公开(公告)号：CN100374475C

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200480024689.6

申请日：2004-08-04

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 藤原考一 ,  山口宙志 ,  中村敦

IPC: C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/30

CPC classification number: C08F220/30 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明的目的在于提供对抗蚀剂溶剂的溶解性好，烘烤温度依赖性小，并且降低显像后的图案的线边缘粗糙度的抗蚀剂。丙烯酸系聚合物，其特征在于含有式(1)、式(2)、及式(3)和/或式(4)。其中，R、R′、R″与R″′表示氢原子、甲基或三氟甲基，R1表示氢原子、C1-4的直链状或支链状的烷基、烷氧基、或C1-4的直链状或支链状的氟代烷基，X表示C7-20的由碳原子与氢原子构成的多环型脂环式烃基，R2与R3相互独立地表示C1-4的直链状或支链状的烷基，R4表示C4-20的脂环式烃基，R5表示C1-4的直链状或支链状的烷基，R6与R7分别表示氢原子、或C1-4的直链状或支链状的烷基。

公开(公告)号：CN1501166A

公开(公告)日：2004-06-02

申请号：CN03125520.5

申请日：2003-08-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 岛基之 ,  石井宽之 ,  山本将史 ,  松田大一 ,  中村敦

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0397 ,  Y10S430/122

Abstract: 一种辐射线敏感树脂组合物，包含：(A)含有至少两种式(1)－(6)的重复单元的树脂，总量5－70mol％，但每一种的量为1－49mol％，该树脂不溶于或几乎不溶于碱。但在酸的作用下易溶于碱。和(B)光酸发生剂。其中，R1表示氢原子或甲基，R2表示具有1－4个碳原子的取代或未取代烷基。该树脂组合物用作化学放大保护层，该保护层对辐射线具有高透射率，感光度，分辨率，抗干蚀刻性以及保护层图案。

公开(公告)号：CN101313247A

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200680043327.0

申请日：2006-11-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中村敦 ,  王勇 ,  辻隆幸

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明是提供感辐射线性树脂组合物，其能使液浸曝光方法所得的图案形状良好，且具有优良解像度及焦点深度充裕性，且对液浸曝光时所接触的折射率液体(浸渍液)的溶出物量较少，可形成在透镜及抗蚀膜之间介由波长193nm的折射率超过1.44但不足1.85的液浸曝光用液体照射辐射线的液浸曝光微影蚀刻法中所使用的抗蚀膜。该感辐射线性树脂组合物含有；含具有内酯结构的重复单元的碱不溶性或碱难溶性但在酸作用下可成为碱易溶性的树脂，及感辐射线性酸发生剂。

公开(公告)号：CN1732408B

公开(公告)日：2010-04-21

申请号：CN200380107753.2

申请日：2003-12-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村功 ,  藤原考一 ,  小林英一 ,  下川努 ,  中村敦 ,  米田英司 ,  王勇

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F4/00

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2006

Abstract: 提供一种辐射敏感性树脂组合物，该辐射敏感性组合物含有由活性自由基聚合得到的含有能电离出酸性基团的树脂和辐射敏感性酸产生剂，该含有能电离出酸性基团的树脂具有通过碱不溶性或碱难溶性酸作用获得碱易溶性的特定构造，上述含有能电离出酸性基团的树脂的重均分子量和数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)小于1.5。

公开(公告)号：CN1288499C

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN03125520.5

申请日：2003-08-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 岛基之 ,  石井宽之 ,  山本将史 ,  松田大一 ,  中村敦

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0397 ,  Y10S430/122

Abstract: 一种辐射线敏感树脂组合物，包含：(A)含有至少两种式(1)-(6)的重复单元的树脂，总量5-70mol%，但每一种的量为1-49mol%，该树脂不溶于或几乎不溶于碱，但在酸的作用下易溶于碱，和(B)光酸发生剂。其中，R1表示氢原子或甲基R2表示具有1-4个碳原子的取代或未取代烷基。该树脂组合物用作化学放大保护层，该保护层对辐射线具有高透射率，感光度，分辨率，抗干蚀刻性以及保护层图案。

公开(公告)号：CN1732408A

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：CN200380107753.2

申请日：2003-12-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村功 ,  藤原考一 ,  小林英一 ,  下川努 ,  中村敦 ,  米田英司 ,  王勇

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F4/00

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2006

Abstract: 提供一种辐射敏感性树脂组合物，该辐射敏感性组合物含有由活性自由基聚合得到的含有能电离出酸性基团的树脂和辐射敏感性酸产生剂，该含有能电离出酸性基团的树脂具有通过碱不溶性或碱难溶性酸作用获得碱易溶性的特定构造，上述含有能电离出酸性基团的树脂的重均分子量和数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)小于1.5。

公开(公告)号：CN1842551A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200480024689.6

申请日：2004-08-04

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 藤原考一 ,  山口宙志 ,  中村敦

IPC: C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/30

CPC classification number: C08F220/30 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明的目的在于提供对抗蚀剂溶剂的溶解性好，烘烤温度依赖性小，并且降低显像后的图案的线边缘粗糙度的抗蚀剂。丙烯酸系聚合物，其特征在于含有式(1)、式(2)、及式(3)和/或式(4)。其中，R、R′、R″与R″′表示氢原子、甲基或三氟甲基，R1表示氢原子、C1－4的直链状或支链状的烷基、烷氧基、或C1－4的直链状或支链状的氟代烷基，X表示C7－20的由碳原子与氢原子构成的多环型脂环式烃基，R2与R3相互独立地表示C1－4的直链状或支链状的烷基，R4表示C4－20的脂环式烃基，R5表示C1－4的直链状或支链状的烷基，R6与R7分别表示氢原子、或C1－4的直链状或支链状的烷基。