公开(公告)号：CN102844820B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201080066259.6

申请日：2010-05-27

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 原田久

IPC: G21K1/02 ,  A61N5/10 ,  G21K1/093

CPC classification number: A61N5/1042 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1049 ,  A61N5/1065 ,  A61N5/1079 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087 ,  G21K1/093

Abstract: 本发明的目的在于在粒子射线照射系统中，提供更高精度的剂量分布。照射控制部(13)包括设定带电粒子束的能量的能量设定控制器(14)、控制射束扫描器(41)的射束扫描控制器(16)、及控制射束直径变更器(40、60)的射束直径控制器(15)，照射控制部(13)利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为第一射束直径，利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描，以对照射目标的规定区域照射带电粒子束，之后，利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为与第一射束直径不同的第二射束直径，利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描，以控制成对与照射目标的所述规定区域的至少一部分重叠的区域照射带电粒子束。

公开(公告)号：CN103917274A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201280054629.3

申请日：2012-09-21

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 花川和之 ,  菅原贤悟 ,  小田原周平 ,  原田久 ,  池田昌广 ,  大谷利宏 ,  本田泰三 ,  吉田克久

IPC: A61N5/10 ,  G21K5/04 ,  H05H7/04 ,  H05H13/04

CPC classification number: A61N5/1042 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1067 ,  A61N2005/1087 ,  H05H7/04 ,  H05H2007/048 ,  H05H2277/11

Abstract: 本发明的粒子射线治疗系统包括对带电粒子射束进行加速的加速器系统、以及将从该加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统，所述射束输送系统中具备至少一个转向电磁铁和与该转向电磁铁相对应的至少一个射束位置监视器，所述射束位置监视器向所述转向电磁铁提供对周期性变动的射束位置进行校正的励磁电流。

公开(公告)号：CN102905761B

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201180023612.7

申请日：2011-06-22

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 蒲越虎 ,  原田久 ,  本田泰三

IPC: A61N5/10 ,  G21K1/02 ,  G21K1/04 ,  G21K5/04

CPC classification number: G21K1/046 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1045 ,  A61N5/1048 ,  A61N2005/1052 ,  A61N2005/1054 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095 ,  G21K1/10 ,  G21K5/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能以简单的结构来检查扫描机构等的动作、从而可靠性更高的粒子射线照射装置。包括：对扫描出的粒子束(4)的一部分进行屏蔽的粒子束屏蔽体(6)；对扫描出的粒子束(4)与该粒子束屏蔽体(6)发生碰撞时所产生的即时信号进行检测的即时信号检测器(11)；以及信号比较装置(12)，该信号比较装置(12)预测并求出由预先决定的扫描图案所产生的即时信号的产生图案，并将其作为比较用信号时间图案来进行存放，该信号比较装置(12)将检测信号时间图案与所存放的比较用信号时间图案进行比较，以对粒子束的扫描或粒子束屏蔽体(6)的异常进行检测，其中，所述检测信号时间图案是根据预先决定的扫描图案来将粒子束进行扫描并对目标照射粒子束时由即时信号检测器(11)所检测出的信号的时间图案。

公开(公告)号：CN102421481A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN200980159292.0

申请日：2009-06-03

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 蒲越虎 ,  吉田克久 ,  山本雄一 ,  坂本豪信 ,  本田泰三 ,  原田久 ,  岩田高明

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/10 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明的目的在于提供一种既能抑制带电粒子束的最大可利用射程的减少、又能扩大束点的剂量分布的粒子射线照射装置。粒子射线照射装置包括粒子射线加速单元(1)、粒子射线输送单元(2)、具有带电粒子束扫描电磁铁和扫描电源(11)的扫描装置、及照射控制单元(14)，所述扫描装置包括第一扫描单元(3)和第二扫描单元(4)，该第一扫描单元(3)将带电粒子束进行扫描来形成伪扩大束点，该第二扫描单元(4)使所述伪扩大束点的位置与所述目标区域一致来进行扫描。

公开(公告)号：CN105263577B

公开(公告)日：2018-05-01

申请号：CN201380077190.0

申请日：2013-06-06

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 原田久 ,  池田昌广 ,  高桥理 ,  伊奈信彦 ,  蒲越虎 ,  岩田高明

IPC: A61N5/10 ,  G01T7/00 ,  G21K5/04

CPC classification number: A61N5/1067 ,  A61N5/1071 ,  A61N5/1075 ,  A61N2005/1076 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明包括：按每一层对粒子射线进行成形并进行照射的照射装置(10)；实时测量剂量的剂量监视器(12)；基于剂量监视器(12)测量到的测量值(Ci)和按每一层进行设定的剂量校正系数来对每一层的照射剂量进行评价的剂量评价部(70)；基于剂量评价部(70)的评价结果来控制每一层的照射的照射控制部(60)；以及使用通过对设置有校正剂量计(82)的模拟体模(81)照射粒子射线而获得的实际测量剂量校正系数(αi)、来生成剂量校正系数的插补值或推测值(βi)的插补值生成部(74)，插补值生成部(74)对于成为插补值或推测值(βi)的对象的每一层，基于该层的照射条件，进行每一个实际测量剂量校正系数(αi)的加权。

