离子植入箔片组合件
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111902904A

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:CN201980021860.4

    申请日:2019-02-21

    Abstract: 公开一种包括多个箔层的箔衬垫。所述箔层可各自为堆叠在彼此顶部的导电材料。相邻箔层之间的间隔可生成热梯度,使得等离子体的温度比离子源室的温度热。在其他实施例中,可组装箔层以吸收来自等离子体的热量,使得等离子体比离子源室的温度冷。在一些实施例中,在一个或多个箔层上设置间隙或突起以影响热梯度。在某些实施例中,一个或多个箔层可由绝缘材料构成以进一步影响热梯度。箔衬垫可易于在离子源室内组装、安装及更换。

    离子源及箔衬垫
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111902904B

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN201980021860.4

    申请日:2019-02-21

    Abstract: 公开一种包括多个箔层的箔衬垫及离子源。所述箔层可各自为堆叠在彼此顶部的导电材料。相邻箔层之间的间隔可生成热梯度,使得等离子体的温度比离子源室的温度热。在其他实施例中,可组装箔层以吸收来自等离子体的热量,使得等离子体比离子源室的温度冷。在一些实施例中,在一个或多个箔层上设置间隙或突起以影响热梯度。在某些实施例中,一个或多个箔层可由绝缘材料构成以进一步影响热梯度。箔衬垫可易于在离子源室内组装、安装及更换。

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