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公开(公告)号：CN103060902B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310008252.4
申请日：2013-01-10
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种直接成形制备带硅的方法，在硅片和硅熔体的固液界面区域施加交变磁场，在固液界面前沿处的硅熔体中形成感生电流，通过交变磁场和感生电流的共同作用，在固液界面处形成垂直固液界面并指向硅熔体内部的电磁挤压力，调整电磁挤压力的大小，使电磁挤压力完全抵消硅片窄边固液界面处向内的表面张力，从而使柔性的电磁力约束并稳定固液界面的形状，使柔性的电磁力约束的硅熔体成形并持续凝固，然后将凝固的带状硅铸坯持续拉出，直接制备带硅。本发明还公开了一种硅片直接成形装置，包括硅料熔化保温装置、加料装置、直拉引锭装置和带硅软接触成形装置，直接制备带硅，实现洁净生产，减少硅片缺陷，实现大规模直接生产带硅的工业应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103320737B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201310258368.3
申请日：2013-06-26
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法，控制传输备用基础薄带并使其通过热浸镀池的热浸镀液，使备用基础薄带表面覆盖上一层热浸高硅镀层，然后通过对热浸高硅镀层的厚度和表面平整度进行修饰控制，得到高硅复合镀层钢带坯料，再进行均匀化扩散热处理，连续制备硅元素分布均匀的高硅钢薄带。本发明还公开了一种硅钢带连续制备装置，包括按照工艺先后次序设置的放卷引导装置、预热炉、镀液连续供应装置、热浸镀装置、扩散热处理装置和收卷装置。本发明利用低硅钢薄带快速通过高硅熔液热浸镀一层高硅镀层，然后经过热处理工艺来获得具有优异磁性能的高硅硅钢薄带，操作简单，具有高效、可连续制备的特点，可大幅度降低制备成本。
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公开(公告)号：CN103320737A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310258368.3
申请日：2013-06-26
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法，控制传输备用基础薄带并使其通过热浸镀池的热浸镀液，使备用基础薄带表面覆盖上一层热浸高硅镀层，然后通过对热浸高硅镀层的厚度和表面平整度进行修饰控制，得到高硅复合镀层钢带坯料，再进行均匀化扩散热处理，连续制备硅元素分布均匀的高硅钢薄带。本发明还公开了一种硅钢带连续制备装置，包括按照工艺先后次序设置的放卷引导装置、预热炉、镀液连续供应装置、热浸镀装置、扩散热处理装置和收卷装置。本发明利用低硅钢薄带快速通过高硅熔液热浸镀一层高硅镀层，然后经过热处理工艺来获得具有优异磁性能的高硅硅钢薄带，操作简单，具有高效、可连续制备的特点，可大幅度降低制备成本。
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公开(公告)号：CN103060902A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201310008252.4
申请日：2013-01-10
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种直接成形制备带硅的方法，在硅片和硅熔体的固液界面区域施加交变磁场，在固液界面前沿处的硅熔体中形成感生电流，通过交变磁场和感生电流的共同作用，在固液界面处形成垂直固液界面并指向硅熔体内部的电磁挤压力，调整电磁挤压力的大小，使电磁挤压力完全抵消硅片窄边固液界面处向内的表面张力，从而使柔性的电磁力约束并稳定固液界面的形状，使柔性的电磁力约束的硅熔体成形并持续凝固，然后将凝固的带状硅铸坯持续拉出，直接制备带硅。本发明还公开了一种硅片直接成形装置，包括硅料熔化保温装置、加料装置、直拉引锭装置和带硅软接触成形装置，直接制备带硅，实现洁净生产，减少硅片缺陷，实现大规模直接生产带硅的工业应用。
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公开(公告)号：CN103014613A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210589066.X
申请日：2012-12-31
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种热扩散连续制备高硅钢片方法，由空心低硅钢板带的制备、布料、轧制、高温扩散和收卷五个步骤组成，通过布料实现将含高硅粉末均匀分布在两低硅钢板之间，轧制实现含高硅粉末与低硅钢板的紧密机械结合，高温扩散实现冶金结合，放卷、收卷实现连续制备的可能，实现连续制备含硅量不低于6.5wt.%Si的高硅钢薄带。本发明还提供一种高硅钢片连轧装置，包括自上而下依次设置的布料装置、放卷引导装置、轧制装置、高温扩散装置和收卷装置，本发明解决了传统轧制法制备高硅钢的硅钢脆性大的问题，能近终成型连续制备高硅钢薄带，轧制过程工艺简单，能量消耗较低，成材率高，属于绿色无污染的洁净制备技术，易于应用于工业生产。
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公开(公告)号：CN102925937A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201210327475.2
申请日：2012-09-07
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明旨在提供一种连续制备高硅钢薄带的方法和装置。本方法采用复合电镀方法,在镀铁溶液中加入0.1～3μm的硅铁合金粉末,以低硅钢带作为电解阴极,在复合电解液中被镀上7.0wt%～99wt％Si的厚复合镀层,经热处理后得到均匀的6.5wt%Si的高硅钢薄带，可以实现连续制备。本装置是在传统的复合电镀装置基础上,通过施加磁场强度为0.001～20T的恒定磁场,通过磁场使作为阴极的低硅钢薄带磁化，并在表面形成很强的梯度场，利用磁场力将镀液中的硅铁合金颗粒吸附在低硅钢带阴极表面，进而通过复合镀铁过程获得高硅镀层,然后经后续的气氛保护热处理，就可以制备出硅含量达6.5wt%的高性能高硅钢薄带。本发明操作简单,低温增硅操作，成本低廉，并且可以连续制备高硅钢带材。
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