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公开(公告)号：CN113884047B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202010637446.0
申请日：2020-07-03
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B21/16
Abstract: 本发明公开了一种轨距尺检测装置，其包括有分体式的第一测量平台和第二测量平台，所述第一测量平台和所述第二测量平台分别用于抵靠轨距尺的两端，所述第一测量平台和所述第二测量平台共同对所述轨距尺进行长度检测检定和超高检测检定。本发明的轨距尺检测装置，通过将轨距尺的两端的活动测头分别抵靠于两个测量平台，两个测量平台共同作用完成轨距尺的长度检测检定和超高检测检定，采用电机作为驱动部件，采用光栅尺与读数头作为测量部件采集位移信息，读数头测得的位移数据作为标准与轨距尺的读数相比较，从而实现在现场对轨距尺的高精度检定。
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公开(公告)号：CN119268563A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411599697.9
申请日：2024-11-11
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明为一种基于激光干涉仪的纳米光栅位姿校准系统，包括光路系统及位移台驱动系统，所述的位移台驱动系统包括四轴位移台，所述的四轴位移台的安装台面上设有用于安装纳米光栅的纳米光栅支架和激光干涉仪，所述的纳米光栅通过四轴位移台依次对纳米光栅三轴方向角度分别进行修正，包括俯仰、横滚与偏摆三自由度上的自由转动以及光栅轴线方向上的线位移。本发明采用激光干涉仪测量值作为光栅姿态的修正反馈，将光栅位移测量系统的测量值与其进行比对，判断四轴位移台各轴的调整方向，最后再经由多次驱动四轴位移台，将纳米光栅支架调整至理想位置，解决纳米光栅位姿误差问题。
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公开(公告)号：CN116558447A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310592305.5
申请日：2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明为一种用于检定两光栅平行性的装置，包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏，所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分，利用第一光栅和第二光栅的镜面反射，通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线，实现两光栅栅面平行调整，利用第一光栅和第二光栅的衍射效应，通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线，实现两光栅栅线平行调整。本发明结构简单，原理易懂，便于操作实现。
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公开(公告)号：CN115112028A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210957257.0
申请日：2022-08-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法，属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本发明装置依次为激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块；所述激光光源发出激光光束，激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块，形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制，最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收；所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号，并进行数据处理。
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公开(公告)号：CN216846167U
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202120786997.3
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域，所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶，一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识，深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽，在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构，所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同，且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN217716312U
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202222097838.X
申请日：2022-08-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/06
Abstract: 本实用新型为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置，属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本实用新型装置包括激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块；所述激光光源发出激光光束，激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块，形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制，最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收；所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号，并进行数据处理。
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公开(公告)号：CN215261700U
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202120786965.3
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域，所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域，两测量工作区域厚度参数相同，所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框，所述的工作框四边外周设有一级循迹标识，在工作框内部设有二级循迹标识，工作框中部则设有中心几何薄膜结构，所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆，其外周布置有带箭头循迹标识，所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。
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公开(公告)号：CN220348215U
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202322015023.7
申请日：2023-07-28
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: B25B11/00
Abstract: 本实用新型为一种多自由度自定心光学镜片夹持支架，包括设于底座上的伸缩杆、与伸缩杆顶部固定连接的外圈、设于外圈内侧的中圈和设于中圈内侧的内圈，通过伸缩杆实现镜片高度调节和左右转动角度调节，通过中圈相对外圈的翻转活动实现镜片俯仰角度调节，通过带自定心夹持功能的内圈相对中圈的环面旋转实现镜片的自定心及径向旋转角度调节，从而在光学检测中实现了对不同尺寸的光学镜片的自定心夹持工作并可对其进行多自由度调节的功能，且结构简单，定位精准度高，同时能够实现不同尺寸的镜片夹持。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN220153527U
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202321274140.9
申请日：2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/26
Abstract: 本实用新型为一种用于检定两光栅平行性的装置，包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏，所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分，利用第一光栅和第二光栅的镜面反射，通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线，实现两光栅栅面平行调整，利用第一光栅和第二光栅的衍射效应，通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线，实现两光栅栅线平行调整。本实用新型结构简单，原理易懂，便于操作实现。
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公开(公告)号：CN212432102U
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN202021294903.2
申请日：2020-07-03
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B21/16
Abstract: 本实用新型公开了一种轨距尺检测装置，其包括有分体式的第一测量平台和第二测量平台，所述第一测量平台和所述第二测量平台分别用于抵靠轨距尺的两端，所述第一测量平台和所述第二测量平台共同对所述轨距尺进行长度检测检定和超高检测检定。本实用新型的轨距尺检测装置，通过将轨距尺的两端的活动测头分别抵靠于两个测量平台，两个测量平台共同作用完成轨距尺的长度检测检定和超高检测检定，采用电机作为驱动部件，采用光栅尺与读数头作为测量部件采集位移信息，读数头测得的位移数据作为标准与轨距尺的读数相比较，从而实现在现场对轨距尺的高精度检定。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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