电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组

    公开(公告)号:CN113764606B

    公开(公告)日:2024-12-24

    申请号:CN202110618101.5

    申请日:2021-06-03

    Abstract: 本发明涉及电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组。电子器件的制造方法具备下述工序:准备工序,准备层积体,该层积体包含具有第1面和位于第1面的相反侧的第2面的基板、位于基板的第1面上的2个以上的第1电极、和第1电极上的有机层;第2电极形成工序,按照沿着基板的第1面的法线方向观察时重叠在2个以上的第1电极上的方式,在有机层上形成第2电极;和除去工序,将第2电极中俯视时位于第1电极之间的区域局部性除去。

    蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法

    公开(公告)号:CN111748765B

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202010227944.8

    申请日:2020-03-27

    Abstract: 本发明涉及一种蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的贯通孔的壁面包括:从第1端向第2面扩展的第1壁面;从第2端向第1面扩展的第2壁面;在连接部连接到第1壁面的第2壁面;和连接第1壁面与第2壁面的连接部。沿着第1面的法线方向从第1面侧观察贯通孔时,贯通孔的第1端包括:沿第1方向延伸并具有第1尺寸的第1部分;和沿与第1方向交叉的第2方向延伸并具有比第1尺寸短的第2尺寸的第2部分。第1壁面包括:从第1部分向连接部扩展的第1壁面区划;和从第2部分向连接部扩展的第2壁面区划。第1壁面区划的高度小于第2壁面区划的高度。

    蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法

    公开(公告)号:CN108330435B

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN201810034119.9

    申请日:2018-01-15

    Abstract: 本发明提供蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模具备:形成有贯通孔的第1面及第2面;一对长侧面,它们与第1面和第2面连接,限定蒸镀掩模在蒸镀掩模的长度方向上的轮廓;以及一对短侧面,它们与第1面和第2面连接,限定蒸镀掩模在蒸镀掩模的宽度方向上的轮廓。长侧面具有向内侧凹陷的第1部分,第1部分具有:位于第1面侧的第1端部;和位于第2面侧且比第1端部靠内侧的第2端部。贯通孔包括:形成于第1面侧的第1凹部;和形成于第2面侧且在孔连接部处与第1凹部连接的第2凹部。长侧面的第1部分的第1端部比孔连接部靠第1面侧。

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