一种循环卷绕式原子层沉积设备

    公开(公告)号:CN106917074A

    公开(公告)日:2017-07-04

    申请号:CN201710193000.1

    申请日:2017-03-28

    Abstract: 本发明公开了一种循环卷绕式原子层沉积设备,包括:沿待沉积样品的闭环运行路径布置的反应装置、动力装置、导向装置、纠偏装置;反应装置包括分布在待沉积样品上下两侧的加热板和反应喷头;动力装置包括伺服电机和驱动辊筒,伺服电机的输出轴连接驱动辊筒的驱动轴;导向装置包括若干个无动力辊筒;驱动辊筒与无动力辊筒共同构成待沉积样品的闭环运行路径,用于使待沉积样品循环运动;纠偏装置位于两个相邻的无动力辊筒之间,且纠偏装置与两个相邻的无动力辊筒分别位于待沉积样品两侧。本设备结构简单,便于使用和维护;待沉积样品能够循环运动,能够连续反应,不需要反复收放卷,不用频换启动与停止,提高反应效率。

    一种薄膜渗透率测量装置和测量方法

    公开(公告)号:CN106525683A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201610955290.4

    申请日:2016-10-27

    CPC classification number: G01N15/08 G01N7/10

    Abstract: 本发明属于薄膜渗透率测量技术领域,并公开了一种薄膜渗透率测量装置,包括机械泵、第一真空阀、第二真空阀、气源、球阀、待测气体室、第一真空计、放样处、积累室、第二真空计、第一气动挡板阀、分子泵、第二气动挡板阀、测量室、针阀和四级杆质谱仪。本发明采用了四级杆质谱仪,四级杆质谱仪分压的灵敏度非常高,可以测得微小的分压变化,从而提高测量精度,有利于提高柔性封装领域的渗透性测量的精确性。本发明由压块压紧样品,安装简便,而且可以多次测量不破坏样品,测量过程简便,而且本发明的测试装置体积较小,结构紧凑,使用方便,另外,本发明适用薄膜的种类多,而且可以针对多种待测气体进行测量。

    一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置和方法

    公开(公告)号:CN104046958B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201410247956.1

    申请日:2014-06-06

    Abstract: 本发明公开了一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置,包括:反应腔,其内部形成的空腔用于作为前驱体与微纳米颗粒的反应空间;多个前驱体供应装置,其分别通过管道与所述反应腔相通以提供不同的前驱体;载气输送系统,前驱体通过该载气输送系统输出的载气输送到反应腔中;以及粉体颗粒装载装置,用于承载待修饰的微纳米颗粒;通过多个前驱体供应装置分别向反应腔交替地输送前驱体,并进入旋转的粉体颗粒装载装置中以与微纳米颗粒表面接触进行原子层沉积反应,从而在微纳米颗粒的表面形成包覆薄膜,实现表面修饰。本发明还公开了利用上述装置进行微纳米颗粒的表面修饰的方法。本发明可以获得颗粒表面高均匀性的包覆层,并提高粉体颗粒的整体包覆率和前驱体的利用率。

    一种三氢化铝表面包覆改性方法

    公开(公告)号:CN104046957B

    公开(公告)日:2016-08-03

    申请号:CN201410247806.0

    申请日:2014-06-06

    Abstract: 本发明公开了一种三氢化铝表面包覆改性方法,采用原子层沉积技术在三氢化铝粉末表面沉积纳米厚度的金属氧化物或金属物质将其包覆,以提高三氢化铝粉末热稳定性,包括,S1:将三氢化铝粉体放入腔体内并抽真空;S2:加热腔体到设定温度且温度均匀稳定后,通入流化气,使三氢化铝预分散;S3:原子层沉积反应,当腔体内的温度达到50~130℃时,开始原子层沉积反应;S4:重复多次原子层沉积反应,使粉体表面沉积厚度不断增长,通过控制沉积反应循环的次数从而控制在三氢化铝粉体表面沉积的金属氧化物或金属的厚度,实现三氢化铝粉体包面包覆厚度为1~1000nm包覆层,以实现粉体的稳定化。

