公开(公告)号：CN101939465A

公开(公告)日：2011-01-05

申请号：CN200980104520.4

申请日：2009-03-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川恭志 ,  野边洋平 ,  郑康巨 ,  齐藤隆一 ,  小久保辉一

IPC: C23C16/42 ,  C08G77/50 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC classification number: C23C16/401 ,  C07F7/1804 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31633 ,  H01L21/31695 ,  H01L23/5329 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 一种化学气相沉积法用材料，其含有下述通式(1)表示的有机硅烷化合物。(式中，R1和R2相同或不同，表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、乙烯基或苯基；R3和R4相同或不同，表示碳原子数1～4的烷基、乙酰基或苯基；m表示0～2的整数；n表示1～3的整数)。

公开(公告)号：CN102753724B

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201180008881.6

申请日：2011-02-08

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 齐藤隆一 ,  郑康巨 ,  西村秀树 ,  酒井达也

IPC: C23C16/18 ,  H01L21/285

CPC classification number: H01L21/28556 ,  C23C16/18 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76873

Abstract: 本发明提供即使在氧等氧化剂非存在下也能容易分解的钌膜形成用材料。发明涉及一种含有下述式（1）表示的化合物的钌膜形成用材料。Ru（PR13）l（L1）m（L2）n（1）（所述式（1）中，R1各自独立地为氢原子、卤素原子、碳原子数为1～4的烃基、或者碳原子数为1～4的卤代烃基，L1是氢原子或者卤素原子，L2是具有至少两个双键的碳原子数为4～10的不饱和烃化合物，l是1～5的整数，m是0～4的整数，n是0～2的整数。其中，l＋m＋2n＝5或者6。）

公开(公告)号：CN102753724A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201180008881.6

申请日：2011-02-08

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 齐藤隆一 ,  郑康巨 ,  西村秀树 ,  酒井达也

IPC: C23C16/18 ,  H01L21/285

CPC classification number: H01L21/28556 ,  C23C16/18 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76873

Abstract: 本发明提供即使在氧等氧化剂非存在下也能容易分解的钌膜形成用材料。发明涉及一种含有下述式（1）表示的化合物的钌膜形成用材料。Ru（PR13）l（L1）m（L2）n（1）（所述式（1）中，R1各自独立地为氢原子、卤素原子、碳原子数为1～4的烃基、或者碳原子数为1～4的卤代烃基，L1是氢原子或者卤素原子，L2是具有至少两个双键的碳原子数为4～10的不饱和烃化合物，l是1～5的整数，m是0～4的整数，n是0～2的整数。其中，l＋m＋2n＝5或者6）。