相位测量轮廓术多频外差相位展开的相位跳变误差消除方法

    公开(公告)号:CN117029725A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202310518456.6

    申请日:2023-05-09

    Abstract: 本发明公开了一种相位测量轮廓术多频外差相位展开的相位跳变误差消除方法,基于多频外差原理,通过后一像素点相位幅值减去当前像素点相位幅值计算展开相位的梯度,找出展开相位中可能存在误差的可疑点,根据误差的幅值判断误差来源并确定误差的起始和终止像素点位置,消除跳变误差并对跳跃点处加以平滑,该方法可判别实际形貌落差与跳变误差,消除阴影部分以外的跳变误差部分,使相位展开后得到的绝对相位更加平整且无跳变,从而使得整幅光栅条纹的相位展开图连续、光滑、无跳变,提高了三维形貌测量结果的精确度及稳定性。

    一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置

    公开(公告)号:CN117006950A

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN202311081467.9

    申请日:2023-08-25

    Abstract: 本发明为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置,包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统,所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动,所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器,所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统,由信号处理系统对干涉信号进行数据处理,获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。

    一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板

    公开(公告)号:CN216846167U

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202120786997.3

    申请日:2021-04-17

    Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板,其特征在于:所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域,所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶,一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识,深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽,在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构,所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同,且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。

    一种复合型纳米膜厚标准样板

    公开(公告)号:CN215261700U

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202120786965.3

    申请日:2021-04-17

    Abstract: 本实用新型为一种复合型纳米膜厚标准样板,其特征在于:所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域,所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域,所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域,两测量工作区域厚度参数相同,所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框,所述的工作框四边外周设有一级循迹标识,在工作框内部设有二级循迹标识,工作框中部则设有中心几何薄膜结构,所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆,其外周布置有带箭头循迹标识,所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。

    一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板

    公开(公告)号:CN216791112U

    公开(公告)日:2022-06-21

    申请号:CN202120786964.9

    申请日:2021-04-17

    Abstract: 本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板,其特征在于:所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域,所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆,所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作中心圆,所述的小光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向小光斑光源测量工作中心圆的小光斑光源工作区域循迹标识,所述大光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向大光斑光源测量工作中心圆的大光斑光源工作区域循迹标识。本实用新型能够满足测量中不同光斑大小的测量需求,完善了半导体行业不同类型仪器的量值统一方式,使测量结构能被快速、准确地定位和测量,大大提高了测量效率。

    背对式两光栅相互平行的调节方法及调节装置

    公开(公告)号:CN116560028A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202310592376.5

    申请日:2023-05-24

    Abstract: 本发明为一种背对式两光栅相互平行的调节方法及调节装置,包括调节两光栅栅面平行和调节两光栅栅线平行,采用的调节装置包括第一光栅A、第二光栅B、红光光源、接收屏、光栅安装板、小孔光阑、准直光源、分别设于光栅四个角的螺纹结构和用于光栅与光栅安装板连接安装的伸缩式卡槽旋转机构,通过调节分设于光栅安装板正反两面的第一光栅A和第二光栅B分别与同一水平准直光源垂直来实现两光栅的栅面平行调节,通过红光光源发射光线,由接收屏分次显示两光栅形成的衍射图样,并对两个或以上的衍射光斑分别标记后连线,调节第一光栅A使其标记连线与第二光栅B的标记连线平行,完成两光栅的栅线平行调节。

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