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公开(公告)号：CN101435068B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200810188508.3
申请日：2004-03-22
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: B23K20/22 , C23C14/3407 , C23C14/3414
Abstract: 一种由相同材料制成的金属薄片的对接制成的溅射靶被提供，其中连接部分中的金属间化合物具有的平均颗粒直径是非连接部分中的金属间化合物平均颗粒直径的60％至130％。在溅射靶中，连接部分中的金属间化合物的平均颗粒直径与非连接部分中的近似相同。
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公开(公告)号：CN102102183A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010597854.4
申请日：2010-12-16
Abstract: 提供一种Al基合金溅射靶，其能够消除在溅射的初期阶段发生的问题(例如飞溅的个数的增加和所形成的薄膜的电阻的上升)，可以缩短预溅射时间。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其中，以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时，算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下，以及最大高度Rz为10μm以下，并且，将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q，跨越基准长度100mm，依次计数P和Q时，P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。
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公开(公告)号：CN102033144A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010298497.1
申请日：2010-09-29
CPC classification number: H01B5/00 , G01R1/06738 , G01R1/06761 , H01R13/03
Abstract: 提供一种电接点构件，可极力降低至少具有角的这种电接点构件在使用时构成问题的这种碳皮膜的剥离，能够长期保持稳定的电接触。一种电接点构件，是在具有角的前端部与被测体反复接触的电接点构件，其特征在于，包括：基材；形成在所述前端部的基材表面上，含有Au、Au合金、Pd或Pd合金的衬底层；形成在该衬底层表面上的中间层；形成在该中间层的表面上，含有金属和该金属的碳化物中的至少一个的碳皮膜，并且，所述中间层为层叠构造，其具有：含有Ni或Ni合金的内侧层；和含有Cr、Cr合金、W、W合金中的至少一种的外侧层。
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公开(公告)号：CN101691656A
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：CN200910132938.8
申请日：2009-03-31
CPC classification number: C23C14/3414
Abstract: 本发明提供一种能减少使用含有Ni、La以及Cu的Al-Ni-La-Cu系Al-基合金溅射靶成膜时产生的飞溅的技术。含有Ni、La以及Cu的Al-Ni-La-Cu系Al-基合金溅射靶中，使用扫描型电子显微镜(2000倍)观察垂直于所述溅射靶的平面的截面的1/4t～3/4t(t为厚度)的部位时，(1)关于以Al和Ni为主体的Al-Ni系金属间化合物，平均粒径为0.3μm～3μm的Al-Ni系金属间化合物的总面积相对于Al-Ni系金属间化合物的全部面积以面积率计为≥70％，(2)关于以Al、La和Cu为主体的Al-La-Cu系金属间化合物，平均粒径为0.2μm～2μm的Al-La-Cu系金属间化合物的总面积相对于Al-La-Cu系金属间化合物的全部面积以面积率计为≥70％。
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公开(公告)号：CN1823179A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200480020394.1
申请日：2004-07-14
CPC classification number: C22C5/06 , C22F1/14 , C23C14/3414
Abstract: 一种Ag系溅射靶(6)，在和溅射面平行的面上切断该溅射靶而使多个溅射面露出，在每个露出的溅射面上选择多个位置，通过下式基于全部的选择位置的结晶粒径而算出值A1以及值B1，当这些值A1以及值B1中的大的值被称为结晶粒径的3维偏差时，该结晶粒径的3维偏差为18％以下。A1＝(Dmax－Dave)/Dave×100(％)，B1＝(Dave－Dmin)/Dave×100(％)，Dmax：全部选择位置的结晶粒径D的最大值，Dmin：全部选择位置的结晶粒径D的最小值，Dave：全部选择位置的结晶粒径D的平均值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1763240A
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN200510114033.X
申请日：2005-10-19
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Inventor： 茂山和基
CPC classification number: C23C14/3407
Abstract: 为了减小由结合或膜沉积造成的翘曲并且能够长时间稳定进行膜沉积，提供一种用于溅射Al－Nd合金的组合件，该组合件包括：含有Nd含量0.1到3原子％的铝合金的Al－Nd合金溅射靶，和硬钎焊在Al－Nd合金溅射靶上的背衬板，其中Al－Nd合金溅射靶在25℃到100℃温度下的平均线性膨胀系数为A，背衬板在25℃到100℃温度下的平均线性膨胀系数为B，并且A和B满足如下条件(1)：－0.15≤(B－A)/A＜0.15 (1)。
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公开(公告)号：CN109689393A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780004363.4
申请日：2017-09-15
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: B41M1/12 , B41N1/24 , H01L31/0224
Abstract: 网版印刷用金属箔网状部材为包含与形成印刷图案的树脂一体化地使用的金属箔的网版印刷用金属箔网状部材，并且将金属箔网状部材沿一方向以间距X排列有多个开口部，将开口部的开口宽度设为Y，将沿一方向并列的两个开口部所夹持的金属箔设为肋部，沿一方向而在厚度方向上切断时的肋部的剖面积设为A时，开口宽度Y为10μm以上且39μm以下，肋部的沿一方向的宽度C为30μm以下，肋部的剖面积A除以间距X所得的每单位长度的肋部的剖面积B满足3(μm2/μm)≤B(μm2/μm)的关系式。
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公开(公告)号：CN109071361A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780023775.2
申请日：2017-02-09
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/453 , C23C14/34 , H01L21/363
Abstract: 一种氧化物烧结体，其中，设锌、铟、镓和锡的含量相对于除氧以外的全部金属元素的比例(原子％)分别为[Zn]、[In]、[Ga]和[Sn]时，满足40原子％≤[Zn]≤55原子％、20原子％≤[In]≤40原子％、5原子％≤[Ga]≤15原子％、和5原子％≤[Sn]≤20原子％，相对密度为95％以上，含有5～20体积％的InGaZn2O5作为晶相。
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公开(公告)号：CN109071356A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780022824.0
申请日：2017-02-09
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/01 , C04B35/453 , C04B37/02 , C23C14/34
Abstract: 一种氧化物烧结体，其中，含有50～500ppm的锆，相对于除去氧以外的全部金属元素，设锌、铟、镓和锡的含量的比例(原子％)分别为[Zn]、[In]、[Ga]和[Sn]时，满足下式(1)～(3)。35原子％≤[Zn]≤55原子％…(1)20原子％≤([In]+[Ga])≤55原子％…(2)5原子％≤[Sn]≤25原子％…(3)。
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公开(公告)号：CN108431291A
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201680069937.1
申请日：2016-10-28
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Abstract: 提供一种通过将构成紫外线反射膜的稀土类元素、Cu和其余的Al的量、以及稀土类元素与Cu的比率控制在规定的范围，从而波长254nm的紫外线的反射率为85％以上的紫外线反射膜。一种紫外线反射膜，其含有一种或两种以上的稀土类元素：0.2at％以上且3.0at％以下，和Cu：0.2at％以上且6.0at％以下中的任意一者，余量由Al和不可避免的杂质构成，满足下述(1)式，波长254nm的紫外线的反射率为85％以上。X+0.5Y＜3.5…(1)[X是稀土类元素的量[at％]，Y是Cu的量[at％]。]。
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