公开(公告)号：CN101205291A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200710302240.7

申请日：2007-12-20

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 邢敬熙 ,  金钟涉 ,  鱼东善 ,  吴昌一 ,  尹敬皓 ,  金旼秀 ,  李镇国

IPC: C08G61/10 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08G61/02

Abstract: 本发明提供了说明书中描述的式1－3的含芳环的聚合物。本发明还提供了一种具有增透特性的硬掩膜组合物，该组合物含有所述含芳环的聚合物中的任意一种。该硬掩膜组合物适用于平版印刷工艺并且具有优异的光学特性和机械特性。另外，该组合物易于通过旋转涂布技术施用。特别地，该组合物对干蚀刻有很高的抗蚀性。因此，该组合物可用于提供形成高纵横比图案的多层薄膜。本发明还提供了一种利用该组合物形成图案的方法。

公开(公告)号：CN101185030A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018573.0

申请日：2006-03-07

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 鱼东善 ,  吴昌一 ,  金到贤 ,  李镇国 ,  南艾丽娜

IPC: G03F7/11

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/095

Abstract: 提供了用于平版印刷工艺中的具有抗反射性能的硬掩模组合物，使用该组合物的方法，和通过该方法制造的半导体装置。本发明的抗反射硬掩模组合物包含：a)聚合物组分，其包含第一单体单元和第二单体单元，其中所述第一单体单元和所述第二单体单元均包含芳基，且其中所述第一单体单元和所述第二单体单元中的至少一种包含酚基；b)交联组分；和c)酸性催化剂。