公开(公告)号：CN1959541B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200610153964.5

申请日：2006-09-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·V·拉克希默瓦 ,  V·Y·巴尼恩 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒夫 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  A·S·科瓦勒夫 ,  D·V·洛帕夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70933 ,  G21K2201/06

Abstract: 用于清洁光刻装置的元件的方法，例如清洁诸如收集反射镜的光学元件的方法，包括提供含有氮的气体；从至少部分气体产生氮基团，由此形成含有基团的气体；以及向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体。光刻装置包括辐射源和光学元件，以及布置成产生射频放电的放电发生器。

公开(公告)号：CN1959541A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：CN200610153964.5

申请日：2006-09-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·V·拉克希默瓦 ,  V·Y·巴尼恩 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒夫 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  A·S·科瓦勒夫 ,  D·V·洛帕夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70933 ,  G21K2201/06

Abstract: 用于清洁光刻装置的元件的方法，例如清洁诸如收集反射镜的光学元件的方法，包括提供含有氮的气体；从至少部分气体产生氮基团，由此形成含有基团的气体；以及向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体。光刻装置包括辐射源和光学元件，以及布置成产生射频放电的放电发生器。