公开(公告)号：CN101983413A

公开(公告)日：2011-03-02

申请号：CN200980112060.X

申请日：2009-03-24

Applicant: 三井造船株式会社

Inventor： 辻康之

IPC: H01J37/317 ,  C23C14/48 ,  G21K1/087 ,  G21K1/093 ,  G21K5/04 ,  H01J37/04 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/12 ,  C23C14/48 ,  G21K1/093 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/30433

Abstract: 此离子注入装置，是为了对离子束的电流密度分布作调整，而具备有：透镜要素，是沿着带状离子束的束宽幅方向来排列若干个单位透镜要素，并对于各单位透镜要素所作出的磁场或电场作调整；和控制部，是按照计测出的电流密度分布，而对在透镜要素中所调整的单位透镜要素所作出的磁场或电场的强度作设定。从透镜要素的若干个单位透镜要素中，将对应于所欲作调整的位置的单位透镜要素所作出的磁场或电场的调整强度，由计测出的电流密度分布来求取出来，同时，对于邻接于前述单位透镜要素的单位透镜要素所作出的磁场或电场，而将所求取出的调整强度乘以一定的比例所得到的值，作为磁场或电场的调整强度而求取出来。

公开(公告)号：CN102472198B

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201080034182.4

申请日：2010-08-04

Applicant: 三井造船株式会社

Inventor： 辻康之

IPC: F02D45/00

CPC classification number: F02D41/0097

Abstract: 本发明提供一种往复式发动机转速算出装置，其中，随曲柄一次旋转生成多个信号，并且基于多个信号而算出往复式发动机的实际转速。其中设有变动成分消除机构，该变动成分消除机构在算出实际转速时，对应于曲柄相位角、转速、以及燃料喷射量，消除包含在多个信号中的往复式发动机的爆发变动成分。

公开(公告)号：CN102811903A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201180014910.X

申请日：2011-03-18

Applicant: 三井造船株式会社

Inventor： 辻康之 ,  稻见昭一 ,  宫田淳也

IPC: B63H21/21 ,  F02D29/02

CPC classification number: F02D29/02 ,  B63H21/213 ,  F02D41/021 ,  F02D2200/701

Abstract: 本发明提供一种船舶的主机控制系统以及方法。通过模拟而计算考虑了对于各种波高、波周期、对水船速、船舶的重量等的组合的船体运动的螺旋桨流入速度。根据所计算的螺旋桨流入速度的变动，计算主机旋转数的变动，求出标准偏差σ。把这些结果作为基准偏差数据库（16）。参照基准偏差数据库（16），从航行中的波高、波周期、对水船速、船舶的重量求出标准偏差，计算允许旋转数偏差△Nt。在控制部（14）中进行主机（11）的PID控制，设置增益不同的多种控制模式。根据比较部（15）中的旋转数偏差与允许旋转数偏差△Nt的比较，切换控制部（14）的控制模式。

公开(公告)号：CN102472198A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080034182.4

申请日：2010-08-04

Applicant: 三井造船株式会社

Inventor： 辻康之

IPC: F02D45/00

CPC classification number: F02D41/0097

Abstract: 本发明提供一种往复式发动机转速算出装置，其中，随曲柄一次旋转生成多个信号，并且基于多个信号而算出往复式发动机的实际转速。其中设有变动成分消除机构，该变动成分消除机构在算出实际转速时，对应于曲柄相位角、转速、以及燃料喷射量，消除包含在多个信号中的往复式发动机的爆发变动成分。

公开(公告)号：CN101606217B

公开(公告)日：2011-11-02

申请号：CN200880004331.5

申请日：2008-03-28

Applicant: 三井造船株式会社

Inventor： 辻康之

IPC: H01J37/317 ,  C23C14/48 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/147 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/24542

Abstract: 本发明的离子注入装置(10)包括：离子源(22)，产生离子束；离子束整形部(20)，将产生的离子束整形为带状离子束；射束输送部(30)，在使带状离子束的厚度方向上的厚度变薄并使其收敛后，使带状离子束照射到处理基板(62)上；处理部(60)，将带状离子束照射到处理基板(62)上；透镜单元(40)，对带状离子束的电流密度分布进行调整，在该电流密度分布中带状离子束的射束厚度方向的电流密度的和值是以射束宽度方向的分布来表示的，其中，所述透镜单元(40)按照在离子束的收敛位置(52)附近区域调整对离子束的电流密度分布进行调整的方式设置。根据该构成，将带状离子束的一部分在带状离子束的内面稍微弯曲，从而能够精度良好地调整电流密度分布。