电阻转换存储器及其制造方法

    公开(公告)号:CN101436607A

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200810207813.2

    申请日:2008-12-25

    Abstract: 本发明揭示一种电阻转换存储器及其制造方法,该电阻转换存储器包括选通单元及数据存储单元;选通单元采用肖特基二极管;所述肖特基二极管包括至少一层含锑材料层、至少一层半导体层;数据存储单元包括至少一层含锑材料层。本发明存储器中含锑金属不仅作为电阻转换的存储介质,而且作为肖特基二极管中的金属层,甚至可以作为存储器芯片中的导电位线。本发明还提出了多种制造基于含锑金属(或合金)的电阻转换存储器的方法,有望在获得高密度、低成本的固态存储器的竞争中获得较大优势。

    一种电阻转换存储单元及其方法

    公开(公告)号:CN101430930A

    公开(公告)日:2009-05-13

    申请号:CN200810200269.9

    申请日:2008-09-23

    Abstract: 本发明涉及一种电阻转换存储单元及其方法,其结构包括:阈值电压可调的场效应晶体管及其阈值电压调节电路;以及至少一个与上述每个场效应晶体管对应连接的电阻转换存储单元。在存储器写、擦编程需要大电流时,通过晶体管体端电压的调整将晶体管的阈值电压调低,从而获得较大的输出电流;而在读操作或者存储器待机时,则不调整阈值电压或将晶体管的阈值电压调高,此外待机时还可获得较低的漏电流,提升存储器在待机时的稳定性,避免串扰。通过阈值电压的降低,在RESET和SET编程时调低阈值电压;采用该发明选通相变存储器,可以减小场效应晶体管的长度,即提升了场效应晶体管选通相变存储器芯片的密度。

    用于相变存储器的过渡层
    115.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101226989A

    公开(公告)日:2008-07-23

    申请号:CN200810032862.7

    申请日:2008-01-22

    Abstract: 本发明涉及一种用于相变存储器的过渡层,其特征在于所述的过渡层位于相变材料和电极材料之间;过渡层材料的电阻率在10-6欧姆米和1016欧姆米之间,过渡层材料的热导率在0.01W/m·k到30W/m·k之间。过渡层的厚度<10nm,且与相变材料或电极材料间具有黏附力。所述的单层或多层结构的过渡层可有效阻地挡相变材料和电极间的相互扩散,提升电极的加热效率,同时减少了向电极和氧化物的扩散的热量,使更多的热量被用在相变材料加热上。不仅提高了热量的利用率,降低了功耗,而且增加了相变存储器高、低阻间的差异;将相变材料中的最高温度区域向加热电极移动,有效将相变材料的熔化控制在电极周围,提升了器件的可靠性。

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