公开(公告)号：CN117377909A

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202280032208.4

申请日：2022-08-25

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小野阳介

IPC: G03F1/62

Abstract: 一种防护膜，其包含多个碳纳米管，上述多个碳纳米管的下述式(1)所表示的直线性参数的平均值为0.10以下。式(1)：直线性参数＝单管的宽度的标准偏差Sa/上述宽度的平均值Aa。上述式(1)中，上述单管表示上述多个碳纳米管所含的1根碳纳米管，上述标准偏差Sa和上述平均值Aa各自基于沿上述单管的长边方向每隔2nm间隔测定上述单管的宽度而得的11处的测定值来算出。

公开(公告)号：CN112154376B

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN201980031898.X

申请日：2019-06-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 石川彰 ,  大久保敦 ,  小野阳介 ,  高村一夫

IPC: G03F1/64 ,  H01L21/673

Abstract: 提供支撑框、在该支撑框上设置有极紫外光光刻用的防护膜的防护膜组件、和支撑框的制造方法、以及使用它们的曝光原版和曝光装置，该支撑框在通气孔上设置有能够容易装卸的过滤器，并能够设置极紫外光光刻用的防护膜。提供的防护膜组件用支撑框，具有第一支撑框部、第二支撑框部和过滤器，所述过滤器具有平板状的框形状，被所述第一支撑框部和所述第二支撑框部夹持，所述第一支撑框部具有：第一主体部，具有平板状的框形状；以及第一卡合部，从所述第一主体部向所述防护膜组件用支撑框的厚度方向突出，所述第二支撑框部具有：第二主体部，具有平板状的框形状；以及第二卡合部，配置在所述第二主体部的沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向设置的凹部，并与所述第一卡合部卡合。

公开(公告)号：CN115836248A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202180047315.X

申请日：2021-08-03

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小野阳介 ,  大久保敦 ,  高村一夫

IPC: G03F1/62

Abstract: 本发明的课题在于提供能抑制防护膜劣化的防护膜组件和曝光原版。防护膜组件包含：包含碳含有率为40质量％以上的碳系膜的防护膜(12)、支撑防护膜(12)的支撑框(14)、以及含有粘接剂的粘接剂层(15)；在23℃、1×10‑3Pa以下的气氛下，水系释气的合计量为5.0×10‑4Pa·L/sec以下。

公开(公告)号：CN115004108A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202180009908.7

申请日：2021-02-16

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 大久保敦 ,  高村一夫 ,  石川比佐子 ,  小野阳介 ,  藤井泰久 ,  吉川弥 ,  松本信子 ,  出口朋枝

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置、半导体装置的制造方法以及防护膜组件的制造方法，所述防护膜包含碳纳米管，所述碳纳米管至少在表面层侧含有碳的至少一部分被硅取代的碳化硅层。

公开(公告)号：CN112088334A

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN201980017088.9

申请日：2019-03-01

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小野阳介 ,  高村一夫 ,  大久保敦 ,  种市大树 ,  石川比佐子 ,  美谷岛恒明

IPC: G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件(100)具有：防护膜(101)；支撑上述防护膜的支撑框(103)；设置于上述支撑框的突起部(105)；设置于上述突起部的第1粘接层(107)；以及无机物层，上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层(109)，上述第1无机物层(109)设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面(121)。

公开(公告)号：CN109313385A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780035395.0

申请日：2017-06-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 大久保敦 ,  小野阳介 ,  高村一夫 ,  藤井泰久 ,  吉川弥

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供尘埃等的附着降低了的EUV用防护膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法。本发明提供防护膜组件的制造方法，在基板(200)上形成防护膜(202)，在上述基板的与形成有上述防护膜的面相反侧的面上形成金属的掩模(204)，从上述金属掩模侧除去上述基板的一部分，除去上述金属掩模。根据本发明的一个实施方式，本发明能够提供尘埃等的附着降低了的EUV用防护膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法。

公开(公告)号：CN106462052A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580023964.0

申请日：2015-05-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小野阳介 ,  高村一夫

IPC: G03F1/62

Abstract: 防护膜具有由有机系材料和无机系材料形成的膜片，在该膜片的同一平面上存在包含有机系材料的区域和由无机系材料形成的区域，至少上述膜片的中心部为由无机系材料形成的区域，并且，至少上述膜片的周端部为包含有机系材料的区域。

公开(公告)号：CN118891583A

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202380027893.6

申请日：2023-03-16

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 藤村真史 ,  伊藤健 ,  小野阳介 ,  畦崎崇

IPC: G03F1/64 ,  C09J7/38 ,  C09J201/00

Abstract: 本发明提供一种能够抑制将防护膜组件贴附于光掩模时的滞留气泡数量的带粘着层的防护膜组件框的制造方法。本公开的带粘着层的防护膜组件框的制造方法具备如下工序：准备框前体的工序，上述框前体具备防护膜组件框(11)和形成于上述防护膜组件框(12)的作为粘着层(12)的前体的前体层；在上述前体层的表面配置玻璃化转变温度高于下述工程的加热温度的保护膜(21)，以形成带保护膜的框前体；以及，对上述带保护膜的框前体进行加热，由上述前体层形成表面得到平坦化的上述粘着层(12)。

公开(公告)号：CN117377909B

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202280032208.4

申请日：2022-08-25

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小野阳介

IPC: G03F1/62 ,  C01B32/168 ,  G03F7/20 ,  B82Y40/00 ,  B82Y30/00

Abstract: 一种防护膜，其包含多个碳纳米管，上述多个碳纳米管的下述式(1)所表示的直线性参数的平均值为0.10以下。式(1)：直线性参数＝单管的宽度的标准偏差Sa/上述宽度的平均值Aa。上述式(1)中，上述单管表示上述多个碳纳米管所含的1根碳纳米管，上述标准偏差Sa和上述平均值Aa各自基于沿上述单管的长边方向每隔2nm间隔测定上述单管的宽度而得的11处的测定值来算出。

公开(公告)号：CN117270314A

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN202311217958.1

申请日：2021-04-02

Applicant: 三井化学株式会社 ,  国立研究开发法人产业技术综合研究所

Inventor： 小野阳介 ,  石川比佐子 ,  小川亮平 ,  大久保敦 ,  高村一夫 ,  关口贵子 ,  加藤雄一 ,  山田健郎 ,  周英

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20 ,  C01B32/168 ,  C01B32/17 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明提供曝光用防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及曝光用防护膜的制造方法。一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。