    一种原子层沉积前驱体输出装置

    公开(公告)号:CN103602959B

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201310585179.7

    申请日:2013-11-19

    Abstract: 本发明公开了一种原子层沉积前驱体输出装置,该输出装置由装载前驱体的钢瓶(101),缓存腔(103),连接所述钢瓶(101)与缓存腔(103)的第一开关阀(102),位于所述缓存腔腔体内且与所述缓存腔腔体气密性良好的运动活塞(104),以及控制输出主管路的第二开关阀(105)构成。本发明通过固定空间的气体体积变化,每次稳定的排出等量前驱体,保证定量输出前驱体,能够更好的适应于前驱体用量优化分析及在线监测系统分析。

    混合自组装分子层修饰的基底表面沉积纳米金颗粒的方法

    公开(公告)号:CN105057691A

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201510448077.X

    申请日:2015-07-27

    Abstract: 本发明公开了一种混合自组装分子层修饰的基底表面沉积纳米金颗粒的方法,该方法包括:将氧化物或无机基底的表面进行洁净处理,去除硅表面的油脂、油污等有机物、无机物和氧化层,使基底表面羟基化;随后采用分步法,在预处理过的硅基底浸入含有有机硅烷自组装分子的溶液中,进行硅表面分子自组装修饰,得到不同的有机链混合生长的自组装单分子层;最后在已生长有混合自组装单分子层的基底表面采用柠檬酸盐法沉积金纳米颗粒。按照本发明使用的基底清洗方法和改性方法可通过自组装分子的生长时间来实现对金纳米颗粒均匀分布的调控,能制备出分布均匀的金纳米颗粒,其粒径可达10~100nm,且纳米金颗粒与基底之间有较好的结合力。

    一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置

    公开(公告)号:CN103628045B

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201310636874.1

    申请日:2013-12-02

    Abstract: 本发明公开了一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置。用于制作原子层沉积膜的喷头,包括进气管路、进气口和出气口;所述进气口内部为空腔;所述出气口内部形成空腔,分为上半部分和下半部分,其上半部分与下半部分之间设有漏斗形结构;进气管路与进气口固定连接,进气口与出气口可拆卸密闭连接。用于制作原子层沉积膜的装置,包括所述喷头、腔体支撑架、基片承载台和运动平台,腔体支撑架中间形成长条状镂空,可顺序设置多个可拆卸喷头,基片承载台设置在墙体支撑架下方,运动平台带动基片承载台。本发明能适应不同的原子层沉积反应,通过气体隔离原子层沉积法,高效快速的制作原子层沉积膜。

    一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置

    公开(公告)号:CN103628045A

    公开(公告)日:2014-03-12

    申请号:CN201310636874.1

    申请日:2013-12-02

    Abstract: 本发明公开了一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置。用于制作原子层沉积膜的喷头,包括进气管路、进气口和出气口;所述进气口内部为空腔;所述出气口内部形成空腔,分为上半部分和下半部分,其上半部分与下半部分之间设有漏斗形结构;进气管路与进气口固定连接,进气口与出气口可拆卸密闭连接。用于制作原子层沉积膜的装置,包括所述喷头、腔体支撑架、基片承载台和运动平台,腔体支撑架中间形成长条状镂空,可顺序设置多个可拆卸喷头,基片承载台设置在墙体支撑架下方,运动平台带动基片承载台。本发明能适应不同的原子层沉积反应,通过气体隔离原子层沉积法,高效快速的制作原子层沉积膜。

    一种用于大型非平整表面沉积的装置及方法

    公开(公告)号:CN103614705A

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN201310583654.7

    申请日:2013-11-19

    Abstract: 本发明公开了一种原子层沉积装置,包括原子层沉积单元喷头,所述单元喷头包括高压气流入口,惰性隔离气体入口通道,出气口通道,和两种前驱体入口通道,其中所述高压气流入口喷出高压气体以顶起整个沉积装置,该装置是微型开放式且可移动可扩展,能够适用于大型非平整结构表面薄膜沉积,并可直接经过简单多块组合,增加沉积效率。

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