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公开(公告)号：CN215800018U
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202120602720.0
申请日：2021-03-24
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本实用新型提供一种定比沉积合金薄膜的制备装置，该装置包括检测分析组件、校验开关、电源控制组件、双电源和电镀槽体；所述检测分析组件通过所述校验开关与所述电源控制组件连接；所述电源控制组件通过控制器与所述双电源连接；所述双电源负极通过导电辊与所述电镀槽体的阴极带连接；所述双电源正极分别与所述电镀槽体中的阳极钛篮连接；所述电镀槽体通过泵管连接所述检测分析组件。本实用新型保证了沉积的合金薄膜成分性能均匀一致。
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公开(公告)号：CN212278529U
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202020534449.7
申请日：2020-04-13
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本实用新型涉及等离子体激发装置技术领域，公开了一种多馈源微波等离子体装置，包括反应体、场强辅助增强结构和至少一层微波源组件，反应体内设有微波谐振腔；每层微波源组件均包括多个微波激励源，多个微波激励源沿反应体的周向分布于反应体的侧壁；场强辅助增强结构包括实体锥芯、第一锥形管和第二锥形管，第一锥形管和第二锥形管分别设置于反应体的两端；实体锥芯同轴插设于第一锥形管内，实体锥芯与第一锥形管之间的间隔形成第一气体流道；第二锥形管内设有第二气体流道。该多馈源微波等离子体装置可以提高电场强度，在多个微波激励源同时工作时能够在双尖端结构形成连续贯通的高能量密度等离子体，利于化学反应的完全性。
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公开(公告)号：CN212270234U
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202020534442.5
申请日：2020-04-13
Applicant: 北京工业大学
IPC: C23C16/517 , C23C16/458
Abstract: 本实用新型涉及等离子体激发装置技术领域，公开了一种微波等离子体薄膜沉积装置，包括反应体、等离子体激发锥体、薄膜沉积基台和多层微波源组件，反应体内设有微波谐振腔；每层微波源组件均包括多个微波激励源，多个微波激励源沿反应体的周向分布于反应体的侧壁；等离子体激发锥体和薄膜沉积基台分别设置于反应体的两端，等离子体激发锥体的尖部朝向微波谐振腔内；等离子体激发锥体内设有进气流道，进气流道贯通至等离子体激发锥体的尖部。该微波等离子体薄膜沉积装置在薄膜沉积基台上有大面积的高场强区域分布，从而在高场强作用下激发出大面积的等离子体区域，利于实现沉积大面积薄膜。
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