公开(公告)号：CN101888906B

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：CN200880119796.5

申请日：2008-11-17

申请人： 三洋化成工业株式会社

发明人： 胜川吉隆 ,  铃木一充 ,  佐藤祥平

IPC分类号： B08B3/08 ,  C11D3/30 ,  C11D3/43 ,  H01L21/304 ,  B08B3/10 ,  B08B3/12 ,  C11D1/02 ,  C11D3/04

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D1/06 ,  C11D1/143 ,  C11D1/146 ,  C11D1/342 ,  C11D1/345 ,  C11D3/43

摘要： 一种电子材料用清洗剂，其中，所述清洗剂含有阴离子成分由通式(1)表示的阴离子型表面活性剂(A)、碳原子数6～18的链烯、以及选自于由通式(2)表示的有机溶剂构成的组中的1种以上的有机溶剂(B)，上述(B)的SP值为6～13。R1[-(OA1)a-Q-]b (1)式(1)中，R1为碳原子数1～10的烃基，A1为碳原子数2～4的亚烷基，Q-为-COO-、-OCH2COO-、-SO3-、-OSO3-或-OPO2(OR2)-，R2为氢或碳原子数1～10的烃基，a为平均值0～20，b为1～6的整数，Q-为-COO-或-SO3-时a为0。R3[-(OA2)c-OH]d (2)式(2)中，R3为碳原子数1～12的烃基，A2为碳原子数2～4的亚烷基，c为平均值0～20，d为1～6的整数。

公开(公告)号：CN101848987A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200880106471.3

申请日：2008-09-12

申请人： 三洋化成工业株式会社

发明人： 铃木一充 ,  杉山彩代 ,  胜川吉隆

IPC分类号： C11D17/00 ,  B08B3/08 ,  C11D1/02 ,  C11D1/66 ,  C11D3/04 ,  C11D3/16 ,  C11D3/37 ,  H01L21/304

CPC分类号： H01L21/02057 ,  C11D11/0047 ,  G03F1/82

摘要： 本发明提供一种磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料用清洁剂，其可对磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料基板的表面赋予适度的蚀刻性，而不会损及该些基板表面的平坦性，并且该清洁剂藉由使用界面活性剂而使自基板表面脱离的颗粒的分散性提高，而实现优异的颗粒除去性，藉此，提高制造良率以及在短时间内完成清洁率极高的高度清洁。该电子材料用清洁剂含有界面活性剂(A)，上述清洁剂的特征在于：在用作清洁液时的有效成分浓度下、25℃下的pH值及氧化还原电位(V)[单位为mV，vsSHE]满足下述数式(1)。V≤-38.7×pH值+550 (1)。

公开(公告)号：CN1840625A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610065995.5

申请日：2006-03-29

申请人： 三洋化成工业株式会社 ,  庄臣株式会社

发明人： 胜川吉隆 ,  坂本智惠

IPC分类号： C11D3/395 ,  C11D1/14

摘要： 本发明提供一种液体漂白洗涤剂组合物，其中次氯酸碱金属盐的稳定性优异，该洗涤剂对于含有无机物的霉污的洗涤性能优异。所述液体漂白洗涤剂组合物为水溶液状，其含有如下物质：式(1)和/或式(1’)所示的阴离子性表面活性剂(A)，式(2)所示的链烷磺酸盐(B)，式(3)所示的氧化胺(C)，呈碱性的化合物(D)，次氯酸碱金属盐(E)，羧酸碱金属盐(F)和水(G)，其特征在于，按质量基准，含有的(A)和(B)的合计为0.1％～7％，(C)为0.1％～7％，(D)为0.1％～10％，(E)为0.5％～10％，(F)为0.01％～0.5％，(A)/(B)(质量比)为1/100至1/2.5，pH值(25℃)为5～13.5，而且弱酸值为0.03mgKOH/g～0.5mgKOH/g。