公开(公告)号：CN107427689A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201580078513.7

申请日：2015-04-09

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 岩田高明 ,  原田久

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/103 ,  A61N5/10 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N5/1081 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1096

Abstract: 本发明的治疗计划装置包括：保存要照射至照射对象的目标照射剂量分布的数据统辖管理部；计算广域照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数的广域照射参数运算部；以及计算扫描照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数的扫描照射参数运算部，广域照射参数运算部与扫描照射参数运算部协同地计算并求出广域照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数、以及扫描照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数，以根据广域照射和扫描照射这两者的照射剂量的总和来形成目标照射剂量分布。

公开(公告)号：CN106163616A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201480077893.8

申请日：2014-04-10

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 坂本裕介 ,  蒲越虎 ,  原田久 ,  本田泰三

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1071 ,  A61N5/10 ,  A61N5/1044 ,  A61N5/1067 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1087

Abstract: 粒子射线照射装置(50)对一个照射位置(12)多次照射粒子射线(10)。存储部(3)存储各次应照射的剂量(分割目标剂量)。剂量监视器(5)测量照射至照射位置(12)的粒子射线(10)的剂量。第1次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达分割目标剂量后，控制部(4)发出遮断信号(15)。剂量监视器(5)测量从发出遮断信号(15)后至实际遮断粒子射线(10)的期间内照射的剂量(过剩剂量)(14)。然后设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量。也可以改设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量预测值。第2次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达校正剂量值后，控制部(4)发出遮断信号(15)。通过该校正，减少点扫描法中超出所计划的剂量的照射剂量。

公开(公告)号：CN105263577A

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201380077190.0

申请日：2013-06-06

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 原田久 ,  池田昌广 ,  高桥理 ,  伊奈信彦 ,  蒲越虎 ,  岩田高明

IPC: A61N5/10 ,  G01T7/00 ,  G21K5/04

CPC classification number: A61N5/1067 ,  A61N5/1071 ,  A61N5/1075 ,  A61N2005/1076 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明包括：按每一层对粒子射线进行成形并进行照射的照射装置(10)；实时测量剂量的剂量监视器(12)；基于剂量监视器(12)测量到的测量值(Ci)和按每一层进行设定的剂量校正系数来对每一层的照射剂量进行评价的剂量评价部(70)；基于剂量评价部(70)的评价结果来控制每一层的照射的照射控制部(60)；以及使用通过对设置有校正剂量计(82)的模拟体模(81)照射粒子射线而获得的实际测量剂量校正系数(αi)、来生成剂量校正系数的插补值或推测值(βi)的插补值生成部(74)，插补值生成部(74)对于成为插补值或推测值(βi)的对象的每一层，基于该层的照射条件，进行每一个实际测量剂量校正系数(αi)的加权。

公开(公告)号：CN102421481B

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN200980159292.0

申请日：2009-06-03

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 蒲越虎 ,  吉田克久 ,  山本雄一 ,  坂本豪信 ,  本田泰三 ,  原田久 ,  岩田高明

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/10 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明的目的在于提供一种既能抑制带电粒子束的最大可利用射程的减少、又能扩大束点的剂量分布的粒子射线照射装置。本发明的粒子射线照射装置包括：粒子射线加速单元；粒子射线输送单元；扫描装置，该扫描装置包括第一扫描单元和第二扫描单元，将所述带电粒子束进行二维扫描；以及照射控制单元，该照射控制装置控制所述扫描装置，使得将所述带电粒子束照射到包含多个伪扩大束点的目标区域，所述照射控制单元控制所述第一扫描单元，使得所述带电粒子束对所述多个伪扩大束点中的成为照射对象的伪扩大束点进行扫描，并控制所述第二扫描单元，使得将成为所述照射对象的伪扩大束点改变为所述多个伪扩大束点中的其他伪扩大束点。

公开(公告)号：CN104023791A

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN201180074600.7

申请日：2011-11-03

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 池田昌广 ,  原田久 ,  花川和之 ,  大谷利宏 ,  片寄雅 ,  本田泰三 ,  山田由希子 ,  蒲越虎

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1081 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095

Abstract: 本发明的目的在于，即使带电粒子束为低能量，也以较小的射束尺寸对照射对象进行照射。本发明的粒子射线照射装置(58)的特征在于，包括：形成供带电粒子束(1)通过的真空区域的真空管道(6、7)；从真空区域释放带电粒子束(1)的真空窗8；在与射束轴垂直的方向上扫描带电粒子束(1)的扫描电磁铁(2、3)；具有对带电粒子束(1)的通过位置以及射束尺寸进行检测的位置监视器(5)的监视器装置(67)；覆盖真空窗(8)、并在下游侧配置有监视器装置(67)的低散射气体填充室(39)；以及对带电粒子束(1)的照射进行控制的照射管理装置(20)，低散射气体填充室(39)配置成使得监视器装置(67)与真空窗(8)在射束轴向上的相对位置能变更为规定位置，在照射带电粒子束(1)时，填充有散射比空气小的低散射气体。