点相位幅值减去当前像素点相位幅值计算展开相位的梯度,找出展开相位中可能存在误差的可疑点,根据误差的幅值判断误差来源并确定误差的起始和终止像素点位置,消除跳变误差并对跳跃点处加以平滑,该方法可判别实际形貌落差与跳变误差,消除阴影部分以外的跳变误差部分,使相位展开后得到的绝对相位更加平整且无跳变,从而使得整幅光栅条纹的相位展开图连续、光滑、无跳变,提高了三维形貌测量结果的精确度及稳定性。
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公开(公告)号:CN118623767A
公开(公告)日:2024-09-10
申请号:CN202411044172.9
申请日:2024-07-31
Abstract: 本发明为一种基于激光跟踪仪的立体标准器测量系统及其测量方法,采用平面反射装置使激光跟踪仪的激光光路发生镜面折转而改变其激光光路,使激光跟踪仪镜像原点与立体标准器两两顶点的靶球处在同一测量轴线上,减少需对立体标准器进行多次搬动调整位置的动作,即可实现激光跟踪仪干涉测距模块的高精度测量工作,实现激光跟踪仪干涉模块测量立体标准器的各边长,再根据立体标准器的几何关系,以立体标准器的四个顶点建立笛卡尔坐标系,建立顶点‑边长关系方程,计算出各顶点的坐标值,从而获得立体标准器各顶点的参考坐标值。本发明操作便捷、测量精度高、不受限于立体标准器尺寸大小,实现了立体标准器各顶点坐标值的精确测量。
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公开(公告)号:CN117006950A
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202311081467.9
申请日:2023-08-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置,包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统,所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动,所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器,所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统,由信号处理系统对干涉信号进行数据处理,获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。
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公开(公告)号:CN216846167U
公开(公告)日:2022-06-28
申请号:CN202120786997.3
申请日:2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板,其特征在于:所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域,所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶,一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识,深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽,在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构,所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同,且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。
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公开(公告)号:CN215261700U
公开(公告)日:2021-12-21
申请号:CN202120786965.3
申请日:2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型纳米膜厚标准样板,其特征在于:所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域,所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域,所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域,两测量工作区域厚度参数相同,所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框,所述的工作框四边外周设有一级循迹标识,在工作框内部设有二级循迹标识,工作框中部则设有中心几何薄膜结构,所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆,其外周布置有带箭头循迹标识,所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。
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公开(公告)号:CN216791112U
公开(公告)日:2022-06-21
申请号:CN202120786964.9
申请日:2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板,其特征在于:所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域,所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆,所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作中心圆,所述的小光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向小光斑光源测量工作中心圆的小光斑光源工作区域循迹标识,所述大光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向大光斑光源测量工作中心圆的大光斑光源工作区域循迹标识。本实用新型能够满足测量中不同光斑大小的测量需求,完善了半导体行业不同类型仪器的量值统一方式,使测量结构能被快速、准确地定位和测量,大大提高了测量效率。
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公开(公告)号:CN119915331A
公开(公告)日:2025-05-02
申请号:CN202510348384.4
申请日:2025-03-24
Abstract: 本发明为一种基于双光栅干涉的微型旋转编码器校准装置及其校准方法,包括双光栅零差干涉校准系统、微振动位移台和微型旋转编码器及接收系统,微振动位移台设有安装有两光栅调节装置的机械振动模块,微型旋转编码器与其中一光栅调节装置拼接,并与单片机控制模块电路相连,由单片机控制模块接收上位机输入的目标参数信息控制旋转编码器,并驱动微振动位移台沿矢量方向连续振动,带动光栅旋转设定角度,通过实时输出双光栅干涉信号并计算光栅旋转产生的余弦角测量值,与微型旋转式编码器刻制标准值比对直至完成校准。本发明采用双光栅干涉比对校准的形式,实现对微型旋转编码器的高精度校准,可溯源到“米”的定义,稳定性高、溯源链短、鲁棒性强。
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公开(公告)号:CN118709744A
公开(公告)日:2024-09-27
申请号:CN202410918667.3
申请日:2024-07-10
IPC: G06N3/084 , G01B11/24 , G06N3/0455 , G06N3/0464
Abstract: 本发明公开了一种基于深度学习语义分割网络的相位解包裹方法,包括以下步骤:使用仿真软件生成包括包裹相位和对应的展开相位的数据集,并按比例随机划分成训练集、验证集和测试集;对训练集中的包裹相位数据进行预处理得到处理后的训练集;基于U‑Net网络搭建包含卷积层、池化层的U型网络,并加入多信息融合模块形成复合神经网络模型PMDU;将待解包裹的包裹相位图输入到PMDU网络模型中进行模型训练后确定PMDU模型的参数;将测试集中的包裹相位数据作为PMDU模型的输入进行相位解包裹,将得到对应实际展开相位数据与仿真软件生成的对应展开相位数据对比确定PMDU模型的准确性。本发明求解速度快,精度高,噪声鲁棒性强。
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公开(公告)号:CN117517718A
公开(公告)日:2024-02-06
申请号:CN202311566217.4
申请日:2023-11-22
IPC: G01Q60/38
Abstract: 本发明为一种用于原子力显微镜的悬臂梁探针支架,包括基体、探针座和夹持机构,所述的基体为中空柱体结构,在中心通孔的顶部设有圆形视窗,所述的探针座用于安装悬臂梁探针,设于圆形视窗外表面,安装后探针的针尖位于圆形视窗区域内,所述的悬臂梁探针通过夹持机构夹紧固定,夹持机构通过固定杆设于基体侧壁,包括夹持片和金属弹片,所述的夹持片为“Z”字形结构,其顶部一段为用于压紧悬臂梁探针圆弧压片,中段竖直并开有矩形卡槽,底部一段为水平段,所述的金属弹片设有一端部倾斜于本体表面的薄型弹片,金属弹片本体固定于基体侧壁上,夹持片相对于金属弹片上下活动,通过矩形卡槽与薄型弹片的卡合实现夹持片对悬臂梁探针的压紧定位。
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公开(公告)号:CN116560028A
公开(公告)日:2023-08-08
申请号:CN202310592376.5
申请日:2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种背对式两光栅相互平行的调节方法及调节装置,包括调节两光栅栅面平行和调节两光栅栅线平行,采用的调节装置包括第一光栅A、第二光栅B、红光光源、接收屏、光栅安装板、小孔光阑、准直光源、分别设于光栅四个角的螺纹结构和用于光栅与光栅安装板连接安装的伸缩式卡槽旋转机构,通过调节分设于光栅安装板正反两面的第一光栅A和第二光栅B分别与同一水平准直光源垂直来实现两光栅的栅面平行调节,通过红光光源发射光线,由接收屏分次显示两光栅形成的衍射图样,并对两个或以上的衍射光斑分别标记后连线,调节第一光栅A使其标记连线与第二光栅B的标记连线平行,完成两光栅的栅线平行调节。
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