磁性石榴石单晶和使用该单晶的法拉第转子

    公开(公告)号:CN1282967A

    公开(公告)日:2001-02-07

    申请号:CN00122520.0

    申请日:2000-08-02

    CPC classification number: H01F10/245

    Abstract: 本发明涉及磁性石榴石单晶和使用该单晶的法拉第转子,提供抑制了晶体缺陷发生的磁性石榴石单晶和提高消光比的法拉第转子。本发明的目的是通过使用用液相外延生长法生长,并用一般式BiaPbbA3-a-bFe5-c-dBcPtdO12(式中的A是从Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu中选出来的至少一种元素,B是从Ga、Al、Sc、Ge、Si中选出来的至少一种元素,a、b、c、d分别为:0

    基板及发光元件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113518840A

    公开(公告)日:2021-10-19

    申请号:CN202080016889.6

    申请日:2020-02-27

    Abstract: 基板(10)具备重叠的第一层(L1)及第二层(L2),第一层(L1)包含结晶质的AlN及添加元素,第二层(L2)包含结晶质的α‑氧化铝,添加元素为选自稀土元素、碱土元素及碱金属元素中的至少一种,第一层(L1)的厚度为5~600nm,RC(002)为源自AlN的(002)面的衍射X射线的摇摆曲线,RC(002)通过第一层(L1)的表面SL1的ω扫描来测定,RC(002)的半值宽度为0~0.4°,RC(100)为源自AlN的(100)面的衍射X射线的摇摆曲线,RC(100)通过第一层(L1)的表面SL1的扫描来测定,RC(100)的半值宽度为0~0.8°。

    磁性石榴石单晶及其制造方法和使用其的光学元件

    公开(公告)号:CN101000410B

    公开(公告)日:2010-09-08

    申请号:CN200710002244.3

    申请日:2007-01-10

    Inventor: 大井户敦

    CPC classification number: H01F1/346 C30B19/04 C30B29/28 H01F10/24

    Abstract: 本发明涉及磁性石榴石单晶及其制造方法以及使用该磁性石榴石单晶的光学元件,其目的是提供削减了Pb的含量的磁性石榴石单晶及其制造方法以及使用该磁性石榴石单晶的光学元件。本发明的磁性石榴石单晶,用化学式BiαNaβM13-α-βFe5-γM2γO12(M1是选自Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu中的至少1种或以上的元素,M2是选自Si、Ge、Ti中的至少1种或以上的元素,0.5<α≤2.0、0<β≤0.8、0.2≤3-α-β<2.5、0<γ≤1.6)表示。

    光学元件的制造方法

    公开(公告)号:CN101008717A

    公开(公告)日:2007-08-01

    申请号:CN200710084200.X

    申请日:2007-01-29

    Inventor: 大井户敦

    Abstract: 本发明涉及使用石榴石单晶的光学元件的制造方法,以提供可以减少光学元件中所含的Pb量、或者完全除去Pb的光学元件的制造方法为目的。使用含有Na、Bi以及B的熔液,通过LPE法培养石榴石单晶,并在使用氮气和/或氢气生成的还原气氛中对石榴石单晶进行热处理,使用经过热处理的石榴石单晶制作光学元件。

    磁性石榴石单晶膜及其制法,和使用该单晶膜的法拉第转子

    公开(公告)号:CN1314506A

    公开(公告)日:2001-09-26

    申请号:CN01108959.8

    申请日:2001-02-28

    Abstract: 本发明涉及Bi置换稀土类铁石榴石单晶膜及其制造方法,和使用该单晶膜的法拉第转子。其特征在于,在使用外延生长法生长Bi置换磁性石榴石单晶的磁性石榴石单晶膜的制造方法中,随着单晶膜的生长,使上述磁性石榴石单晶膜的晶格常数保持恒定或渐渐减少,接着,随着上述单晶膜的生长使上述晶格常数增加,以形成磁性石榴石单晶膜。

    氧化铝基板
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107532330B

    公开(公告)日:2020-08-07

    申请号:CN201680011843.9

    申请日:2016-03-02

    Abstract: 本发明提供一种形成有AlN层且降低了翘曲的氧化铝基板。本发明提供一种基板材料,在本基板上生长AlN晶体等的情况下,具有能够耐受通常的操作的程度的强度,并且在生长中或者冷却中施加了过度的应力的情况下防止在生长晶体中引入裂纹或碎裂。制成:在表面形成有AlN层的氧化铝基板中,在AlN层的内部或者AlN层与氧化铝基板界面形成有含稀土区域以及空隙的基板。通过含稀土区域集中晶格失配应力,另外空隙释放应力,从而能够降低AlN层的翘曲。另外,由于含稀土区域集中应力,空隙降低机械强度,因此能够诱发裂纹或者碎裂的起源和传播,结果能够防止在本基板上生长的晶体中混入裂纹或碎裂。进一步含稀土区域能够确保操作程度的机械强度。

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