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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1446730A
公开(公告)日：2003-10-08
申请号：CN03115691.6
申请日：2003-03-07
IPC: B64G1/54
Abstract: 本发明涉及一种抗辐射屏蔽方法，属防辐射材料处理方法及相关防辐射屏蔽技术领域。在航天器外壳固有屏蔽材料铝或铝镁合金壳层涂以重金属材料，其特征在于与传统涂层的方式不同，涂层不是涂在壳层的表面，而是涂在壳层的背面或内部，即在铝或铝镁合金外壳层的背面或内部涂上一层一定厚度的重金属钨和具有抗辐射性能的高分子粘结剂的混合粉末层，也即高原子序数金属掺杂层；然后再涂上一层一定厚度的低原子序数金属掺杂层。
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公开(公告)号：CN112329134B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202011138664.6
申请日：2020-10-22
Applicant: 上海卫星工程研究所
IPC: G06F30/15 , G01S13/90 , G06F111/04 , G06F111/10
Abstract: 本发明提供了一种基于工程约束的双星InSAR编队构形优化方法及系统，包括：根据双星编队干涉成像实际工程需求，得到构形设计约束；引入编队相对运动学模型，并以此得到所述设计约束的数学描述；根据所述数学描述建立以构形被动安全性最优为指标的多约束、多变量编队构形优化模型；通过构形特征理论分析进行设计参数约化与优化算法参数寻优相结合的方法，确定目标编队构形。本发明解决了工程实际中设计约束复杂、目标构形难于求解的问题，为InSAR系统获取高精度DEM产品提供了工程实现基础。
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公开(公告)号：CN112329134A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011138664.6
申请日：2020-10-22
Applicant: 上海卫星工程研究所
IPC: G06F30/15 , G01S13/90 , G06F111/04 , G06F111/10
Abstract: 本发明提供了一种基于工程约束的双星InSAR编队构形优化方法及系统，包括：根据双星编队干涉成像实际工程需求，得到构形设计约束；引入编队相对运动学模型，并以此得到所述设计约束的数学描述；根据所述数学描述建立以构形被动安全性最优为指标的多约束、多变量编队构形优化模型；通过构形特征理论分析进行设计参数约化与优化算法参数寻优相结合的方法，确定目标编队构形。本发明解决了工程实际中设计约束复杂、目标构形难于求解的问题，为InSAR系统获取高精度DEM产品提供了工程实现基础。
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公开(公告)号：CN111950881A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010763212.0
申请日：2020-07-31
Applicant: 上海卫星工程研究所
Abstract: 本发明提供了一种遥感卫星对固定目标点成像的体系贡献率评估方法及系统，包括：体系构建步骤：构建遥感卫星对固定目标点成像的体系架构；构建体系仿真环境步骤：根据STK软件构建体系仿真环境，进行固定目标点和卫星模型设置；联合仿真步骤：根据体系架构和体系仿真环境进行交互式的联合仿真；评估步骤：评估遥感卫星对固定目标点成像的体系贡献率。本发明能够建立符合实际应用情况的固定目标点目标探测任务场景；能够科学、可视化地建立各参与遥感卫星的任务流程和交互信息；可有效量化评估遥感卫星发挥的作用，通用范围广，适用性强，具有良好的应用前景和市场前景。
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公开(公告)号：CN102490913A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110362416.4
申请日：2011-11-15
Applicant: 上海卫星工程研究所
IPC: B64G1/54
Abstract: 本发明提出一种抗总剂量屏蔽装置，包括用于慢化和屏蔽初级电子的第一低Z层，用于散射电子并吸收二次韧致辐射光子的高Z层，以及用于吸收高Z材料中产生的光电子和背散射电子并抑制X射线与材料作用产生的二次光电子发射和电子背散射的第二低Z层，其中，第一低Z层为最外层，该层靠近卫星外的太空，所述第二低Z层为最内层，该层靠近受屏蔽的元器件；第一低Z层与第二低Z层采用原子序数小于等于30的元素所形成的材料实现，第一低Z层的厚度在1-3毫米之间，第二低Z层的厚度在0.2-0.4毫米之间；高Z层采用原子序数大于或等于50的元素所形成的材料实现，高Z层的厚度在0.1-0.3毫米之间。
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