公开(公告)号：CN103365117A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310268012.8

申请日：2009-12-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·凯姆皮尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  M·瑞鹏 ,  M·W·范登胡威尔 ,  P·P·J·博克文斯 ,  C·德米特森阿尔 ,  J·M·W·范登温凯尔 ,  C·M·诺普斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明公开了一种用于抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和分离储槽，其与所述抽取通道流体连接，并且被配置用于接收来自所述抽取通道的所述两相流体流，其中，所述抽取通道的壁的至少一部分和/或所述分离储槽的壁的至少一部分包括柔性边界部分，所述柔性边界部分被配置以响应于在其上的压力差的变化发生变形，以便减小所述流体抽取系统中的所述两相流体的压力波动。另外，本发明还公开了包括该流体抽取系统的浸没式光刻设备的流体处理系统、浸没式光刻设备以及用于减小浸没式光刻设备中所使用的浸没液体的压力波动的方法。

公开(公告)号：CN101762986A

公开(公告)日：2010-06-30

申请号：CN200910253279.3

申请日：2009-12-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·凯姆皮尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  M·瑞鹏 ,  M·W·范登胡威尔 ,  P·P·J·博克文斯 ,  C·德米特森阿尔 ,  J·M·W·范登温凯尔 ,  C·M·诺普斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明公开了一种流体处理系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备典型地包括流体处理系统。流体处理系统通常包括两相流体抽取系统，其被配置以从给定的位置移除气体和液体的混合物。因为抽取流体包括两相，所以可以改变抽取系统中的压力。这种压力变化可以穿过浸没液体并且导致曝光的错误。为了减小抽取系统中的压力波动，可以使用缓冲腔。这种缓冲腔可以连接至流体抽取系统，以便提供减小压力波动的气体体积体。可替代地或另外地，可以在流体抽取系统中的一些位置上提供柔性壁。柔性壁可以响应于流体抽取系统中的压力变化来改变形状。通过改变形状，柔性壁可以帮助减小或消除压力波动。

公开(公告)号：CN103365117B

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201310268012.8

申请日：2009-12-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·凯姆皮尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  M·瑞鹏 ,  M·W·范登胡威尔 ,  P·P·J·博克文斯 ,  C·德米特森阿尔 ,  J·M·W·范登温凯尔 ,  C·M·诺普斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明公开了一种用于抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和分离储槽，其与所述抽取通道流体连接，并且被配置用于接收来自所述抽取通道的所述两相流体流，其中，所述抽取通道的壁的至少一部分和/或所述分离储槽的壁的至少一部分包括柔性边界部分，所述柔性边界部分被配置以响应于在其上的压力差的变化发生变形，以便减小所述流体抽取系统中的所述两相流体的压力波动。另外，本发明还公开了包括该流体抽取系统的浸没式光刻设备的流体处理系统、浸没式光刻设备以及用于减小浸没式光刻设备中所使用的浸没液体的压力波动的方法。

公开(公告)号：CN101762986B

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN200910253279.3

申请日：2009-12-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·凯姆皮尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  M·瑞鹏 ,  M·W·范登胡威尔 ,  P·P·J·博克文斯 ,  C·德米特森阿尔 ,  J·M·W·范登温凯尔 ,  C·M·诺普斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明公开了一种流体处理系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备典型地包括流体处理系统。流体处理系统通常包括两相流体抽取系统，其被配置以从给定的位置移除气体和液体的混合物。因为抽取流体包括两相，所以可以改变抽取系统中的压力。这种压力变化可以穿过浸没液体并且导致曝光的错误。为了减小抽取系统中的压力波动，可以使用缓冲腔。这种缓冲腔可以连接至流体抽取系统，以便提供减小压力波动的气体体积体。可替代地或另外地，可以在流体抽取系统中的一些位置上提供柔性壁。柔性壁可以响应于流体抽取系统中的压力变化来改变形状。通过改变形状，柔性壁可以帮助减小或消除压力波动。