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公开(公告)号：CN113966527B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202080042211.5
申请日：2020-05-27
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: G09F9/00 , B23K26/00 , B23K26/351 , G01N21/956 , G01N21/27 , G02F1/13 , G02F1/1368
Abstract: 本发明提供一种激光修复方法、激光修复装置。能够使激光修复自动化，以实现改善作业效率，不受操作者技能的影响就可获得一定的修复品质。激光修复方法具有：修复工序，对多层膜基板的缺陷部设定激光照射范围，且在所设定的激光加工条件下对缺陷部照射激光束来进行修复加工，修复工序中，获取缺陷部的分光光谱数据，并根据分光光谱数据，通过完成学习的类神经网路设定照射在缺陷部的激光束的激光加工条件，类神经网路将包括多层膜结构数据、每个多层膜结构的分光光谱数据及每个多层膜结构的激光加工实验数据的实测数据作为学习数据进行机器学习。
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公开(公告)号：CN113518682B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202080017234.0
申请日：2020-02-07
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: B23K26/00 , B23K26/03 , B23K26/351 , G09F9/00 , H01L21/3205 , H01L21/768 , H01L23/522 , H01L21/336 , H01L29/786 , G02F1/13
Abstract: 本发明的激光修复方法能够不受基底层的材质或层的膜厚的偏差的影响而对加工对象的层适当地进行修正加工。所述激光修复方法，对形成于基板上的多层膜结构的缺陷部照射激光束来进行修正加工，在所述激光修复方法中，获取包括缺陷部的区域的图像，以包括缺陷部的方式在图像上设定激光束的扫描范围，在进行扫描范围内的激光束的扫描时，在图像的颜色信息被识别为缺陷部的扫描位置，将激光束的输出控制为开启或较高。
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公开(公告)号：CN116940884A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202280017340.8
申请日：2022-03-02
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/13
Abstract: 本发明的修正装置能够在不提高制造成本的情况下以高精度进行定位。该修正装置具有：第一平台，其具有吸附基板的吸附平台；门架，其设置在吸附平台的上侧；第二平台，其设置在门架；头部，其设置在第二平台，具有修正基板的修正头部；第一移动部，其改变第一平台和门架在第一方向上的相对位置；第二移动部，其改变第一平台和第二平台在与第一方向大致正交的第二方向上的相对位置；以及头部移动部，其使头部相对于第二平台移动。第二平台具有大致沿第一方向设置的第一轴，以及大致沿第二方向设置的第二轴，头部移动部使头部沿第一轴在第一方向上移动，使头部沿第二轴在第二方向上移动。头部移动部的定位精度比第一移动部的定位精度和第二移动部的定位精度高。
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公开(公告)号：CN116034448A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202180054193.7
申请日：2021-07-27
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18
Abstract: 提供一种聚焦能量束装置，其具备：支承部，其支承被处理基板；以及聚焦能量束柱状体，其具备差动排气装置且能够以与所述被处理基板的被处理面的任意区域对应的方式进行相对移动，其中，所述支承部在将所述被处理基板水平地配置的状态下仅支承所述被处理基板的周缘部，在由所述支承部支承的所述被处理基板的下方配置有正压腔室，所述正压腔室遍及所述被处理基板的被处理区域整体地施加正压，阻止所述被处理基板因自重产生的挠曲，在所述正压腔室内具备局部负压机构，所述局部负压机构维持与所述被处理基板的下表面不接触的状态来施加负压，来抵消所述差动排气装置的吸引力，所述局部负压机构维持隔着该被处理基板而与所述差动排气装置对置的状态，并且能够追随着所述差动排气装置而相对于被处理基板进行相对移动。
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公开(公告)号：CN113518682A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202080017234.0
申请日：2020-02-07
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: B23K26/00 , B23K26/03 , B23K26/351 , G09F9/00 , H01L21/3205 , H01L21/768 , H01L23/522 , H01L21/336 , H01L29/786 , G02F1/13
Abstract: 本发明的激光修复方法能够不受基底层的材质或层的膜厚的偏差的影响而对加工对象的层适当地进行修正加工。所述激光修复方法，对形成于基板上的多层膜结构的缺陷部照射激光束来进行修正加工，在所述激光修复方法中，获取包括缺陷部的区域的图像，以包括缺陷部的方式在图像上设定激光束的扫描范围，在进行扫描范围内的激光束的扫描时，在图像的颜色信息被识别为缺陷部的扫描位置，将激光束的输出控制为开启或较高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113169050A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980076602.6
申请日：2019-12-03
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: H01L21/20 , H01L21/268 , H01L21/336 , H01L29/786
Abstract: 提供一种激光退火方法，其是对非晶硅膜的要进行改性的改性预定区域照射激光来使所述改性预定区域改性为晶化硅膜的激光退火方法，其中，所述激光退火方法包括：第一照射工序，在该第一照射工序中，对所述改性预定区域的外侧的所述非晶硅膜进行用于形成由微晶硅构成的籽晶区域的第一激光的照射；以及第二照射工序，在该第二照射工序中，以所述籽晶区域为起点，对所述非晶硅膜的表面进行第二激光的照射而进行晶体生长，以使所述改性预定区域内的所述非晶硅膜成为所述晶化硅膜。
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公开(公告)号：CN112805809A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201980065438.9
申请日：2019-10-09
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: H01L21/20 , H01L21/268 , H01L21/336 , H01L29/786
Abstract: 一种在表面形成有被处理膜的被处理基板与沿着设定于所述被处理膜的处理预定区域照射激光的线束来进行退火处理的激光照射部能够在扫描方向上相对地移动的激光退火装置，在所述激光退火装置中，所述处理预定区域设定为沿着所述扫描方向延伸的带状的区域，所述照射面区域设定为以该照射面区域的长度方向相对于所述扫描方向倾斜的状态配置在所述处理预定区域内。
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公开(公告)号：CN111758150A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201980015207.7
申请日：2019-04-05
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: H01L21/268 , B23K26/066 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786
Abstract: 本发明提供一种能够有效地反射激光并抑制激光的能量的吸收，从而提高耐久性的投影掩模。本发明的投影掩模配置在被照射激光的投影透镜，并使激光透过，具备：透过层，其供激光透过；反射膜，其折射率比透过层大；金属膜，其对激光进行遮光；以及保护膜，其保护金属膜，透过层、反射膜、金属膜、以及保护膜从相互的层叠方向中的、被照射激光的一侧朝向相反侧依次配置。
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公开(公告)号：CN110914956A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201880045445.8
申请日：2018-07-25
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: H01L21/268 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786
Abstract: 本发明的一实施方式的激光照射装置的特征在于，具备：光源，其产生激光；及投影透镜，其对于基板上被覆的非晶硅薄膜的规定的区域照射该激光，该投影透镜包括：第一投影透镜，其对于该规定的区域中的与薄膜晶体管的沟道区域对应的第一区域照射该激光；及第二投影透镜，其对于该规定的区域中的与栅极驱动器包含的规定的元件对应的第二区域照射该激光。
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公开(公告)号：CN110800090A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201880042699.4
申请日：2018-07-03
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01L21/336 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L29/786 , H01L51/50 , H05B33/02
Abstract: 能够提高TFT对折弯、卷绕等外力的耐久性并防止基板的破裂、缺损。在挠性基板(20)，在与设置有薄膜晶体管的第一表面相反的一侧的第二表面形成有凹部(23)，从与第一表面大致正交的第一方向观察，凹部(23)配置于不与薄膜晶体管重叠的位置。
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