光学邻近校正方法以及使用该方法制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN119148459A

    公开(公告)日:2024-12-17

    申请号:CN202410174273.1

    申请日:2024-02-07

    Abstract: 公开了一种制造半导体器件的方法。该方法包括:对布局的设计图案执行光学邻近校正(OPC);以及使用基于校正后的布局制造的光掩模在衬底上形成光刻胶图案。执行OPC包括:分析单元层级以选择布局中的代表性单元;将代表性单元中的设计图案划分为包括第一片段的多个片段;从多个片段中选择代表第一片段的第一独特片段;生成第一独特片段的第一校正偏置;将第一校正偏置应用于所有的第一片段以生成校正图案;以及将代表性单元的校正结果应用于包括在布局中并且与代表性单元具有相同类型的其他单元。

    光学邻近校正方法和掩模制造方法

    公开(公告)号:CN118519314A

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202311841570.9

    申请日:2023-12-28

    Abstract: 提供了能够解决图案化的限制并改善图案化的可靠性的光学邻近校正(OPC)方法以及使用该OPC方法的掩模制造方法。在该OPC方法中,创建用于目标图案的矩形掩模布局,将矩形掩模布局的边缘分割成多个分段,创建第一形状可变点,以及通过将第一形状可变点移动到圆化目标图案上来创建第二形状可变点。此后,基于第二形状可变点来创建曲线掩模布局,基于曲线掩模布局提取轮廓,确定边缘放置误差(EPE),以及根据预定标准重复所述操作,从而实现具有最小EPE的掩模布局。

    光学邻近校正系统和操作方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116266032A

    公开(公告)日:2023-06-20

    申请号:CN202211359263.2

    申请日:2022-11-01

    Abstract: 提供了一种光学邻近校正系统和操作方法。提供了一种光学邻近校正系统,包括:多个片段块,该多个片段块包括多个片段,该多个片段包括分段信息表;多个从设备,从该多个片段块接收分段信息表以生成最小片段表;以及主设备,从该多个从设备接收最小片段表,生成分段平均计算表,并对记录在分段平均计算表中的片段执行光学邻近校正。

    用于生物特征的电子装置及其方法

    公开(公告)号:CN114766040A

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN202080082813.3

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 某些实施例提供生物特征识别设备和方法,用于在采用生物特征识别技术的电子装置中降低生物特征信息的误识别率。在此过程中,电子装置可以存储在M元特征点处从所有者生物特征信息中提取的第一特征值,以及另外存储来自存储在一个或更多个存储器或者外部服务器中的生物特征信息的辅助生物特征信息。电子装置可以使用第一特征值和从另外存储的生物特征信息中提取的第二特征值对输入的生物特征信息执行生物特征识别。

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