光记录介质主盘曝光装置及光记录介质主盘曝光方法

    公开(公告)号:CN1324586C

    公开(公告)日:2007-07-04

    申请号:CN200380100142.5

    申请日:2003-10-14

    Inventor: 玉田作哉

    CPC classification number: B82Y10/00 G11B7/126 G11B7/1378 G11B7/1398 G11B7/261

    Abstract: 本发明公开了一种光记录介质主盘曝光装置,包括根据记录信息调制曝光光源(1)发出的光强度的调制组件(3);和聚焦光学系统(9),该系统用于将经由调制组件(3)调制的光聚焦在光记录介质主盘(11)上的光致抗蚀剂(12)上,从而根据记录信息构图曝光光致抗蚀剂(12)。曝光光源(1)由重复频率处于一倍至二十倍于所述记录信息时钟频率范围内的整数倍的超短波脉冲激光器组成。该光记录介质主盘装置包括外同步机构,以改变该超短波脉冲激光器的谐振腔长度,将超短波脉冲激光器的重复频率锁模成与时钟频率同步,使超短波脉冲激光器发射出脉冲,从而高精度地形成微凹坑。

    光记录介质主盘曝光装置及光记录介质主盘曝光方法

    公开(公告)号:CN1685406A

    公开(公告)日:2005-10-19

    申请号:CN200380100142.5

    申请日:2003-10-14

    Inventor: 玉田作哉

    CPC classification number: B82Y10/00 G11B7/126 G11B7/1378 G11B7/1398 G11B7/261

    Abstract: 本发明公开了一种光记录介质主盘曝光装置,包括根据记录信息调制曝光光源(1)发出的光强度的调制组件(3);和聚焦光学系统(9),该系统用于将经由调制组件(3)调制的光聚焦在光记录介质主盘(11)上的光致抗蚀剂(12)上,从而根据记录信息构图曝光光致抗蚀剂(12)。曝光光源(1)由重复频率处于一倍至二十倍于所述记录信息时钟频率范围内的整数倍的超短波脉冲激光器组成。该光记录介质主盘装置包括外同步机构,以改变该超短波脉冲激光器的谐振腔长度,将超短波脉冲激光器的重复频率锁模成与时钟频率同步,使超短波脉冲激光器发射出脉冲,从而高精度地形成微凹坑。

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