Patent search ap:("株式会社LG化学") AND inv:"裵南锡" Page 1

1.

发明公开
氧化铝组合物、包含该组合物的基板以及该基板的制造方法有权

公开(公告)号：CN107073899A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580056186.5

申请日：2015-08-11

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李东炫 , 李承宪 , 成知玹 , 金姝延 , 金萨拉 , 李贞沇 , 裵南锡

IPC: B32B15/20 , B32B15/01 , B32B15/04 , B32B9/00

CPC classification number: B32B15/20 , B32B15/02 , B32B9/00 , B32B15/016 , B32B15/04

Abstract: 本发明提供一种包含氧和铝的氧化铝组合物，其中，基于整个氧化铝组合物的总原子，所包含的氧的量为40原子比例至70原子比例，所包含的铝的量为30原子比例至60原子比例。

2.

发明授权
氧化铝组合物、包含该组合物的基板以及该基板的制造方法有权

公开(公告)号：CN107073899B

公开(公告)日：2019-06-28

申请号：CN201580056186.5

申请日：2015-08-11

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李东炫 , 李承宪 , 成知玹 , 金姝延 , 金萨拉 , 李贞沇 , 裵南锡

IPC: B32B15/20 , B32B15/01 , B32B15/04 , B32B9/00

CPC classification number: B32B15/20 , B32B15/02

Abstract: 本发明提供一种包含氧和铝的氧化铝组合物，其中，基于整个氧化铝组合物的总原子，所包含的氧的量为40原子比例至70原子比例，所包含的铝的量为30原子比例至60原子比例。

3.

发明公开
膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案有权

公开(公告)号：CN108351604A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201780003800.0

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 , 徐汉珉 , 韩尚澈 , 李承宪 , 吴东炫 , 徐大韩 , 裵南锡 , 宋民守

IPC: G03F7/20 , H01L21/033

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模；该膜掩模的制备方法；使用该膜掩模的图案形成方法；以及由该膜掩模制备的图案，所述膜掩模包括：透明基板、设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层、以及在未设置暗化光屏蔽图案层的区域中设置的凹槽部。

4.

发明授权
膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案有权

公开(公告)号：CN108351605B

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN201780003811.9

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 , 徐汉珉 , 裵南锡 , 李承宪 , 吴东炫 , 柳正善

IPC: G03F7/20 , H01L21/033 , G03F7/004 , G03F7/26

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模、该膜掩模的制备方法、使用所述膜掩模的图案形成方法、以及使用所述膜掩模形成的图案，所述膜掩模包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及在所述透明基板的设置有暗化光屏蔽图案层的表面上设置的浮凸图案部。

5.

发明授权
膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案有权

公开(公告)号：CN108351604B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201780003800.0

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 , 徐汉珉 , 韩尚澈 , 李承宪 , 吴东炫 , 徐大韩 , 裵南锡 , 宋民守

IPC: G03F7/20 , H01L21/033

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模；该膜掩模的制备方法；使用该膜掩模的图案形成方法；以及由该膜掩模制备的图案，所述膜掩模包括：透明基板、设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层、以及在未设置暗化光屏蔽图案层的区域中设置的凹槽部。

6.

发明公开
膜掩模、其制备方法和使用膜掩模的图案形成方法无效

公开(公告)号：CN108351603A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201780003799.1

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 , 徐汉珉 , 裵南锡 , 李承宪 , 吴东炫 , 朴赞亨 , 金起焕 , 李一翻

IPC: G03F7/20 , H01L21/033

CPC classification number: G03F7/20 , H01L21/033

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模、该膜掩模的制备方法和使用该膜掩模的图案形成方法，所述膜掩模包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及设置在所述暗化光屏蔽图案层上的表面能为30达因/cm以下的剥离力增强层。

7.

发明授权
用于压印的光掩膜及其制造方法有权

公开(公告)号：CN111771161B

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN201980015600.6

申请日：2019-04-02

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 孙镛久 , 李承宪 , 裵南锡

IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/16

Abstract: 根据本申请的一个示例性实施方案的压印光掩模包括：透明基底；设置在透明基底上的光阻挡图案；和设置在光阻挡图案上的干膜抗蚀剂(DFR)图案。

8.

发明公开
用于压印的光掩膜及其制造方法有权

公开(公告)号：CN111771161A

公开(公告)日：2020-10-13

申请号：CN201980015600.6

申请日：2019-04-02

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 孙镛久 , 李承宪 , 裵南锡

IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/16

Abstract: 根据本申请的一个示例性实施方案的压印光掩模包括：透明基底；设置在透明基底上的光阻挡图案；和设置在光阻挡图案上的干膜抗蚀剂(DFR)图案。

9.

发明公开
膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案有权

公开(公告)号：CN108351605A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201780003811.9

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 , 徐汉珉 , 裵南锡 , 李承宪 , 吴东炫 , 柳正善

IPC: G03F7/20 , H01L21/033 , G03F7/004 , G03F7/26

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模、该膜掩模的制备方法、使用所述膜掩模的图案形成方法、以及使用所述膜掩模形成的图案，所述膜掩模包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及在所述透明基板的设置有暗化光屏蔽图案层的表面上设置的浮凸图案部。

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