公开(公告)号：CN1732408B

公开(公告)日：2010-04-21

申请号：CN200380107753.2

申请日：2003-12-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村功 ,  藤原考一 ,  小林英一 ,  下川努 ,  中村敦 ,  米田英司 ,  王勇

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F4/00

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2006

Abstract: 提供一种辐射敏感性树脂组合物，该辐射敏感性组合物含有由活性自由基聚合得到的含有能电离出酸性基团的树脂和辐射敏感性酸产生剂，该含有能电离出酸性基团的树脂具有通过碱不溶性或碱难溶性酸作用获得碱易溶性的特定构造，上述含有能电离出酸性基团的树脂的重均分子量和数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)小于1.5。

公开(公告)号：CN1732408A

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：CN200380107753.2

申请日：2003-12-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村功 ,  藤原考一 ,  小林英一 ,  下川努 ,  中村敦 ,  米田英司 ,  王勇

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F4/00

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2006

Abstract: 提供一种辐射敏感性树脂组合物，该辐射敏感性组合物含有由活性自由基聚合得到的含有能电离出酸性基团的树脂和辐射敏感性酸产生剂，该含有能电离出酸性基团的树脂具有通过碱不溶性或碱难溶性酸作用获得碱易溶性的特定构造，上述含有能电离出酸性基团的树脂的重均分子量和数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)小于1.5。

公开(公告)号：CN1708728A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN200380102382.9

申请日：2003-10-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  石井宽之 ,  西村功 ,  小林英一

IPC: G03F7/039

Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物，该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由下述通式(I－1)表示的重复单元(1－1)的树脂、〔B〕感放射线性酸发生剂(1－(4－正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟－正丁磺酸酯等)。进而，还可以含有〔C〕酸扩散控制剂(苯基苯并咪唑等)。

公开(公告)号：CN101533224A

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200910126173.7

申请日：2003-10-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  石井宽之 ,  西村功 ,  小林英一

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物，该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由通式(I－1)表示的重复单元(1－1)、以及、由通式(I－2)表示的重复单元(1－2)或由通式(I－5)表示的重复单元(1－5)，为碱难溶性或不溶性的、通过酸的作用而变成碱易溶性的树脂、以及〔B〕感放射线性酸发生剂；其中，上述树脂中没有内酯环，在构成上述树脂的总重复单元的合计量为100摩尔％的情况下，上述重复单元(1－1)的含有比例为40～90摩尔％。

公开(公告)号：CN1685285B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN03823350.9

申请日：2003-08-28

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： 马芒德·M·科贾斯特 ,  陈光荣 ,  普什卡拉·R·瓦拉纳西 ,  西村行雄 ,  小林英一

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

Abstract: 一种能够用193nm射线和/或可能的其他射线成像并且能够显影形成显影性能和抗蚀性均得以改善的抗蚀剂结构的酸催化正抗蚀剂组合物，可以通过使用含成像聚合物组分的抗蚀剂组合物得到，成像聚合物组分包含具有单体单元的酸敏性聚合物，这些单体单元具有含远端酸不稳定性部分的侧基。

公开(公告)号：CN1708728B

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：CN200380102382.9

申请日：2003-10-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  石井宽之 ,  西村功 ,  小林英一

IPC: G03F7/039

Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物，该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由下述通式(I-1)表示的重复单元(1-1)的树脂、〔B〕感放射线性酸发生剂(1-(4-正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟-正丁磺酸酯等)。进而，还可以含有〔C〕酸扩散控制剂(苯基苯并咪唑等)。